RU2012116583A - Вращающаяся полировальная подушка - Google Patents
Вращающаяся полировальная подушка Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012116583A RU2012116583A RU2012116583/02A RU2012116583A RU2012116583A RU 2012116583 A RU2012116583 A RU 2012116583A RU 2012116583/02 A RU2012116583/02 A RU 2012116583/02A RU 2012116583 A RU2012116583 A RU 2012116583A RU 2012116583 A RU2012116583 A RU 2012116583A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- polishing pad
- recesses
- pad according
- average
- depressions
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/11—Lapping tools
- B24B37/20—Lapping pads for working plane surfaces
- B24B37/26—Lapping pads for working plane surfaces characterised by the shape of the lapping pad surface, e.g. grooved
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
1. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, перпендикулярную к лицевой и задней поверхностям, основа, кроме того, содержит:внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;наружную часть, окружающую внутреннюю часть;множество первых углублений, имеющих первый средний размер, расположенных на внутренней части и направленных от лицевой поверхности к задней, имножество вторых углублений, имеющих второй средний размер, расположенных на наружной части и направленных от лицевой поверхности к задней, где первый средний размер больше, чем второй средний размер.2. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, перпендикулярную к лицевой и задней поверхностям, основа, в свою очередь, содержит:внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;наружную часть, окружающую внутреннюю часть;множество первых углублений, имеющих первую среднюю концентрацию, расположенных на внутренней части и направленных от лицевой поверхности к задней, имножество вторых углублений, имеющих вторую среднюю концентрацию, расположенных на наружной части и направленных от лицевой поверхности к задней, где первая средняя концентрация углублений больше, чем вторая средняя концентрация углублений.3. Полировальная �
Claims (21)
1. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:
основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, перпендикулярную к лицевой и задней поверхностям, основа, кроме того, содержит:
внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;
наружную часть, окружающую внутреннюю часть;
множество первых углублений, имеющих первый средний размер, расположенных на внутренней части и направленных от лицевой поверхности к задней, и
множество вторых углублений, имеющих второй средний размер, расположенных на наружной части и направленных от лицевой поверхности к задней, где первый средний размер больше, чем второй средний размер.
2. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:
основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, перпендикулярную к лицевой и задней поверхностям, основа, в свою очередь, содержит:
внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;
наружную часть, окружающую внутреннюю часть;
множество первых углублений, имеющих первую среднюю концентрацию, расположенных на внутренней части и направленных от лицевой поверхности к задней, и
множество вторых углублений, имеющих вторую среднюю концентрацию, расположенных на наружной части и направленных от лицевой поверхности к задней, где первая средняя концентрация углублений больше, чем вторая средняя концентрация углублений.
3. Полировальная подушка по п.2, отличающаяся тем, что первая концентрация углублений лежит в диапазоне от 1,5 до 5,0 на кв. сантиметр, а вторая концентрация углублений лежит в диапазоне от 0,8 до 1,5 на кв. сантиметр.
4. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество вторых углублений содержит первое подмножество вторых углублений, образованное несколькими повторяющимися многоугольными формациями, расположенными на расстоянии друг от друга.
5. Полировальная подушка по п.4, отличающаяся тем, что многоугольные формации являются шестиугольными формациями.
6. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество первых углублений имеет первую среднюю глубину, а множество вторых углублений имеет вторую среднюю глубину, которая меньше первой средней глубины.
7. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество первых углублений имеет первый средний диаметр, а множество вторых углублений имеет второй средний диаметр, который меньше первого среднего диаметра.
8. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество первых углублений занимает первый средний объем, а множество вторых углублений занимает второй средний объем, который меньше первого среднего объема.
9. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что внутренняя часть имеет диаметр, составляющий от 20 до 40 процентов основы.
10. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что внутренняя часть занимает площадь, составляющую от 4 до 16 процентов общей площади лицевой поверхности.
11. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что углубления, в целом, имеют круглую форму.
12. Полировальная подушка по п.1 или 2, содержащая дополнительно защитный слой, проходящий вдоль, по меньшей мере, части задней поверхности и имеющий модуль упругости, который больше модуля упругости основы.
13. Полировальная подушка по п.13, отличающаяся тем, что защитный слой содержит волокнистый материал, упрощающий соединение с механическим инструментом, имеющим поверхность для крепления «липучка».
14. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что множество первых углублений включает в себя все углубления, присутствующие на внутренней части.
15. Полировальная подушка по п.15, отличающаяся тем, что множество вторых углублений включает в себя все углубления, присутствующие на наружной части.
16. Полировальная подушка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что наружная часть содержит дополнительно, по меньшей мере, один кольцевой участок, и отличающаяся тем, что множество вторых углублений дополнительно содержит второе подмножество вторых углублений, расположенных, по меньшей мере, на одном кольцевом участке; второе подмножество простирается от лицевой поверхности в направлении задней поверхности и располагается, по меньшей мере, вдоль одного кругового кольца, каждое круговое кольцо лежит в одной плоскости с лицевой поверхностью и симметрично, в целом, относительно оси вращения.
17. Полировальная подушка по п.17, отличающаяся тем, что второе подмножество вторых углублений имеет определенный диаметр и определенный шаг между соседними углублениями, а отношение между определенным диаметром и определенным шагом составляет, по меньшей мере, 0,2.
18. Полировальная подушка по п.18, отличающаяся тем, что отношение между определенным диаметром и определенным шагом составляет, по меньшей мере, 0,3.
19. Полировальная подушка по п.19, отличающаяся тем, что отношение между определенным диаметром и определенным шагом составляет, по меньшей мере, 0,35.
20. Полировальная подушка по п.17, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один кольцевой участок включает в себя два или более кольцевых участка и, по меньшей мере, одно круговое кольцо содержит два или более круговых кольца, располагающихся внутри соответствующих кольцевых участков и концентричных относительно друг друга.
21. Вращающаяся полировальная подушка, содержащая:
основу, содержащую поропласт, который имеет величину деформации сжатия до 25 процентов исходного объема под давлением от 2000 до 7000 Паскалей, имеющую лицевую поверхность, заднюю поверхность и ось вращения, ось вращения перпендикулярна к лицевой и задней поверхностям, основа, кроме того, содержит:
внутреннюю часть, прилегающую к оси вращения и окружающую ее;
наружную часть, окружающую внутреннюю часть и множество углублений, направленных от лицевой поверхности к задней, где углубления имеют различные размеры, причем углубления, имеющие относительно больший размер, располагаются, относительно наружной части, преимущественно во внутренней части.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US26049809P | 2009-11-12 | 2009-11-12 | |
US61/260,498 | 2009-11-12 | ||
PCT/US2010/055905 WO2011059935A1 (en) | 2009-11-12 | 2010-11-09 | Rotary buffing pad |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012116583A true RU2012116583A (ru) | 2013-12-20 |
Family
ID=43558369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012116583/02A RU2012116583A (ru) | 2009-11-12 | 2010-11-09 | Вращающаяся полировальная подушка |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120258652A1 (ru) |
EP (1) | EP2498951A1 (ru) |
CN (1) | CN102639299A (ru) |
BR (1) | BR112012011210A2 (ru) |
RU (1) | RU2012116583A (ru) |
WO (1) | WO2011059935A1 (ru) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI551396B (zh) | 2013-10-03 | 2016-10-01 | 三芳化學工業股份有限公司 | 拋光墊及其製造方法 |
CN104625945B (zh) * | 2013-11-07 | 2017-03-01 | 三芳化学工业股份有限公司 | 抛光垫及其制造方法 |
CN107078048B (zh) * | 2014-10-17 | 2021-08-13 | 应用材料公司 | 使用加成制造工艺的具复合材料特性的cmp衬垫建构 |
US9643294B2 (en) * | 2015-07-14 | 2017-05-09 | K&D Pads LLC | Buffing pad and methods of making and using the same |
JP6760385B2 (ja) * | 2016-09-14 | 2020-09-23 | ソニー株式会社 | センサ、入力装置および電子機器 |
USD876195S1 (en) | 2018-06-13 | 2020-02-25 | Kenneth Luna | Polishing pad |
CN113635216A (zh) * | 2021-08-26 | 2021-11-12 | 业成科技(成都)有限公司 | 砂纸、金相研磨方法和装置 |
CN115026705B (zh) * | 2022-06-28 | 2024-04-12 | 广东先导微电子科技有限公司 | 抛光机 |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4962562A (en) | 1989-01-18 | 1990-10-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Compounding, glazing or polishing pad |
USRE37997E1 (en) * | 1990-01-22 | 2003-02-18 | Micron Technology, Inc. | Polishing pad with controlled abrasion rate |
US5020283A (en) * | 1990-01-22 | 1991-06-04 | Micron Technology, Inc. | Polishing pad with uniform abrasion |
US5527215A (en) * | 1992-01-10 | 1996-06-18 | Schlegel Corporation | Foam buffing pad having a finishing surface with a splash reducing configuration |
US5329734A (en) * | 1993-04-30 | 1994-07-19 | Motorola, Inc. | Polishing pads used to chemical-mechanical polish a semiconductor substrate |
US5441598A (en) * | 1993-12-16 | 1995-08-15 | Motorola, Inc. | Polishing pad for chemical-mechanical polishing of a semiconductor substrate |
DE19700636C2 (de) * | 1997-01-10 | 1999-08-12 | Brasseler Gmbh & Co Kg Geb | Schleifwerkzeug für Dentalzwecke |
US6273806B1 (en) * | 1997-05-15 | 2001-08-14 | Applied Materials, Inc. | Polishing pad having a grooved pattern for use in a chemical mechanical polishing apparatus |
US5919082A (en) * | 1997-08-22 | 1999-07-06 | Micron Technology, Inc. | Fixed abrasive polishing pad |
US6331137B1 (en) * | 1998-08-28 | 2001-12-18 | Advanced Micro Devices, Inc | Polishing pad having open area which varies with distance from initial pad surface |
KR20000025003A (ko) * | 1998-10-07 | 2000-05-06 | 윤종용 | 반도체 기판의 화학 기계적 연마에 사용되는 연마 패드 |
US6443809B1 (en) * | 1999-11-16 | 2002-09-03 | Chartered Semiconductor Manufacturing, Ltd. | Polishing apparatus and method for forming an integrated circuit |
US6520834B1 (en) * | 2000-08-09 | 2003-02-18 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates |
US6620031B2 (en) * | 2001-04-04 | 2003-09-16 | Lam Research Corporation | Method for optimizing the planarizing length of a polishing pad |
KR100646702B1 (ko) * | 2001-08-16 | 2006-11-17 | 에스케이씨 주식회사 | 홀 및/또는 그루브로 형성된 화학적 기계적 연마패드 |
JP4313761B2 (ja) * | 2002-11-18 | 2009-08-12 | ドン ソン エイ アンド ティ カンパニー リミテッド | 微細気孔が含まれたポリウレタン発泡体の製造方法及びそれから製造された研磨パッド |
US7377840B2 (en) * | 2004-07-21 | 2008-05-27 | Neopad Technologies Corporation | Methods for producing in-situ grooves in chemical mechanical planarization (CMP) pads, and novel CMP pad designs |
JP3872081B2 (ja) * | 2004-12-29 | 2007-01-24 | 東邦エンジニアリング株式会社 | 研磨用パッド |
USD536714S1 (en) * | 2005-09-16 | 2007-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article with holes |
US7244170B2 (en) * | 2005-09-16 | 2007-07-17 | 3M Innovative Properties Co. | Abrasive article and methods of making same |
USD538312S1 (en) * | 2005-09-16 | 2007-03-13 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article with holes |
USD554813S1 (en) * | 2006-02-11 | 2007-11-06 | Boler Jr Lewyn B | Buffing pad |
US20070204420A1 (en) | 2006-03-06 | 2007-09-06 | Hornby David M | Polishing pad and method of making |
US20070243798A1 (en) * | 2006-04-18 | 2007-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Embossed structured abrasive article and method of making and using the same |
US7906051B2 (en) | 2006-05-01 | 2011-03-15 | Lake County Manufacturing, Inc. | Foam buffing pad with random or strategically placed collapsed cell structures |
US7452265B2 (en) * | 2006-12-21 | 2008-11-18 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article and methods of making same |
US8080072B2 (en) * | 2007-03-05 | 2011-12-20 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article with supersize coating, and methods |
US7959694B2 (en) * | 2007-03-05 | 2011-06-14 | 3M Innovative Properties Company | Laser cut abrasive article, and methods |
US20080233850A1 (en) * | 2007-03-20 | 2008-09-25 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article and method of making and using the same |
US7628829B2 (en) * | 2007-03-20 | 2009-12-08 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article and method of making and using the same |
USD586370S1 (en) * | 2007-08-09 | 2009-02-10 | 3M Innovative Properties Company | Random hole abrasive disc |
TWM352126U (en) * | 2008-10-23 | 2009-03-01 | Bestac Advanced Material Co Ltd | Polishing pad |
-
2010
- 2010-11-09 BR BR112012011210A patent/BR112012011210A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-11-09 EP EP10779390A patent/EP2498951A1/en not_active Withdrawn
- 2010-11-09 WO PCT/US2010/055905 patent/WO2011059935A1/en active Application Filing
- 2010-11-09 US US13/497,621 patent/US20120258652A1/en not_active Abandoned
- 2010-11-09 RU RU2012116583/02A patent/RU2012116583A/ru not_active Application Discontinuation
- 2010-11-09 CN CN2010800511806A patent/CN102639299A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120258652A1 (en) | 2012-10-11 |
WO2011059935A1 (en) | 2011-05-19 |
BR112012011210A2 (pt) | 2016-07-05 |
CN102639299A (zh) | 2012-08-15 |
EP2498951A1 (en) | 2012-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2012116583A (ru) | Вращающаяся полировальная подушка | |
RU2009144281A (ru) | Эластомерная прокладка для сжимаемой эластомерной пружины | |
IN2014CN01032A (ru) | ||
JP2006187819A5 (ru) | ||
JP2013122313A (ja) | 免震支持体 | |
RU2005103545A (ru) | Уплотнительный элемент для роторной машины | |
JP2005335385A (ja) | ガラス又はウエハ用切削工具 | |
CN1822917A (zh) | 用于对光学表面进行表面加工的工具 | |
CL2009000719S1 (es) | Porcion superior de una motocicleta constituido por un estanque tronco prismatico de superficie curvo convexa y aristas redondeadas, cuya planta superior es de forma de un ovalo, provisto de un sector circular central, que contiene una corona circular concentrica con una sucesion perimetral de circulos equidistantes entre si. | |
USD643569S1 (en) | One-way glass sphere | |
JP2006300160A5 (ru) | ||
CN201802317U (zh) | 集合式金刚石复合片 | |
CN203146643U (zh) | 一种耐磨型膜片弹簧 | |
CN201779116U (zh) | 地脚螺栓 | |
CN2905291Y (zh) | 锯片 | |
CN205852564U (zh) | 散热式砂轮 | |
CN210642766U (zh) | 一种高弹减震鞋用的减震件 | |
CN101832452B (zh) | 一种地脚螺栓 | |
TWD230177S (zh) | 空氣淨化器 | |
CN2601035Y (zh) | 具有轮盘的首饰 | |
CN212804826U (zh) | 一种减震限位一体式防滑垫 | |
CN207885972U (zh) | 一种垫板及使用该垫板的装配结构 | |
RU2002114054A (ru) | Алмазная буровая коронка | |
CN211563170U (zh) | 一种用于球磨机的磨门衬板 | |
CN209838307U (zh) | 一种油用钻探钻头用硬制合金复合片基体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA94 | Acknowledgement of application withdrawn (non-payment of fees) |
Effective date: 20151009 |