RU2012116583A - Вращающаяся полировальная подушка - Google Patents

Вращающаяся полировальная подушка Download PDF

Info

Publication number
RU2012116583A
RU2012116583A RU2012116583/02A RU2012116583A RU2012116583A RU 2012116583 A RU2012116583 A RU 2012116583A RU 2012116583/02 A RU2012116583/02 A RU 2012116583/02A RU 2012116583 A RU2012116583 A RU 2012116583A RU 2012116583 A RU2012116583 A RU 2012116583A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
polishing pad
recesses
pad according
average
depressions
Prior art date
Application number
RU2012116583/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Григори А. КОЕНЛЕ
Скотт Р. КУЛЛЕР
Брант А. МОЕГЕНБУРГ
Шоен А. ШУКНЕХТ
Эдвард Дж. ВУ
Original Assignee
3М Инновейтив Пропертиз Компани
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3М Инновейтив Пропертиз Компани filed Critical 3М Инновейтив Пропертиз Компани
Publication of RU2012116583A publication Critical patent/RU2012116583A/ru

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/11Lapping tools
    • B24B37/20Lapping pads for working plane surfaces
    • B24B37/26Lapping pads for working plane surfaces characterised by the shape of the lapping pad surface, e.g. grooved

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

1. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, перпендикулярную к лицевой и задней поверхностям, основа, кроме того, содержит:внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;наружную часть, окружающую внутреннюю часть;множество первых углублений, имеющих первый средний размер, расположенных на внутренней части и направленных от лицевой поверхности к задней, имножество вторых углублений, имеющих второй средний размер, расположенных на наружной части и направленных от лицевой поверхности к задней, где первый средний размер больше, чем второй средний размер.2. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, перпендикулярную к лицевой и задней поверхностям, основа, в свою очередь, содержит:внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;наружную часть, окружающую внутреннюю часть;множество первых углублений, имеющих первую среднюю концентрацию, расположенных на внутренней части и направленных от лицевой поверхности к задней, имножество вторых углублений, имеющих вторую среднюю концентрацию, расположенных на наружной части и направленных от лицевой поверхности к задней, где первая средняя концентрация углублений больше, чем вторая средняя концентрация углублений.3. Полировальная �

Claims (21)

1. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:
основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, перпендикулярную к лицевой и задней поверхностям, основа, кроме того, содержит:
внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;
наружную часть, окружающую внутреннюю часть;
множество первых углублений, имеющих первый средний размер, расположенных на внутренней части и направленных от лицевой поверхности к задней, и
множество вторых углублений, имеющих второй средний размер, расположенных на наружной части и направленных от лицевой поверхности к задней, где первый средний размер больше, чем второй средний размер.
2. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:
основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, перпендикулярную к лицевой и задней поверхностям, основа, в свою очередь, содержит:
внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;
наружную часть, окружающую внутреннюю часть;
множество первых углублений, имеющих первую среднюю концентрацию, расположенных на внутренней части и направленных от лицевой поверхности к задней, и
множество вторых углублений, имеющих вторую среднюю концентрацию, расположенных на наружной части и направленных от лицевой поверхности к задней, где первая средняя концентрация углублений больше, чем вторая средняя концентрация углублений.
3. Полировальная подушка по п.2, отличающаяся тем, что первая концентрация углублений лежит в диапазоне от 1,5 до 5,0 на кв. сантиметр, а вторая концентрация углублений лежит в диапазоне от 0,8 до 1,5 на кв. сантиметр.
4. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество вторых углублений содержит первое подмножество вторых углублений, образованное несколькими повторяющимися многоугольными формациями, расположенными на расстоянии друг от друга.
5. Полировальная подушка по п.4, отличающаяся тем, что многоугольные формации являются шестиугольными формациями.
6. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество первых углублений имеет первую среднюю глубину, а множество вторых углублений имеет вторую среднюю глубину, которая меньше первой средней глубины.
7. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество первых углублений имеет первый средний диаметр, а множество вторых углублений имеет второй средний диаметр, который меньше первого среднего диаметра.
8. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество первых углублений занимает первый средний объем, а множество вторых углублений занимает второй средний объем, который меньше первого среднего объема.
9. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что внутренняя часть имеет диаметр, составляющий от 20 до 40 процентов основы.
10. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что внутренняя часть занимает площадь, составляющую от 4 до 16 процентов общей площади лицевой поверхности.
11. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что углубления, в целом, имеют круглую форму.
12. Полировальная подушка по п.1 или 2, содержащая дополнительно защитный слой, проходящий вдоль, по меньшей мере, части задней поверхности и имеющий модуль упругости, который больше модуля упругости основы.
13. Полировальная подушка по п.13, отличающаяся тем, что защитный слой содержит волокнистый материал, упрощающий соединение с механическим инструментом, имеющим поверхность для крепления «липучка».
14. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество первых углублений включает в себя все углубления, присутствующие на внутренней части.
15. Полировальная подушка по п.15, отличающаяся тем, что множество вторых углублений включает в себя все углубления, присутствующие на наружной части.
16. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что наружная часть содержит дополнительно, по меньшей мере, один кольцевой участок, и отличающаяся тем, что множество вторых углублений дополнительно содержит второе подмножество вторых углублений, расположенных, по меньшей мере, на одном кольцевом участке; второе подмножество простирается от лицевой поверхности в направлении задней поверхности и располагается, по меньшей мере, вдоль одного кругового кольца, каждое круговое кольцо лежит в одной плоскости с лицевой поверхностью и симметрично, в целом, относительно оси вращения.
17. Полировальная подушка по п.17, отличающаяся тем, что второе подмножество вторых углублений имеет определенный диаметр и определенный шаг между соседними углублениями, а отношение между определенным диаметром и определенным шагом составляет, по меньшей мере, 0,2.
18. Полировальная подушка по п.18, отличающаяся тем, что отношение между определенным диаметром и определенным шагом составляет, по меньшей мере, 0,3.
19. Полировальная подушка по п.19, отличающаяся тем, что отношение между определенным диаметром и определенным шагом составляет, по меньшей мере, 0,35.
20. Полировальная подушка по п.17, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один кольцевой участок включает в себя два или более кольцевых участка и, по меньшей мере, одно круговое кольцо содержит два или более круговых кольца, располагающихся внутри соответствующих кольцевых участков и концентричных относительно друг друга.
21. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:
основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, ось вращения перпендикулярна к лицевой и задней поверхностям, основа, кроме того, содержит:
внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;
наружную часть, окружающую внутреннюю часть и множество углублений, направленных от лицевой поверхности к задней, где углубления имеют различные размеры, причем углубления, имеющие относительно больший размер, располагаются, относительно наружной части, преимущественно во внутренней части.
RU2012116583/02A 2009-11-12 2010-11-09 Вращающаяся полировальная подушка RU2012116583A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US26049809P 2009-11-12 2009-11-12
US61/260,498 2009-11-12
PCT/US2010/055905 WO2011059935A1 (en) 2009-11-12 2010-11-09 Rotary buffing pad

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2012116583A true RU2012116583A (ru) 2013-12-20

Family

ID=43558369

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012116583/02A RU2012116583A (ru) 2009-11-12 2010-11-09 Вращающаяся полировальная подушка

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20120258652A1 (ru)
EP (1) EP2498951A1 (ru)
CN (1) CN102639299A (ru)
BR (1) BR112012011210A2 (ru)
RU (1) RU2012116583A (ru)
WO (1) WO2011059935A1 (ru)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI551396B (zh) 2013-10-03 2016-10-01 三芳化學工業股份有限公司 拋光墊及其製造方法
CN104625945B (zh) * 2013-11-07 2017-03-01 三芳化学工业股份有限公司 抛光垫及其制造方法
CN107078048B (zh) * 2014-10-17 2021-08-13 应用材料公司 使用加成制造工艺的具复合材料特性的cmp衬垫建构
US9643294B2 (en) * 2015-07-14 2017-05-09 K&D Pads LLC Buffing pad and methods of making and using the same
JP6760385B2 (ja) * 2016-09-14 2020-09-23 ソニー株式会社 センサ、入力装置および電子機器
USD876195S1 (en) 2018-06-13 2020-02-25 Kenneth Luna Polishing pad
CN113635216A (zh) * 2021-08-26 2021-11-12 业成科技(成都)有限公司 砂纸、金相研磨方法和装置
CN115026705B (zh) * 2022-06-28 2024-04-12 广东先导微电子科技有限公司 抛光机

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4962562A (en) 1989-01-18 1990-10-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Compounding, glazing or polishing pad
USRE37997E1 (en) * 1990-01-22 2003-02-18 Micron Technology, Inc. Polishing pad with controlled abrasion rate
US5020283A (en) * 1990-01-22 1991-06-04 Micron Technology, Inc. Polishing pad with uniform abrasion
US5527215A (en) * 1992-01-10 1996-06-18 Schlegel Corporation Foam buffing pad having a finishing surface with a splash reducing configuration
US5329734A (en) * 1993-04-30 1994-07-19 Motorola, Inc. Polishing pads used to chemical-mechanical polish a semiconductor substrate
US5441598A (en) * 1993-12-16 1995-08-15 Motorola, Inc. Polishing pad for chemical-mechanical polishing of a semiconductor substrate
DE19700636C2 (de) * 1997-01-10 1999-08-12 Brasseler Gmbh & Co Kg Geb Schleifwerkzeug für Dentalzwecke
US6273806B1 (en) * 1997-05-15 2001-08-14 Applied Materials, Inc. Polishing pad having a grooved pattern for use in a chemical mechanical polishing apparatus
US5919082A (en) * 1997-08-22 1999-07-06 Micron Technology, Inc. Fixed abrasive polishing pad
US6331137B1 (en) * 1998-08-28 2001-12-18 Advanced Micro Devices, Inc Polishing pad having open area which varies with distance from initial pad surface
KR20000025003A (ko) * 1998-10-07 2000-05-06 윤종용 반도체 기판의 화학 기계적 연마에 사용되는 연마 패드
US6443809B1 (en) * 1999-11-16 2002-09-03 Chartered Semiconductor Manufacturing, Ltd. Polishing apparatus and method for forming an integrated circuit
US6520834B1 (en) * 2000-08-09 2003-02-18 Micron Technology, Inc. Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
US6620031B2 (en) * 2001-04-04 2003-09-16 Lam Research Corporation Method for optimizing the planarizing length of a polishing pad
KR100646702B1 (ko) * 2001-08-16 2006-11-17 에스케이씨 주식회사 홀 및/또는 그루브로 형성된 화학적 기계적 연마패드
JP4313761B2 (ja) * 2002-11-18 2009-08-12 ドン ソン エイ アンド ティ カンパニー リミテッド 微細気孔が含まれたポリウレタン発泡体の製造方法及びそれから製造された研磨パッド
US7377840B2 (en) * 2004-07-21 2008-05-27 Neopad Technologies Corporation Methods for producing in-situ grooves in chemical mechanical planarization (CMP) pads, and novel CMP pad designs
JP3872081B2 (ja) * 2004-12-29 2007-01-24 東邦エンジニアリング株式会社 研磨用パッド
USD536714S1 (en) * 2005-09-16 2007-02-13 3M Innovative Properties Company Abrasive article with holes
US7244170B2 (en) * 2005-09-16 2007-07-17 3M Innovative Properties Co. Abrasive article and methods of making same
USD538312S1 (en) * 2005-09-16 2007-03-13 3M Innovative Properties Company Abrasive article with holes
USD554813S1 (en) * 2006-02-11 2007-11-06 Boler Jr Lewyn B Buffing pad
US20070204420A1 (en) 2006-03-06 2007-09-06 Hornby David M Polishing pad and method of making
US20070243798A1 (en) * 2006-04-18 2007-10-18 3M Innovative Properties Company Embossed structured abrasive article and method of making and using the same
US7906051B2 (en) 2006-05-01 2011-03-15 Lake County Manufacturing, Inc. Foam buffing pad with random or strategically placed collapsed cell structures
US7452265B2 (en) * 2006-12-21 2008-11-18 3M Innovative Properties Company Abrasive article and methods of making same
US8080072B2 (en) * 2007-03-05 2011-12-20 3M Innovative Properties Company Abrasive article with supersize coating, and methods
US7959694B2 (en) * 2007-03-05 2011-06-14 3M Innovative Properties Company Laser cut abrasive article, and methods
US20080233850A1 (en) * 2007-03-20 2008-09-25 3M Innovative Properties Company Abrasive article and method of making and using the same
US7628829B2 (en) * 2007-03-20 2009-12-08 3M Innovative Properties Company Abrasive article and method of making and using the same
USD586370S1 (en) * 2007-08-09 2009-02-10 3M Innovative Properties Company Random hole abrasive disc
TWM352126U (en) * 2008-10-23 2009-03-01 Bestac Advanced Material Co Ltd Polishing pad

Also Published As

Publication number Publication date
US20120258652A1 (en) 2012-10-11
WO2011059935A1 (en) 2011-05-19
BR112012011210A2 (pt) 2016-07-05
CN102639299A (zh) 2012-08-15
EP2498951A1 (en) 2012-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012116583A (ru) Вращающаяся полировальная подушка
RU2009144281A (ru) Эластомерная прокладка для сжимаемой эластомерной пружины
IN2014CN01032A (ru)
JP2006187819A5 (ru)
JP2013122313A (ja) 免震支持体
RU2005103545A (ru) Уплотнительный элемент для роторной машины
JP2005335385A (ja) ガラス又はウエハ用切削工具
CN1822917A (zh) 用于对光学表面进行表面加工的工具
CL2009000719S1 (es) Porcion superior de una motocicleta constituido por un estanque tronco prismatico de superficie curvo convexa y aristas redondeadas, cuya planta superior es de forma de un ovalo, provisto de un sector circular central, que contiene una corona circular concentrica con una sucesion perimetral de circulos equidistantes entre si.
USD643569S1 (en) One-way glass sphere
JP2006300160A5 (ru)
CN201802317U (zh) 集合式金刚石复合片
CN203146643U (zh) 一种耐磨型膜片弹簧
CN201779116U (zh) 地脚螺栓
CN2905291Y (zh) 锯片
CN205852564U (zh) 散热式砂轮
CN210642766U (zh) 一种高弹减震鞋用的减震件
CN101832452B (zh) 一种地脚螺栓
TWD230177S (zh) 空氣淨化器
CN2601035Y (zh) 具有轮盘的首饰
CN212804826U (zh) 一种减震限位一体式防滑垫
CN207885972U (zh) 一种垫板及使用该垫板的装配结构
RU2002114054A (ru) Алмазная буровая коронка
CN211563170U (zh) 一种用于球磨机的磨门衬板
CN209838307U (zh) 一种油用钻探钻头用硬制合金复合片基体

Legal Events

Date Code Title Description
FA94 Acknowledgement of application withdrawn (non-payment of fees)

Effective date: 20151009