RU2012116222A - Генератор плазмы (варианты) - Google Patents

Генератор плазмы (варианты) Download PDF

Info

Publication number
RU2012116222A
RU2012116222A RU2012116222/07A RU2012116222A RU2012116222A RU 2012116222 A RU2012116222 A RU 2012116222A RU 2012116222/07 A RU2012116222/07 A RU 2012116222/07A RU 2012116222 A RU2012116222 A RU 2012116222A RU 2012116222 A RU2012116222 A RU 2012116222A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
dielectric
coil
plasma generator
screen
generator according
Prior art date
Application number
RU2012116222/07A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2503079C1 (ru
Inventor
Евгений Владимирович Берлин
Василий Юрьевич Григорьев
Original Assignee
Евгений Владимирович Берлин
Василий Юрьевич Григорьев
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Евгений Владимирович Берлин, Василий Юрьевич Григорьев filed Critical Евгений Владимирович Берлин
Priority to RU2012116222/07A priority Critical patent/RU2503079C1/ru
Priority to PCT/RU2013/000263 priority patent/WO2013162419A2/ru
Priority to US14/396,361 priority patent/US9704691B2/en
Priority to JP2015508896A priority patent/JP6292484B2/ja
Priority to EP13780647.7A priority patent/EP2844043B1/en
Publication of RU2012116222A publication Critical patent/RU2012116222A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2503079C1 publication Critical patent/RU2503079C1/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
    • H01J37/3211Antennas, e.g. particular shapes of coils
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/002Cooling arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/03Mounting, supporting, spacing or insulating electrodes
    • H01J2237/036Spacing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

1. Генератор плазмы, содержащий спиральную катушку, помещенную внутрь проводящего экрана, внутренняя поверхность которого имеет близкую к цилиндрической форму, причем пространство между витками катушки и между катушкой и экраном заполнено диэлектриком, отличающийся тем, что катушка выполнена плоской, расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрика меньше удвоенной толщины катушки, а расстояние от плоскости катушки до основания внутренней поверхности экрана больше удвоенного расстояния от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрика.2. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что для подачи высокочастотного тока в катушку генератор плазмы снабжен коаксиальным вводом, внутренний проводник которого соединен с одним концом катушки, а внешний проводник соединен с другим концом катушки.3. Генератор плазмы по п.2, отличающийся тем, что коаксиальный ввод выполнен с возможностью подачи через него охлаждающей жидкости либо газа к катушке.4. Генератор плазмы по п.2, отличающийся тем, что проводники катушки выполнены полыми с возможностью подачи сквозь них охлаждающей жидкости либо газа.5. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что диэлектрик, отделяющий катушку от рабочей поверхности устройства, выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы.6. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.7. Генератор плазмы

Claims (33)

1. Генератор плазмы, содержащий спиральную катушку, помещенную внутрь проводящего экрана, внутренняя поверхность которого имеет близкую к цилиндрической форму, причем пространство между витками катушки и между катушкой и экраном заполнено диэлектриком, отличающийся тем, что катушка выполнена плоской, расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрика меньше удвоенной толщины катушки, а расстояние от плоскости катушки до основания внутренней поверхности экрана больше удвоенного расстояния от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрика.
2. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что для подачи высокочастотного тока в катушку генератор плазмы снабжен коаксиальным вводом, внутренний проводник которого соединен с одним концом катушки, а внешний проводник соединен с другим концом катушки.
3. Генератор плазмы по п.2, отличающийся тем, что коаксиальный ввод выполнен с возможностью подачи через него охлаждающей жидкости либо газа к катушке.
4. Генератор плазмы по п.2, отличающийся тем, что проводники катушки выполнены полыми с возможностью подачи сквозь них охлаждающей жидкости либо газа.
5. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что диэлектрик, отделяющий катушку от рабочей поверхности устройства, выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы.
6. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
7. Генератор плазмы по п.6, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
8. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей, мере двумя диэлектрическими экранами, по меньшей мере один из которых выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем между экранами имеется зазор.
9. Генератор плазмы по п.1, отличающийся тем, что диэлектрическое заполнение состоит из диэлектрического цилиндра, отделяющего катушку от основания внутренней поверхности экрана, диэлектрических вставок, заполняющих пространство между витками катушки и диэлектрической пластины, отделяющей катушку от рабочей поверхности устройства.
10. Генератор плазмы по п.9, отличающийся тем, что диэлектрическая пластина выполнена из материала, устойчивого к воздействию плазменной среды.
11. Генератор плазмы по п.10, отличающийся тем, что между диэлектрической пластиной и катушкой, а также между диэлектрической пластиной и диэлектрическими вставками имеется зазор.
12. Генератор плазмы по любому из пп.9-11, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
13. Генератор плазмы по п.12, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
14. Генератор плазмы, содержащий спиральную катушку, помещенную внутрь проводящего экрана, внутренняя поверхность которого имеет близкую к цилиндрической форму, причем пространство между витками катушки и между катушкой и экраном заполнено диэлектриком, отличающийся тем, что катушка выполнена плоской, экран выполнен в виде кольца, ось которого перпендикулярна плоскости катушки, край кольца, обращенный к объему, в котором требуется создание плазмы закрыт диэлектриком.
15. Генератор плазмы по п.14, отличающийся тем, что диэлектрик, отделяющий катушку от рабочей поверхности устройства, выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы.
16. Генератор плазмы по п.14, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
17. Генератор плазмы по п.16, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
18. Генератор плазмы по п.14, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, двумя диэлектрическими экранами, по меньшей мере один из которых выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем между экранами имеется зазор.
19. Генератор плазмы по п.14, отличающийся тем, что диэлектрическое заполнение состоит из диэлектрического цилиндра, отделяющего катушку от основания внутренней поверхности экрана, диэлектрических вставок, заполняющих пространство между витками катушки и диэлектрической пластины, отделяющей катушку от рабочей поверхности устройства.
20. Генератор плазмы по п.19, отличающийся тем, что диэлектрическая пластина выполнена из материала, устойчивого к воздействию плазменной среды.
21. Генератор плазмы по п.20, отличающийся тем, что между диэлектрической пластиной и катушкой, а также между диэлектрической пластиной и диэлектрическими вставками имеется зазор.
22. Генератор плазмы по любому из пп.19-21, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
23. Генератор плазмы по п.22, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
24. Генератор плазмы, содержащий спиральную катушку, помещенную внутрь проводящего экрана, внутренняя поверхность которого имеет близкую к цилиндрической форму, причем пространство между витками катушки и между катушкой и экраном заполнено диэлектриком, отличающийся тем, что экран электрически соединен с одним из концов катушки, а диэлектрическая проницаемость диэлектрика находится в пределах от 2,5 до 50.
25. Генератор плазмы по п.24, отличающийся тем, что диэлектрик, отделяющий катушку от рабочей поверхности устройства, выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы.
26. Генератор плазмы по п.24, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
27. Генератор плазмы по п.26, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
28. Генератор плазмы по п.24, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, двумя диэлектрическими экранами, по меньшей мере, один из которых выполнен из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем между экранами имеется зазор.
29. Генератор плазмы по п.24, отличающийся тем, что диэлектрическое заполнение состоит из диэлектрического цилиндра, отделяющего катушку от основания внутренней поверхности экрана, диэлектрических вставок, заполняющих пространство между витками катушки и диэлектрической пластины, отделяющей катушку от рабочей поверхности устройства.
30. Генератор плазмы по п.29, отличающийся тем, что диэлектрическая пластина выполнена из материала, устойчивого к воздействию плазменной среды.
31. Генератор плазмы по п.30, отличающийся тем, что между диэлектрической пластиной и катушкой, а также между диэлектрической пластиной и диэлектрическими вставками имеется зазор.
32. Генератор плазмы по любому из пп.29-31, отличающийся тем, что внешняя поверхность диэлектрика закрыта, по меньшей мере, одним диэлектрическим экраном, выполненным из материала, устойчивого к воздействию плазмы, причем расстояние от плоскости катушки до внешней поверхности диэлектрического экрана меньше удвоенной толщины катушки.
33. Генератор плазмы по п.32, отличающийся тем, что между экраном и внешней поверхностью диэлектрика имеется зазор.
RU2012116222/07A 2012-04-24 2012-04-24 Генератор плазмы (варианты) RU2503079C1 (ru)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2012116222/07A RU2503079C1 (ru) 2012-04-24 2012-04-24 Генератор плазмы (варианты)
PCT/RU2013/000263 WO2013162419A2 (ru) 2012-04-24 2013-03-28 Генератор плазмы (варианты)
US14/396,361 US9704691B2 (en) 2012-04-24 2013-03-28 Plasma generator
JP2015508896A JP6292484B2 (ja) 2012-04-24 2013-03-28 プラズマ発生器(実施諸形態)
EP13780647.7A EP2844043B1 (en) 2012-04-24 2013-03-28 Plasma generator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2012116222/07A RU2503079C1 (ru) 2012-04-24 2012-04-24 Генератор плазмы (варианты)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2012116222A true RU2012116222A (ru) 2013-10-27
RU2503079C1 RU2503079C1 (ru) 2013-12-27

Family

ID=49446370

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012116222/07A RU2503079C1 (ru) 2012-04-24 2012-04-24 Генератор плазмы (варианты)

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9704691B2 (ru)
EP (1) EP2844043B1 (ru)
JP (1) JP6292484B2 (ru)
RU (1) RU2503079C1 (ru)
WO (1) WO2013162419A2 (ru)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106920732B (zh) * 2015-12-25 2018-10-16 中微半导体设备(上海)有限公司 一种电极结构及icp刻蚀机

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5231334A (en) * 1992-04-15 1993-07-27 Texas Instruments Incorporated Plasma source and method of manufacturing
JP2659919B2 (ja) * 1994-01-13 1997-09-30 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション プラズマの不均一性を補正するプラズマ装置
US5580385A (en) 1994-06-30 1996-12-03 Texas Instruments, Incorporated Structure and method for incorporating an inductively coupled plasma source in a plasma processing chamber
JPH10302996A (ja) * 1997-04-23 1998-11-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマ処理方法及び装置
JP3676569B2 (ja) * 1998-05-18 2005-07-27 日本碍子株式会社 プラズマ発生電極装置およびプラズマ発生装置
US6164241A (en) * 1998-06-30 2000-12-26 Lam Research Corporation Multiple coil antenna for inductively-coupled plasma generation systems
RU2171555C1 (ru) * 2000-03-06 2001-07-27 Берлин Евгений Владимирович Высокочастотный газоразрядный источник ионов высокой плотности с низкоимпедансной антенной
JP2002151481A (ja) * 2000-08-30 2002-05-24 Samco International Inc プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP3847184B2 (ja) * 2002-03-14 2006-11-15 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
FR2842388B1 (fr) * 2002-07-11 2004-09-24 Cit Alcatel Procede et dispositif pour la gravure de substrat par plasma inductif a tres forte puissance
US7255774B2 (en) * 2002-09-26 2007-08-14 Tokyo Electron Limited Process apparatus and method for improving plasma production of an inductively coupled plasma
KR100964398B1 (ko) 2003-01-03 2010-06-17 삼성전자주식회사 유도결합형 안테나 및 이를 채용한 플라즈마 처리장치
JP2005311120A (ja) * 2004-04-22 2005-11-04 Sanyo Electric Co Ltd 誘導結合型プラズマ発生装置およびそれを用いたドライエッチング装置
US20060081185A1 (en) * 2004-10-15 2006-04-20 Justin Mauck Thermal management of dielectric components in a plasma discharge device
KR20060073737A (ko) 2004-12-24 2006-06-29 삼성전자주식회사 플라즈마 장치
US7591232B2 (en) * 2006-03-31 2009-09-22 Tokyo Electron Limited Internal coil with segmented shield and inductively-coupled plasma source and processing system therewith
US7758718B1 (en) * 2006-12-29 2010-07-20 Lam Research Corporation Reduced electric field arrangement for managing plasma confinement
JP4784624B2 (ja) * 2007-12-20 2011-10-05 三菱電機株式会社 殺菌装置とその装置を用いた空調機、手乾燥機及び加湿器
GB0919274D0 (en) * 2009-11-03 2009-12-16 Univ The Glasgow Plasma generation apparatus and use of plasma generation apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
EP2844043A2 (en) 2015-03-04
WO2013162419A3 (ru) 2014-01-03
EP2844043A4 (en) 2015-11-25
EP2844043B1 (en) 2020-02-26
US9704691B2 (en) 2017-07-11
RU2503079C1 (ru) 2013-12-27
JP6292484B2 (ja) 2018-03-14
US20150279620A1 (en) 2015-10-01
JP2015521342A (ja) 2015-07-27
WO2013162419A2 (ru) 2013-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016091812A5 (ru)
CN106714435B (zh) 一种大面积大气压等离子体射流产生装置
RU2013129243A (ru) Способ и устройство для транспортировки и модификации углеводородного ресурса
RU2013138444A (ru) Легкий искробезопасный электрод для производства озона
RU2012116222A (ru) Генератор плазмы (варианты)
MX342253B (es) Dispositivo para la generacion de plasma que tiene un intervalo alto a lo largo de un eje por la resonancia ciclotronica de electrones (ecr) de un medio gaseoso.
EA033165B1 (ru) Электролизер с содержащимся в укрытии анодным узлом
RU2011127344A (ru) Плазменный электролизер
RU2011150332A (ru) Газоразрядный коммутатор
RU2016116423A (ru) Коммутирующее сильноточное устройство
RU2012136022A (ru) Переход высокочастотный
RU2012100143A (ru) Генератор высокочастотного излучения на основе разряда с полым катодом
IN2015DN01062A (ru)
RU2014110349A (ru) Ионный двигатель
RU2016113321A (ru) Устройство для генерации плазмы высокочастотного разряда
RU2561235C1 (ru) Датчик вакуума
RU2013113481A (ru) Устройство для плазмохимического травления
RU2012136495A (ru) Генератор высокочастотного излучения на основе разряда с полым катодом (варианты)
RU2015144841A (ru) Плазмотрон, устройство дозирования плазменного материала и способ формирования плазмы
FR2972858B1 (fr) Synthetiseur d'impedance coaxial
RU2013101065A (ru) Переход низкочастотный
RU2013156073A (ru) Устройство для нанесения покрытия на порошки сверхпроводящих соединений
RU2012135063A (ru) Газоразрядный прибор
RU2012146484A (ru) Ускорительная трубка
CN105636329B (zh) 一种用于小空间的等离子体产生装置

Legal Events

Date Code Title Description
HE9A Changing address for correspondence with an applicant
QB4A Licence on use of patent

Free format text: LICENCE

Effective date: 20150821