RU2011151923A - Способ изготовления диэлектрического слоя - Google Patents
Способ изготовления диэлектрического слоя Download PDFInfo
- Publication number
- RU2011151923A RU2011151923A RU2011151923/28A RU2011151923A RU2011151923A RU 2011151923 A RU2011151923 A RU 2011151923A RU 2011151923/28 A RU2011151923/28 A RU 2011151923/28A RU 2011151923 A RU2011151923 A RU 2011151923A RU 2011151923 A RU2011151923 A RU 2011151923A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- formation
- gas mixture
- spiral
- dielectric
- namely
- Prior art date
Links
Landscapes
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
1. Способ изготовления диэлектрического слоя, заключающийся в том, что на подложку осаждают слой диэлектрика из газовой смеси, содержащей компоненты, необходимые для образования диэлектрика, в неизотермическом режиме, пропуская газовую смесь через нагреваемую спираль, отличающийся тем, что используют спираль из углеродного материала, характеризующуюся развитой поверхностью, пропускают газовую смесь, содержащую компоненты, необходимые для образования диэлектрика оксинитрида кремния при условиях, соответствующих формированию оксинитрида кремния требуемой толщины, с составом по кислороду и азоту, обеспечивающим требуемую компенсацию внутренних механических напряжений.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют спираль из углеродного материала, характеризующуюся развитой поверхностью, а именно, выполненную из отдельных углеродных нитей, свитых в спираль.3. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют подложку из кремния со сформированным на его поверхности слоем полиимида, выполняющего функцию жертвенного слоя.4. Способ по п.1, отличающийся тем, что пропускают газовую смесь, содержащую компоненты, необходимые для образования диэлектрика оксинитрида кремния, при условиях, соответствующих формированию оксинитрида кремния с составом по кислороду и азоту, обеспечивающим компенсацию внутренних механических напряжений, а именно смесь из 4,5% раствора моносилана SiHв аргоне и аммиака NHс содержанием воды от 0,5 до 1,0%, с соотношением SiH/NHпо объему от 0,3 до 0,01, газовую смесь пропускают через нагреваемую спираль из углеродного материала до температуры от 1900 до 2200°C.5. Способ по п.1, отличающийся тем, что неизотерм
Claims (6)
1. Способ изготовления диэлектрического слоя, заключающийся в том, что на подложку осаждают слой диэлектрика из газовой смеси, содержащей компоненты, необходимые для образования диэлектрика, в неизотермическом режиме, пропуская газовую смесь через нагреваемую спираль, отличающийся тем, что используют спираль из углеродного материала, характеризующуюся развитой поверхностью, пропускают газовую смесь, содержащую компоненты, необходимые для образования диэлектрика оксинитрида кремния при условиях, соответствующих формированию оксинитрида кремния требуемой толщины, с составом по кислороду и азоту, обеспечивающим требуемую компенсацию внутренних механических напряжений.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют спираль из углеродного материала, характеризующуюся развитой поверхностью, а именно, выполненную из отдельных углеродных нитей, свитых в спираль.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют подложку из кремния со сформированным на его поверхности слоем полиимида, выполняющего функцию жертвенного слоя.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что пропускают газовую смесь, содержащую компоненты, необходимые для образования диэлектрика оксинитрида кремния, при условиях, соответствующих формированию оксинитрида кремния с составом по кислороду и азоту, обеспечивающим компенсацию внутренних механических напряжений, а именно смесь из 4,5% раствора моносилана SiH4 в аргоне и аммиака NH3 с содержанием воды от 0,5 до 1,0%, с соотношением SiH4/NH3 по объему от 0,3 до 0,01, газовую смесь пропускают через нагреваемую спираль из углеродного материала до температуры от 1900 до 2200°C.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что неизотермический режим реализуют в неизотермическом реакторе из нержавеющей стали при давлении в реакторе от 10 до 30 Па, температуре в реакторе от 200 до 300°C.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что пропускают газовую смесь, содержащую компоненты, необходимые для образования диэлектрика оксинитрида кремния, при условиях, соответствующих формированию оксинитрида кремния требуемой толщины, а именно в течение времени от 1 до 1,5 мин, обеспечивающем толщину от 1280 до 1890 Å.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2011151923/28A RU2498445C2 (ru) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | Способ изготовления диэлектрического слоя |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2011151923/28A RU2498445C2 (ru) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | Способ изготовления диэлектрического слоя |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2011151923A true RU2011151923A (ru) | 2013-06-27 |
RU2498445C2 RU2498445C2 (ru) | 2013-11-10 |
Family
ID=48701049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2011151923/28A RU2498445C2 (ru) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | Способ изготовления диэлектрического слоя |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2498445C2 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2554304C2 (ru) * | 2013-07-16 | 2015-06-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Петрозаводский государственный университет" | Способ получения чувствительного элемента матрицы теплового приемника |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5559729A (en) * | 1978-10-27 | 1980-05-06 | Fujitsu Ltd | Forming method of semiconductor surface insulating film |
SU1630570A1 (ru) * | 1988-08-10 | 2000-05-20 | Институт Физики Полупроводников Со Ан Ссср | Способ получения слоев оксинитрида кремния |
RU2029412C1 (ru) * | 1992-05-08 | 1995-02-20 | Институт физики полупроводников СО РАН | Способ получения слоев диоксида кремния |
US20050130448A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-06-16 | Applied Materials, Inc. | Method of forming a silicon oxynitride layer |
-
2011
- 2011-12-19 RU RU2011151923/28A patent/RU2498445C2/ru not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2554304C2 (ru) * | 2013-07-16 | 2015-06-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Петрозаводский государственный университет" | Способ получения чувствительного элемента матрицы теплового приемника |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2498445C2 (ru) | 2013-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SG146567A1 (en) | Improved gap-fill depositions in the formation of silicon containing dielectric materials | |
EP2618365A3 (en) | Method for depositing a chlorine-free conformal SiN film | |
TW200746300A (en) | Method of forming oxide film and oxide deposition apparatus | |
JP2009212531A5 (ru) | ||
EA201100960A1 (ru) | Способ увеличения содержания монооксида углерода в синтез-газе | |
RU2011133919A (ru) | Процесс получения поликристаллического кремния | |
EA201370215A1 (ru) | Устройство и способы для удаления дёгтя из синтез-газа | |
EA200870558A1 (ru) | Способы получения стержней поликристаллического кремния высокой степени чистоты с использованием металлического средства-основы | |
NO20083889L (no) | Katalysator og hydrogenbehandlingsprosess | |
WO2010048607A3 (en) | Enhanced optical properties of chemical vapor deposited single crystal diamond by low-pressure/high-temperature annealing | |
EA201400498A1 (ru) | Способ получения синтез-газа для производства метанола | |
EA201001601A1 (ru) | Способ выращивания монокристаллических алмазов | |
RU2013132205A (ru) | Способ получения ненасыщенного нитрила | |
GB201205801D0 (en) | Process | |
UA92902C2 (ru) | Способ получения пропилена из пропана | |
RU2011105001A (ru) | Способ нанесения покрытия и антикоррозионное покрытие для компонентов турбин | |
RU2011151923A (ru) | Способ изготовления диэлектрического слоя | |
JP6236709B2 (ja) | シリコン窒化膜の製造方法及びシリコン窒化膜 | |
JP2016082010A5 (ru) | ||
EA201391430A1 (ru) | Способ и установка для получения мочевины с нулевыми выбросами | |
EA201170857A1 (ru) | Способ и устройство для покрытия стекла | |
MX2018005026A (es) | Proceso de desplazamiento de gas de agua. | |
WO2011104386A3 (de) | Verfahren zur herstellung von ammoniak | |
JP5731841B2 (ja) | シリコン窒化膜の形成方法 | |
WANG et al. | A preliminary study on carbon dioxide, methane and nitrous oxide fluxes from intertidal flat wetlands of the Yellow River estuary |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20161220 |