RU2013146419A - Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади - Google Patents
Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади Download PDFInfo
- Publication number
- RU2013146419A RU2013146419A RU2013146419/28A RU2013146419A RU2013146419A RU 2013146419 A RU2013146419 A RU 2013146419A RU 2013146419/28 A RU2013146419/28 A RU 2013146419/28A RU 2013146419 A RU2013146419 A RU 2013146419A RU 2013146419 A RU2013146419 A RU 2013146419A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- beams
- interference
- dimensional
- coherent
- plane
- Prior art date
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
1. Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади, включающий в себя формирование трех когерентных пучков света и получение их двумерно-периодической картины интерференции в поле стоячей волны на светочувствительном образце, отличающийся тем, что первые два когерентных пучка формируют в одной плоскости падения, а третий пучок формируют в плоскости, перпендикулярной первой, при этом интенсивности первых двух пучков выбирают одинаковыми, а интенсивность третьего пучка выбирают в два раза больше, чем интенсивность первого пучка.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для создания двумерно-периодической картины интерференции с высокой стабильностью периодов и без дефектов используют интерференцию трех когерентных пучков с плоскими волновыми фронтами.3. Способ по п.1, отличающийся тем, что при разделении исходного лазерного излучения на три когерентных пучка используют четное количество отражений для каждого из пучков, например два.4. Способ по п.1, отличающийся тем, что поляризации пучков выбирают в зависимости от их углов падения на поверхность светочувствительного образца.5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что для создания двумерно-периодической картины интерференции используют одну экспозицию.
Claims (5)
1. Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади, включающий в себя формирование трех когерентных пучков света и получение их двумерно-периодической картины интерференции в поле стоячей волны на светочувствительном образце, отличающийся тем, что первые два когерентных пучка формируют в одной плоскости падения, а третий пучок формируют в плоскости, перпендикулярной первой, при этом интенсивности первых двух пучков выбирают одинаковыми, а интенсивность третьего пучка выбирают в два раза больше, чем интенсивность первого пучка.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для создания двумерно-периодической картины интерференции с высокой стабильностью периодов и без дефектов используют интерференцию трех когерентных пучков с плоскими волновыми фронтами.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что при разделении исходного лазерного излучения на три когерентных пучка используют четное количество отражений для каждого из пучков, например два.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что поляризации пучков выбирают в зависимости от их углов падения на поверхность светочувствительного образца.
5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что для создания двумерно-периодической картины интерференции используют одну экспозицию.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2013146419/28A RU2548943C1 (ru) | 2013-10-18 | 2013-10-18 | Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2013146419/28A RU2548943C1 (ru) | 2013-10-18 | 2013-10-18 | Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2548943C1 RU2548943C1 (ru) | 2015-04-20 |
| RU2013146419A true RU2013146419A (ru) | 2015-04-27 |
Family
ID=53282913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2013146419/28A RU2548943C1 (ru) | 2013-10-18 | 2013-10-18 | Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2548943C1 (ru) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5759744A (en) * | 1995-02-24 | 1998-06-02 | University Of New Mexico | Methods and apparatus for lithography of sparse arrays of sub-micrometer features |
| US6556280B1 (en) * | 2000-09-19 | 2003-04-29 | Optical Switch Corporation | Period reconfiguration and closed loop calibration of an interference lithography patterning system and method of operation |
| TWI413868B (zh) * | 2007-06-12 | 2013-11-01 | Ind Tech Res Inst | 製作週期性圖案的步進排列式干涉微影方法及其裝置 |
| RU2438153C1 (ru) * | 2010-07-15 | 2011-12-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА") | Устройство экспонирования при формировании наноразмерных структур и способ формирования наноразмерных структур |
-
2013
- 2013-10-18 RU RU2013146419/28A patent/RU2548943C1/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2548943C1 (ru) | 2015-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Monchocé et al. | Optically controlled solid-density transient plasma gratings | |
| WO2013048781A3 (en) | Laser micromachining optical elements in a substrate | |
| JP2017506531A5 (ru) | ||
| CN103706947B (zh) | 一种周期形貌可调谐的微纳米结构表面大面积制备方法及加工系统 | |
| RU2016117402A (ru) | Способ получения изображения образца | |
| RU2014101983A (ru) | Структура, структурирующий способ и структурирующее устройство | |
| EA201690770A1 (ru) | Модульное лазерное устройство | |
| JP2014178314A5 (ru) | ||
| SG11201807220XA (en) | Pattern structure and exposure method of patterned sapphire substrate mask | |
| JP2013048235A5 (ru) | ||
| WO2014128010A8 (en) | Euv light source for generating a used output beam for a projection exposure apparatus | |
| RU2013146419A (ru) | Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади | |
| JP2016085355A5 (ru) | ||
| WO2015124457A8 (en) | Lithographic apparatus and method | |
| JP2007235117A5 (ru) | ||
| Alves et al. | Effect of the spatial coherence length on the self-reconfiguration of a speckle field | |
| TW201518019A (zh) | 雷射製造週期性微結構設備及方法 | |
| JP2014238319A5 (ja) | 電磁波装置 | |
| RU2013106340A (ru) | Способ формирования периодических интерференционных картин и перестраиваемый двухлучевой интерферометр | |
| JP2008112985A5 (ru) | ||
| RU2015121802A (ru) | Способ юстировки кольцевых резонаторов лазерных гироскопов | |
| RU2014149023A (ru) | Способ обнаружения шторма в океане со спутника | |
| Momoo et al. | Generation of new nanostructures in designed matrix by interfering femtosecond laser processing | |
| RU2013126064A (ru) | Способ нанесения маркировки внутри изделия | |
| Ganzherli et al. | Formation of optical scatterers on silver halide photomaterials using multiplex holograms |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20151019 |