RU2012116222A - Генератор плазмы (варианты) - Google Patents
Генератор плазмы (варианты) Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012116222A RU2012116222A RU2012116222/07A RU2012116222A RU2012116222A RU 2012116222 A RU2012116222 A RU 2012116222A RU 2012116222/07 A RU2012116222/07 A RU 2012116222/07A RU 2012116222 A RU2012116222 A RU 2012116222A RU 2012116222 A RU2012116222 A RU 2012116222A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- dielectric
- coil
- plasma generator
- screen
- generator according
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 17
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims abstract 4
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
- H01J37/3211—Antennas, e.g. particular shapes of coils
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/002—Cooling arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/03—Mounting, supporting, spacing or insulating electrodes
- H01J2237/036—Spacing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
1. Генератор плазмы, содержащий спиральную катушку, помещенную внутрь проводящего экрана, внутренняя поверхность которого имеет близкую к цилиндрической форму, причем пространство между витками катушки и между катушкой и экраном заполнено диэлектриком, отличающийся тем, что катушка выполнена плоской, расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрика меньше удвоенной толщины катушки, а расстояние от плоскости катушки до основания внутренней поверхности экрана больше удвоенного расстояния от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрика.2. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что для подачи высокочастотного тока в катушку генератор плазмы снабжен коаксиальным вводом, внутренний проводник которого соединен с одним концом катушки, а внешний проводник соединен с другим концом катушки.3. Генератор плазмы по п.2, отличающийся тем, что коаксиальный ввод выполнен с возможностью подачи через него охлаждающей жидкости либо газа к катушке.4. Генератор плазмы по п.2, отличающийся тем, что проводники катушки выполнены полыми с возможностью подачи сквозь них охлаждающей жидкости либо газа.5. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что диэлектрик, отделяющий катушку от рабочей поверхности устройства, выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы.6. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.7. Генератор плазмы
Claims (33)
1. Генератор плазмы, содержащий спиральную катушку, помещенную внутрь проводящего экрана, внутренняя поверхность которого имеет близкую к цилиндрической форму, причем пространство между витками катушки и между катушкой и экраном заполнено диэлектриком, отличающийся тем, что катушка выполнена плоской, расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрика меньше удвоенной толщины катушки, а расстояние от плоскости катушки до основания внутренней поверхности экрана больше удвоенного расстояния от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрика.
2. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что для подачи высокочастотного тока в катушку генератор плазмы снабжен коаксиальным вводом, внутренний проводник которого соединен с одним концом катушки, а внешний проводник соединен с другим концом катушки.
3. Генератор плазмы по п.2, отличающийся тем, что коаксиальный ввод выполнен с возможностью подачи через него охлаждающей жидкости либо газа к катушке.
4. Генератор плазмы по п.2, отличающийся тем, что проводники катушки выполнены полыми с возможностью подачи сквозь них охлаждающей жидкости либо газа.
5. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что диэлектрик, отделяющий катушку от рабочей поверхности устройства, выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы.
6. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
7. Генератор плазмы по п.6, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
8. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей, мере двумя диэлектрическими экранами, по меньшей мере один из которых выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем между экранами имеется зазор.
9. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что диэлектрическое заполнение состоит из диэлектрического цилиндра, отделяющего катушку от основания внутренней поверхности экрана, диэлектрических вставок, заполняющих пространство между витками катушки и диэлектрической пластины, отделяющей катушку от рабочей поверхности устройства.
10. Генератор плазмы по п.9, отличающийся тем, что диэлектрическая пластина выполнена из материала, устойчивого к воздействию плазменной среды.
11. Генератор плазмы по п.10, отличающийся тем, что между диэлектрической пластиной и катушкой, а также между диэлектрической пластиной и диэлектрическими вставками имеется зазор.
12. Генератор плазмы по любому из пп.9-11, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
13. Генератор плазмы по п.12, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
14. Генератор плазмы, содержащий спиральную катушку, помещенную внутрь проводящего экрана, внутренняя поверхность которого имеет близкую к цилиндрической форму, причем пространство между витками катушки и между катушкой и экраном заполнено диэлектриком, отличающийся тем, что катушка выполнена плоской, экран выполнен в виде кольца, ось которого перпендикулярна плоскости катушки, край кольца, обращенный к объему, в котором требуется создание плазмы закрыт диэлектриком.
15. Генератор плазмы по п.14, отличающийся тем, что диэлектрик, отделяющий катушку от рабочей поверхности устройства, выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы.
16. Генератор плазмы по п.14, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
17. Генератор плазмы по п.16, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
18. Генератор плазмы по п.14, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, двумя диэлектрическими экранами, по меньшей мере один из которых выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем между экранами имеется зазор.
19. Генератор плазмы по п.14, отличающийся тем, что диэлектрическое заполнение состоит из диэлектрического цилиндра, отделяющего катушку от основания внутренней поверхности экрана, диэлектрических вставок, заполняющих пространство между витками катушки и диэлектрической пластины, отделяющей катушку от рабочей поверхности устройства.
20. Генератор плазмы по п.19, отличающийся тем, что диэлектрическая пластина выполнена из материала, устойчивого к воздействию плазменной среды.
21. Генератор плазмы по п.20, отличающийся тем, что между диэлектрической пластиной и катушкой, а также между диэлектрической пластиной и диэлектрическими вставками имеется зазор.
22. Генератор плазмы по любому из пп.19-21, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
23. Генератор плазмы по п.22, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
24. Генератор плазмы, содержащий спиральную катушку, помещенную внутрь проводящего экрана, внутренняя поверхность которого имеет близкую к цилиндрической форму, причем пространство между витками катушки и между катушкой и экраном заполнено диэлектриком, отличающийся тем, что экран электрически соединен с одним из концов катушки, а диэлектрическая проницаемость диэлектрика находится в пределах от 2,5 до 50.
25. Генератор плазмы по п.24, отличающийся тем, что диэлектрик, отделяющий катушку от рабочей поверхности устройства, выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы.
26. Генератор плазмы по п.24, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
27. Генератор плазмы по п.26, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
28. Генератор плазмы по п.24, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, двумя диэлектрическими экранами, по меньшей мере, один из которых выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем между экранами имеется зазор.
29. Генератор плазмы по п.24, отличающийся тем, что диэлектрическое заполнение состоит из диэлектрического цилиндра, отделяющего катушку от основания внутренней поверхности экрана, диэлектрических вставок, заполняющих пространство между витками катушки и диэлектрической пластины, отделяющей катушку от рабочей поверхности устройства.
30. Генератор плазмы по п.29, отличающийся тем, что диэлектрическая пластина выполнена из материала, устойчивого к воздействию плазменной среды.
31. Генератор плазмы по п.30, отличающийся тем, что между диэлектрической пластиной и катушкой, а также между диэлектрической пластиной и диэлектрическими вставками имеется зазор.
32. Генератор плазмы по любому из пп.29-31, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
33. Генератор плазмы по п.32, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2012116222/07A RU2503079C1 (ru) | 2012-04-24 | 2012-04-24 | Генератор плазмы (варианты) |
PCT/RU2013/000263 WO2013162419A2 (ru) | 2012-04-24 | 2013-03-28 | Генератор плазмы (варианты) |
US14/396,361 US9704691B2 (en) | 2012-04-24 | 2013-03-28 | Plasma generator |
JP2015508896A JP6292484B2 (ja) | 2012-04-24 | 2013-03-28 | プラズマ発生器(実施諸形態) |
EP13780647.7A EP2844043B1 (en) | 2012-04-24 | 2013-03-28 | Plasma generator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2012116222/07A RU2503079C1 (ru) | 2012-04-24 | 2012-04-24 | Генератор плазмы (варианты) |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012116222A true RU2012116222A (ru) | 2013-10-27 |
RU2503079C1 RU2503079C1 (ru) | 2013-12-27 |
Family
ID=49446370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012116222/07A RU2503079C1 (ru) | 2012-04-24 | 2012-04-24 | Генератор плазмы (варианты) |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9704691B2 (ru) |
EP (1) | EP2844043B1 (ru) |
JP (1) | JP6292484B2 (ru) |
RU (1) | RU2503079C1 (ru) |
WO (1) | WO2013162419A2 (ru) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106920732B (zh) * | 2015-12-25 | 2018-10-16 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种电极结构及icp刻蚀机 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5231334A (en) * | 1992-04-15 | 1993-07-27 | Texas Instruments Incorporated | Plasma source and method of manufacturing |
JP2659919B2 (ja) * | 1994-01-13 | 1997-09-30 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | プラズマの不均一性を補正するプラズマ装置 |
US5580385A (en) | 1994-06-30 | 1996-12-03 | Texas Instruments, Incorporated | Structure and method for incorporating an inductively coupled plasma source in a plasma processing chamber |
JPH10302996A (ja) * | 1997-04-23 | 1998-11-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理方法及び装置 |
JP3676569B2 (ja) * | 1998-05-18 | 2005-07-27 | 日本碍子株式会社 | プラズマ発生電極装置およびプラズマ発生装置 |
US6164241A (en) * | 1998-06-30 | 2000-12-26 | Lam Research Corporation | Multiple coil antenna for inductively-coupled plasma generation systems |
RU2171555C1 (ru) * | 2000-03-06 | 2001-07-27 | Берлин Евгений Владимирович | Высокочастотный газоразрядный источник ионов высокой плотности с низкоимпедансной антенной |
JP2002151481A (ja) * | 2000-08-30 | 2002-05-24 | Samco International Inc | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP3847184B2 (ja) * | 2002-03-14 | 2006-11-15 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
FR2842388B1 (fr) * | 2002-07-11 | 2004-09-24 | Cit Alcatel | Procede et dispositif pour la gravure de substrat par plasma inductif a tres forte puissance |
US7255774B2 (en) * | 2002-09-26 | 2007-08-14 | Tokyo Electron Limited | Process apparatus and method for improving plasma production of an inductively coupled plasma |
KR100964398B1 (ko) | 2003-01-03 | 2010-06-17 | 삼성전자주식회사 | 유도결합형 안테나 및 이를 채용한 플라즈마 처리장치 |
JP2005311120A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 誘導結合型プラズマ発生装置およびそれを用いたドライエッチング装置 |
US20060081185A1 (en) * | 2004-10-15 | 2006-04-20 | Justin Mauck | Thermal management of dielectric components in a plasma discharge device |
KR20060073737A (ko) | 2004-12-24 | 2006-06-29 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 장치 |
US7591232B2 (en) * | 2006-03-31 | 2009-09-22 | Tokyo Electron Limited | Internal coil with segmented shield and inductively-coupled plasma source and processing system therewith |
US7758718B1 (en) * | 2006-12-29 | 2010-07-20 | Lam Research Corporation | Reduced electric field arrangement for managing plasma confinement |
JP4784624B2 (ja) * | 2007-12-20 | 2011-10-05 | 三菱電機株式会社 | 殺菌装置とその装置を用いた空調機、手乾燥機及び加湿器 |
GB0919274D0 (en) * | 2009-11-03 | 2009-12-16 | Univ The Glasgow | Plasma generation apparatus and use of plasma generation apparatus |
-
2012
- 2012-04-24 RU RU2012116222/07A patent/RU2503079C1/ru active
-
2013
- 2013-03-28 EP EP13780647.7A patent/EP2844043B1/en active Active
- 2013-03-28 US US14/396,361 patent/US9704691B2/en active Active
- 2013-03-28 JP JP2015508896A patent/JP6292484B2/ja active Active
- 2013-03-28 WO PCT/RU2013/000263 patent/WO2013162419A2/ru active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2844043A2 (en) | 2015-03-04 |
WO2013162419A3 (ru) | 2014-01-03 |
EP2844043A4 (en) | 2015-11-25 |
EP2844043B1 (en) | 2020-02-26 |
US9704691B2 (en) | 2017-07-11 |
RU2503079C1 (ru) | 2013-12-27 |
JP6292484B2 (ja) | 2018-03-14 |
US20150279620A1 (en) | 2015-10-01 |
JP2015521342A (ja) | 2015-07-27 |
WO2013162419A2 (ru) | 2013-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2016091812A5 (ru) | ||
CN106714435B (zh) | 一种大面积大气压等离子体射流产生装置 | |
RU2013129243A (ru) | Способ и устройство для транспортировки и модификации углеводородного ресурса | |
RU2013138444A (ru) | Легкий искробезопасный электрод для производства озона | |
RU2012116222A (ru) | Генератор плазмы (варианты) | |
MX342253B (es) | Dispositivo para la generacion de plasma que tiene un intervalo alto a lo largo de un eje por la resonancia ciclotronica de electrones (ecr) de un medio gaseoso. | |
EA033165B1 (ru) | Электролизер с содержащимся в укрытии анодным узлом | |
RU2011127344A (ru) | Плазменный электролизер | |
RU2011150332A (ru) | Газоразрядный коммутатор | |
RU2016116423A (ru) | Коммутирующее сильноточное устройство | |
RU2012136022A (ru) | Переход высокочастотный | |
RU2012100143A (ru) | Генератор высокочастотного излучения на основе разряда с полым катодом | |
IN2015DN01062A (ru) | ||
RU2014110349A (ru) | Ионный двигатель | |
RU2016113321A (ru) | Устройство для генерации плазмы высокочастотного разряда | |
RU2561235C1 (ru) | Датчик вакуума | |
RU2013113481A (ru) | Устройство для плазмохимического травления | |
RU2012136495A (ru) | Генератор высокочастотного излучения на основе разряда с полым катодом (варианты) | |
RU2015144841A (ru) | Плазмотрон, устройство дозирования плазменного материала и способ формирования плазмы | |
FR2972858B1 (fr) | Synthetiseur d'impedance coaxial | |
RU2013101065A (ru) | Переход низкочастотный | |
RU2013156073A (ru) | Устройство для нанесения покрытия на порошки сверхпроводящих соединений | |
RU2012135063A (ru) | Газоразрядный прибор | |
RU2012146484A (ru) | Ускорительная трубка | |
CN105636329B (zh) | 一种用于小空间的等离子体产生装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
HE9A | Changing address for correspondence with an applicant | ||
QB4A | Licence on use of patent |
Free format text: LICENCE Effective date: 20150821 |