RU2548943C1 - Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади - Google Patents

Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади Download PDF

Info

Publication number
RU2548943C1
RU2548943C1 RU2013146419/28A RU2013146419A RU2548943C1 RU 2548943 C1 RU2548943 C1 RU 2548943C1 RU 2013146419/28 A RU2013146419/28 A RU 2013146419/28A RU 2013146419 A RU2013146419 A RU 2013146419A RU 2548943 C1 RU2548943 C1 RU 2548943C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
beams
interference
coherent
dimensional periodic
plane
Prior art date
Application number
RU2013146419/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2013146419A (ru
Inventor
Юрий Константинович Веревкин
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт прикладной физики РАН
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт прикладной физики РАН filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт прикладной физики РАН
Priority to RU2013146419/28A priority Critical patent/RU2548943C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2548943C1 publication Critical patent/RU2548943C1/ru
Publication of RU2013146419A publication Critical patent/RU2013146419A/ru

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

Использование: для изготовления рельефных поверхностей. Сущность изобретения заключается в том, что фотолитографический интерференционный способ включает в себя формирование трех когерентных пучков света и получение их двумерно-периодической картины интерференции, первые два когерентных пучка формируют в одной плоскости падения, а третий пучок формируют в плоскости, перпендикулярной первой, интенсивность первых двух пучков одинаковая, а интенсивность третьего пучка в два раза больше, чем интенсивность первого пучка. Технический результат: обеспечение возможности получения бездефектных наноразмерных двумерно-периодических структур. 4 з.п. ф-лы, 4 ил.

Description

Изобретение относится к способам экспонирования при фотолитографическом изготовлении рельефных поверхностей и может быть использовано для создания хорошо позиционированных элементов для полупроводниковой техники, образцовых структур для нанометрологии, фильтрации, кодирования и преобразования оптических сигналов, текстурирования материалов для солнечных элементов, повышения эффективности фотокаталитических процессов и др.
В последние годы наблюдается увеличение интереса к фотолитографическим интерференционным технологиям создания наноразмерных периодических структур на большой площади [1-4]. Это связано с различными областями применений таких структур в дисплеях, гибких электронных устройствах, солнечных батареях, спектроскопии астрономических объектов и др. Надо отметить, что в большинстве исследований в этом направлении не уделяется внимания возможному появлению дефектов, например нарушению периодичности изготовленных рельефных структур. Наличие дефектов особенно нежелательно при производстве хорошо позиционированных наноразмерных элементов для электронных устройств.
Известны интерференционные фотолитографические способы создания наноразмерных периодических структур на большой поверхности (см., например, заявка на патент США US 2010/0216075 A1, публ. 26.08.2010 и патенты США US 6556280, публ. 29.04.2003, US 5759744, публ. 02.06.1998). Для решения этой задачи в техническом решении по заявке US 2010/0216075 МПК G03F 7/20 (2006.01) используют особое перемещение образца, на котором требуется получить наноразмерную периодическую структуру, с высокой точностью, а для создания двумерных структур используют две экспозиции с прецизионным поворотом подложки на угол 90°.
В технических решениях по патентам US 6556280 и US 5759744 для решения той же задачи используют интерференцию четырех или трех расходящихся когерентных лазерных пучков. Использование расходящихся пучков приводит к изменению периода изготавливаемой структуры в пространстве, что совсем не обсуждают авторы. Во всех упомянутых способах аналогах для экспозиции используют излучение непрерывных лазеров, что приводит к большим временам экспозиции и необходимости сложной вибро- и термостабилизации. При использовании интерференции четырех пучков в этих патентах не обсуждаются вопросы необходимой точности настройки углов падения для создания структур без дефектов, как это показано в работах [5-7].
При использовании для интерференции четырех пучков стоячая волна излучения описывается шестью пространственными частотами, которые получаются из всех возможных вариантов разницы волновых векторов k n k m
Figure 00000001
. В общем случае шесть пространственных частот дают сложную картину биений. (Типичная картина биений в поле стоячей волны при интерференции четырех пучков показана на фиг.4). Для того чтобы картина интерференции стала строго пространственно периодической, необходимо обеспечить равенство углов падения для лучей, расположенных в одной плоскости падения. Это равенство необходимо обеспечить с точностью ~λ/d. При выполнении условия равенства углов падения остаются только три пространственных частоты.
Теоретические и экспериментальные исследования, приведенные в работах [5-7], показывают, что при интерференции четырех пучков возникают дефекты в периодической структуре в виде биений нескольких близких пространственных частот. Для того чтобы этих дефектов не было, на всем поперечном размере d интерферирующих пучков необходимо выполнить равенство углов падения с точностью ~λ/d. Обеспечить такую точность для d>1 см практически невозможно [7].
При использовании для интерференции трех когерентных пучков дефекты, вызванные биениями нескольких близких пространственных частот, отсутствуют. Три интерферирующих пучка обычно располагают симметрично относительно нормали к поверхности регистрации (под углом 120° друг к другу), как в техническом решении по патенту США US 6556280 (фиг.4a), МПК G03F 7/20, который выбран в качестве прототипа. В прототипе, как один из вариантов, рассматривается способ получения наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном материале на основе интерференции трех когерентных пучков, формируемых с использованием одномодовых оптических волокон (см. фиг.7b в том же патенте). Использование оптических волокон для организации условий интерференции позволяет в прототипе упростить процесс автоматической настройки оптической схемы.
Недостатком способа прототипа является то, что использование симметричной схемы падения трех когерентных пучков на поверхность образца не при всех возможных углах падения позволяет выбрать требуемые плоскости поляризации пучков и это обуславливает уменьшение контраста в стоячей волне [9], что приводит к искажениям в создаваемых наноразмерных двумерно-периодических структурах. Это неприемлемо при изготовлении высокоразрешающих спектральных устройств и точно позиционированных наноразмерных элементов для полупроводниковой электроники.
Задачей, решаемой настоящим изобретением, является получение бездефектных наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном материале произвольной (большой) площади при интерференции трех когерентных пучков света.
Технический результат в предлагаемом изобретении достигается за счет того, что в разработанном способе, так же как в известном фотолитографическом интерференционном способе создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади, выбранном в качестве прототипа, формируют три когерентных пучка света, направляют их на выбранный участок светочувствительного образца и получают их двумерно-периодическую картину интерференции в поле стоячей волны на светочувствительном образце.
Новым в предлагаемом изобретении является то, что первые два когерентных пучка света формируют в одной плоскости падения, а третий пучок формируют в плоскости, перпендикулярной первой, при этом интенсивности первых двух пучков выбирают одинаковыми, а интенсивность третьего пучка выбирают в два раза больше, чем интенсивность первого пучка.
Как установлено автором, такое формирование интерферирующих пучков обеспечивает близкие направления поляризации всех трех пучков, и как следствие, максимальный контраст интерференционной картины в поле стоячей волны, что позволяет получить на светочувствительном образце двумерно-периодическую структуру без дефектов.
В первом частном случае реализации предлагаемого способа для создания двумерно-периодической картины интерференции с высокой стабильностью периодов целесообразно использовать интерференцию трех когерентных пучков с плоскими волновыми фронтами.
Во втором частном случае реализации предлагаемого способа целесообразно при разделении исходного лазерного излучения на три когерентных пучка использовать четное количество отражений для каждого из когерентных пучков, например два отражения или четыре.
В третьем частном случае реализации предлагаемого способа целесообразно поляризации пучков выбирать в зависимости от их углов падения на плоскость светочувствительного материала.
В четвертом частном случае реализации предлагаемого способа целесообразно для создания двумерно-периодической картины интерференции использовать одну экспозицию.
Изобретение поясняется чертежами.
На фиг.1 представлена предложенная схема несимметричного расположения трех пучков света относительно нормали к образцу со светочувствительным материалом.
На фиг.2 представлена упрощенная схема осуществления предлагаемого способа, а именно схема разделения исходного лазерного излучения на три когерентных пучка и сведения их для интерференции на светочувствительном образце, позволяющая производить наилучший выбор поляризации когерентных пучков.
На фиг.3 представлено изображение с атомно-силового микроскопа участка на поверхности образца арсенида галлия GaAs после воздействия трех когерентных пучков УФ излучения при несимметричном расположении пучков относительно нормали к упомянутому образцу.
На фиг.4 представлено изображение с атомно-силового микроскопа участка на поверхности образца GaAs после воздействия четырех когерентных пучков УФ излучения при недостаточно точной настройке углов падения пучков.
При использовании для интерференции трех когерентных пучков стоячая волна изначально описывается тремя пространственными частотами, которые в пространстве определяются тремя комбинациями волновых векторов k 1 k 2
Figure 00000002
, k 2 k 3
Figure 00000003
, k 3 k 1
Figure 00000004
. Теоретически эти комбинации возникают при расчете совместной интенсивности трех интерферирующих когерентных пучков ( E 1 + E 2 + E 3 ) ( E 1 + E 2 + E 3 ) *
Figure 00000005
(знак * означает комплексное сопряжение).
Для того чтобы обеспечить наилучшие условия для интерференции трех когерентных пучков и прямоугольную симметрию картины интерференции автором предложено использовать несимметричную схему расположения трех пучков относительно нормали к светочувствительному образцу, как показано на фиг.1. В плоскости (x-y) установлен образец 4 из светочувствительного материала, на котором необходимо изготовить двумерно-периодическую наноструктуру. Оси пучков 1 и 2 располагаются в плоскости z-y, а ось пучка 3 находится в плоскости z-x. Плоскости поляризации пучков выбираются в зависимости от углов падения. Если углы падения менее 60°, то пучки 1 и 2 поляризованы перпендикулярно плоскости z-y, пучок 3 поляризован в плоскости z-x. При углах падения более 60° все лучи поляризованы в своих плоскостях падения.
На фиг.2 представлена упрощенная схема осуществления предлагаемого способа, а именно показан вариант разделения исходного лазерного пучка на три когерентных пучка 1, 2, 3 и сведения их для интерференции на светочувствительном образце 4.
Диэлектрические зеркала 5 и 10 имеют коэффициент отражения ~50%, зеркала 6-9 и 11-13 имеют коэффициент отражения ~99%. Использование зеркал 6, 7 позволяет выбрать оптимальную плоскость поляризации третьего пучка 3.
С помощью устройства, представленного на фиг.2, разработанный способ реализуют следующим образом.
Для получения трех когерентных пучков света исходный лазерный пучок направляют на систему из девяти зеркал, представленную на фиг.2. Первые два 1-й и 2-й когерентные пучки формируют в одной плоскости падения, например z-y (см. фиг.1), при этом поляризации этих пучков параллельны плоскости z-x. Третий пучок формируют в плоскости, перпендикулярной первой, то есть в z-x, при этом поляризация этого пучка зеркалами 6 и 7 также выбирается в плоскости z-x, что позволяет, в отличие от способа прототипа, избавиться от присутствия компоненты бегущей волны и получить устойчивую контрастную структуру стоячей волны на светочувствительном образце 4. Как установлено автором, для получения высокого контраста в двумерной стоячей волне по данной схеме необходимо сделать интенсивности первого и второго лучей одинаковыми, а интенсивность третьего луча выбрать в два раза больше. Таким образом, использование предложенной схемы интерференции обеспечивает создание хорошо позиционированных двумерно-периодических структур (см. фиг.3), то есть позволяет решить поставленную задачу.
В первом частном случае реализации предлагаемого способа для создания двумерно-периодической картины интерференции с высокой стабильностью периодов используют интерференцию трех когерентных пучков с плоскими волновыми фронтами, то есть пучки с дифракционным качеством расходимости Δψ~λ/d. При использовании, как в прототипе, расходящихся пучков происходит линейное и квадратичное изменение (см. фиг.4) в пространстве периодов стоячей волны, то есть появляются дефекты в периодичности изготовленных рельефных структур [8].
Во втором частном случае реализации предлагаемого способа для дополнительной компенсации возможных фазовых искажений в пучке используют четное количество отражений для каждого из трех когерентных пучков, например два или четыре отражения от плоских зеркал.
В третьем частном случае реализации предлагаемого способа для повышения эффективности интерференции выбирают поляризации пучков в зависимости от их углов падения на плоскость светочувствительного образца.
В четвертом частном случае для создания на большой площади двумерно-периодической структуры в виде наноразмерных бугорков или ямок на фоне плоской поверхности образца используют одну экспозицию.
Таким образом, в разработанном фотолитографическом интерференционном способе для создания наноразмерных двумерно-периодических структур без дефектов предлагается использовать интерференцию трех несимметрично расположенных пучков когерентного излучения с плоскими волновыми фронтами и с соотношением между интенсивностями пучков: 1:1:2.
Литература
1. Design and analysis of a scanning beam interference lithography system for patterning gratings with nanometer-level distortions. Paul Thomas Konkola. MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY, June 2003.
2. Some application cases and related manufacturing technigues for optical functional micro-structures on large areas. A. Gombert and others, Opt. Eng. 43(11), 2525-2533, 2004.
3. METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING PERIODIC PATTERNS BY STEP-AND-ALIGN INTERFERENCE LITHOGRAPHY, United States Patent Application 20100216075, August 26, 2010.
4. Methods and apparatus for lithography of sparse arrays of sub-micrometer features United States Patent 5759744, June 2, 1998.
5. Line defects in two-dimensional four-beam interference patters. C. Tan, C.S. Peng, V.N. Petryakov, Yu.K. Verevkin. J. Zhang, Z. Wang, S.M. Olaizola, T. Berthou, S. Tisserand, M. Pessa, New Journal of Physics, 10, 2008, 023023.
6. Когерентное воздействие на поверхность четырех пучков излучения XeCl-лазера. В.И. Бредихин, Ю.К. Веревкин, Э.Я. Дауме, С.П. Кузнецов, О.А. Мальшакова, В.Н. Петряков, Н.В. Востоков, Н.И. Полушкин, Квантовая электроника, том 30(4), с.333-336, 2000.
7. Effects of phase shifts on four-beam interference patterns. Andres Fernandez, Don W. Pfillion, Appl. Opt. vol.37, No.3, pp.473-478. 1998.
8. Analysis and creation of chirped gratings with interference of two laser beams, Yu.K. Verevkin, E.Ya. Daume, V.N. Petryakov, A.Yu. Klimov, B.A. Gribkov, Yu.Yu. Gushchina, J. Opt. A. Pure Appl. Opt.9 (7), pp.568-572, (2007).
9. Three-beam-interference lithography: Contrast and crystallography. Stay, J.L.; Gaylord, Т.К. Appl. Opt. 2008, 47, 3221-3230.

Claims (5)

1. Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади, включающий в себя формирование трех когерентных пучков света и получение их двумерно-периодической картины интерференции в поле стоячей волны на светочувствительном образце, отличающийся тем, что первые два когерентных пучка формируют в одной плоскости падения, а третий пучок формируют в плоскости, перпендикулярной первой, при этом интенсивности первых двух пучков выбирают одинаковыми, а интенсивность третьего пучка выбирают в два раза больше, чем интенсивность первого пучка.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для создания двумерно-периодической картины интерференции с высокой стабильностью периодов и без дефектов используют интерференцию трех когерентных пучков с плоскими волновыми фронтами.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что при разделении исходного лазерного излучения на три когерентных пучка используют четное количество отражений для каждого из пучков, например два.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что поляризации пучков выбирают в зависимости от их углов падения на поверхность светочувствительного образца.
5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что для создания двумерно-периодической картины интерференции используют одну экспозицию.
RU2013146419/28A 2013-10-18 2013-10-18 Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади RU2548943C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013146419/28A RU2548943C1 (ru) 2013-10-18 2013-10-18 Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013146419/28A RU2548943C1 (ru) 2013-10-18 2013-10-18 Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2548943C1 true RU2548943C1 (ru) 2015-04-20
RU2013146419A RU2013146419A (ru) 2015-04-27

Family

ID=53282913

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013146419/28A RU2548943C1 (ru) 2013-10-18 2013-10-18 Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2548943C1 (ru)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5759744A (en) * 1995-02-24 1998-06-02 University Of New Mexico Methods and apparatus for lithography of sparse arrays of sub-micrometer features
US6556280B1 (en) * 2000-09-19 2003-04-29 Optical Switch Corporation Period reconfiguration and closed loop calibration of an interference lithography patterning system and method of operation
US20100216075A1 (en) * 2007-06-12 2010-08-26 Lon Wang Method and apparatus for generating periodic patterns by step-and-align interference lithography
RU2438153C1 (ru) * 2010-07-15 2011-12-27 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА") Устройство экспонирования при формировании наноразмерных структур и способ формирования наноразмерных структур

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5759744A (en) * 1995-02-24 1998-06-02 University Of New Mexico Methods and apparatus for lithography of sparse arrays of sub-micrometer features
US6556280B1 (en) * 2000-09-19 2003-04-29 Optical Switch Corporation Period reconfiguration and closed loop calibration of an interference lithography patterning system and method of operation
US20100216075A1 (en) * 2007-06-12 2010-08-26 Lon Wang Method and apparatus for generating periodic patterns by step-and-align interference lithography
RU2438153C1 (ru) * 2010-07-15 2011-12-27 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА") Устройство экспонирования при формировании наноразмерных структур и способ формирования наноразмерных структур

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Three-beam-interference lithography: contrast and crystallography//Stay J.L., Gaylord T.K.//Appl. opt., 2008, #47, p.3221-3230 *

Also Published As

Publication number Publication date
RU2013146419A (ru) 2015-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8848273B2 (en) Amplitude, phase and polarization plate for photonics
Remnev et al. Metasurfaces: a new look at Maxwell’s equations and new ways to control light
Ates et al. Bright single-photon emission from a quantum dot in a circular Bragg grating microcavity
CN101566793A (zh) 用于制备二维光子晶体的双光束全息干涉多次曝光方法
WO2002052305A2 (en) Space-variant subwavelength polarization grating and applications thereof
KR20200071590A (ko) 회절 광학 소자, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 광학 장치
Punegov High-resolution X-ray diffraction in crystalline structures with quantum dots
CN110927993B (zh) 基于全介质超表面结构的退偏器
Wang et al. Fabrication of high-resolution large-area patterns using EUV interference lithography in a scan-exposure mode
CN102798930A (zh) 基于全息干涉术的光子晶体制造装置
Lin et al. Fabrication and characterization of short-period double-layer cross-grating with holographic lithography
CN105700073B (zh) 一种表面等离激元单向耦合和分束器件及制备方法
HU231027B1 (hu) Komplex mikrostruktúrák készítésére szolgáló új litográfiás eljárás a spektrummódosítás lehetőségével
RU2548943C1 (ru) Фотолитографический интерференционный способ создания наноразмерных двумерно-периодических структур на светочувствительном образце произвольной площади
CN111596402B (zh) 一种基于超构表面的多偏振态产生器
KR20180048969A (ko) 빔 분할 장치
Romanov Light diffraction features in an ordered monolayer of spheres
JP4646126B2 (ja) 回折光学素子を用いたフォトニック結晶作製方法
Kostyukov et al. Ring of bound states in the continuum in the reciprocal space of a monolayer of high-contrast dielectric spheres
Sidharthan et al. Nano-scale patterning using pyramidal prism based wavefront interference lithography
George et al. Fabrication of 4, 5, or 6-fold symmetric 3D photonic structures using single beam and single reflective optical element based holographic lithography
US20040027670A1 (en) Space-variant subwavelength polarization grating and applications thereof
CN109298483B (zh) 一种基于全息光刻技术制备手性Woodpile光子晶体的方法
Sergeev et al. Diffraction structures formed by two crossed superimposed diffraction gratings
Inose et al. Randomness dependence and generation mechanism of stimulated emission in regularly arranged InGaN/GaN nanocolumns

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20151019