RU2007112511A - Гибкий нано-впечатывающий штамп - Google Patents
Гибкий нано-впечатывающий штамп Download PDFInfo
- Publication number
- RU2007112511A RU2007112511A RU2007112511/28A RU2007112511A RU2007112511A RU 2007112511 A RU2007112511 A RU 2007112511A RU 2007112511/28 A RU2007112511/28 A RU 2007112511/28A RU 2007112511 A RU2007112511 A RU 2007112511A RU 2007112511 A RU2007112511 A RU 2007112511A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- imprinting
- nano
- stamp
- parts
- imprinting stamp
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00436—Shaping materials, i.e. techniques for structuring the substrate or the layers on the substrate
- B81C1/00444—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate
- B81C1/0046—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate using stamping, e.g. imprinting
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/887—Nanoimprint lithography, i.e. nanostamp
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Printing Methods (AREA)
Claims (31)
1. Нано-впечатывающий штамп, содержащий основную деталь и первую и вторую впечатывающие части, причем первая и вторая впечатывающие части могут независимо смещаться в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа, отличающийся тем, что эффективная жесткость при изгибе первой и второй впечатывающих частей значительно превышает эффективную жесткость при изгибе основной детали в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа.
2. Нано-впечатывающий штамп, содержащий первую и вторую впечатывающие части, объединенные с основной деталью, причем первая и вторая впечатывающие части механически слабо связаны в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа, отличающийся тем, что эффективная жесткость при изгибе первой и второй впечатывающих частей значительно превышает эффективную жесткость при изгибе основной детали в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа.
3. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что отношение (rs) между эффективной жесткостью при изгибе первой и (или) второй впечатывающих частей и эффективной жесткостью при изгибе основной детали в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа, имеет минимальное значение, выбранное из группы, состоящей из 10, 20, 30,40, 50, 60, 70, 80, 90 или 100.
4. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части могут независимо смещаться в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа, с эластичными смещениями первой и (или) второй впечатывающих частей.
5. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части нано-впечатывающего штампа могут независимо смещаться в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа, со смещениями, меньшими средней высоты впечатываемого литографического рисунка.
6. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части нано-впечатывающего штампа могут независимо смещаться в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа, со смещениями, практически равными средней высоте впечатываемого литографического рисунка или превышающими ее.
7. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части нано-впечатывающего штампа могут независимо смещаться в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа, со смещениями, практически равными или меньшими изменению толщины запечатываемой подложки.
8. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части нано-впечатывающего штампа могут независимо смещаться в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа, со смещениями первой и (или) второй впечатывающих частей в пределах от 1 нм до 10 мкм, предпочтительно, 5-500 нм, предпочтительнее, 10-100 нм.
9. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что изгиб нано-впечатывающего штампа при впечатывании локализуется, главным образом, в основной детали.
10. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части нано-впечатывающего штампа практически фиксируются относительно друг друга в направлении, практически перпендикулярном направлению впечатывания впечатывающего штампа.
11. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, отличающийся тем, что основная деталь представляет собой мембрану, соединяющую первую и вторую впечатывающие части.
12. Нано-впечатывающий штамп по п.11, отличающийся тем, что по меньшей мере одна - первая или вторая - из впечатывающих частей имеет толщину (Т), превышающую толщину (t) мембраны в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа.
13. Нано-впечатывающий штамп по п.12, отличающийся тем, что отношение (rt) между толщиной (Т) по меньшей мере одной впечатывающей части и толщиной мембраны (t) имеет минимальное значение, выбранное из группы, состоящей из 1,5; 2; 2,5; 3; 3,5; 4; 4,5; 5; 5,5; 6; 6,5; 7; 8; 9 или 10.
14. Нано-впечатывающий штамп по п.11, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части содержат первую часть с литографическим рисунком.
15. Нано-впечатывающий штамп по п.14, отличающийся тем, что литографический рисунок размещен на мезаструктуре.
16. Нано-впечатывающий штамп по п.11, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части содержат вторую часть, образующую часть мембраны.
17. Нано-впечатывающий штамп по п.16, отличающийся тем, что вторая часть изготовлена в виде объединенной части мембраны.
18. Нано-впечатывающий штамп по п.11, отличающийся тем, что первая и вторая впечатывающие части содержат третью часть.
19. Нано-впечатывающий штамп по п.18, отличающийся тем, что третья часть выступает из мембраны в направлении, противоположном направлению впечатывания.
20. Нано-впечатывающий штамп по п.18, отличающийся тем, что, по крайней мере, третья часть заключена в эластичной задней матрице.
21. Нано-впечатывающий штамп по п.20, отличающийся тем, что эластичная задняя матрица представляет собой эластомерный полимер.
22. Нано-впечатывающий штамп по п.20, отличающийся тем, что эластичная задняя матрица представляет собой замкнутую текучую среду.
23. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, содержащий датчики, которые могут обнаруживать смещение по меньшей мере одной - первой или второй - из впечатывающих частей в направлении, практически параллельном направлению впечатывания впечатывающего штампа.
24. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, изготовленный способом микроэлектронной технологии.
25. Нано-впечатывающий штамп по п.1 или 2, изготовленный, главным образом, из материала, имеющего модуль Юнга не менее 1 ГПа, предпочтительно, не менее 10 ГПа или, предпочтительнее, не менее 100 ГПа.
26. Нано-впечатывающий штамп по п.24, отличающийся тем, что впечатывающий штамп содержит полупроводниковый материал.
27. Способ впечатывания литографического рисунка в воспринимающую подложку с использованием нано-впечатывающего штампа по п.1 или 2.
28. Способ впечатывания литографического рисунка в воспринимающую подложку по п.27, отличающийся тем, что давление при впечатывании имеет приблизительное минимальное значение, выбранное из группы, состоящей из 10, 50, 100, 250 или 300 кПа.
29. Способ по п.27, отличающийся тем, что впечатывающий штамп прижимают к воспринимающей подложке устройством с параллельным расположением пластин.
30. Способ по п.27, отличающийся тем, что впечатывающий штамп прижимают к воспринимающей подложке устройством с воздушной подушкой.
31. Способ по п.27, отличающийся тем, что воспринимающую подложку выполняют с изогнутой вовнутрь или наружу кривизной.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DKPA200401354 | 2004-09-08 | ||
| DKPA200401354 | 2004-09-08 | ||
| US61252004P | 2004-09-24 | 2004-09-24 | |
| US60/612,520 | 2004-09-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2007112511A true RU2007112511A (ru) | 2008-10-20 |
| RU2365960C2 RU2365960C2 (ru) | 2009-08-27 |
Family
ID=39062428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2007112511/28A RU2365960C2 (ru) | 2004-09-08 | 2005-09-07 | Гибкий нано-впечатывающий штамп |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20070106683A (ru) |
| AT (1) | ATE472749T1 (ru) |
| BR (1) | BRPI0515058A (ru) |
| DE (1) | DE602005022084D1 (ru) |
| IL (1) | IL181718A (ru) |
| RU (1) | RU2365960C2 (ru) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2476917C1 (ru) * | 2011-08-12 | 2013-02-27 | Открытое акционерное общество "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон" | Способ изготовления штампа для наноимпринт литографии |
| TWI665078B (zh) * | 2013-07-22 | 2019-07-11 | 皇家飛利浦有限公司 | 製造圖案化印模以圖案化輪廓表面之方法、供在壓印微影製程中使用之圖案化印模、壓印微影方法、包括圖案化輪廓表面之物件及圖案化印模用於壓印微影之用法 |
| KR101581437B1 (ko) * | 2013-12-23 | 2015-12-30 | (재)한국나노기술원 | 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체의 형성방법 |
| WO2016045961A1 (en) * | 2014-09-22 | 2016-03-31 | Koninklijke Philips N.V. | Transfer method and apparatus and computer program product |
| KR101663629B1 (ko) * | 2015-11-20 | 2016-10-10 | (재)한국나노기술원 | 가변형 임프린트용 스탬프를 이용한 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체 |
| CN109313386B (zh) * | 2016-04-06 | 2022-06-28 | 皇家飞利浦有限公司 | 压印光刻印模的制作和使用方法 |
-
2005
- 2005-09-07 KR KR1020077008103A patent/KR20070106683A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-09-07 DE DE602005022084T patent/DE602005022084D1/de active Active
- 2005-09-07 BR BRPI0515058-2A patent/BRPI0515058A/pt not_active Application Discontinuation
- 2005-09-07 AT AT05777919T patent/ATE472749T1/de active
- 2005-09-07 RU RU2007112511/28A patent/RU2365960C2/ru not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-03-05 IL IL181718A patent/IL181718A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE602005022084D1 (de) | 2010-08-12 |
| IL181718A0 (en) | 2007-07-04 |
| BRPI0515058A (pt) | 2008-07-01 |
| IL181718A (en) | 2011-09-27 |
| RU2365960C2 (ru) | 2009-08-27 |
| KR20070106683A (ko) | 2007-11-05 |
| ATE472749T1 (de) | 2010-07-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2007112511A (ru) | Гибкий нано-впечатывающий штамп | |
| CN103365077B (zh) | 用于软光刻的硅酮橡胶材料 | |
| ES2314459T3 (es) | Procedimiento para la fabricacion de un producto curado de resina fotosensible. | |
| ATE467507T1 (de) | Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren | |
| JP4733134B2 (ja) | 柔軟なナノインプリントスタンプ | |
| ES2577431T3 (es) | Composición de caucho de silicona termo-endurecible para laminados de caucho | |
| WO2006024908A3 (en) | Imprint lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby | |
| WO2002067055A3 (en) | Template for room temperature, low pressure micro- and nano-imprint lithography | |
| UA95373C2 (ru) | Покровная композиция для термочувствительных литографических печатных форм, негативная термочувствительная литографическая печатная форма и водорастворимый полимерный краситель | |
| WO2008117738A1 (ja) | 水現像可能な感光性平版印刷版材料 | |
| KR20060034694A (ko) | 임프린트 리소그래피 공정을 위한 확대 및 뒤틀림 보정용시스템 | |
| JP2005508516A5 (ru) | ||
| EP1724639A3 (en) | Imprint lithography | |
| ATE526156T1 (de) | Bildaufzeichnungsmaterial, flachdruckplattenvorläufer und flachdruckverfahren damit | |
| Schleunitz et al. | Hybrid working stamps for high speed roll-to-roll nanoreplication with molded sol–gel relief on a metal backbone | |
| ATE448089T1 (de) | Stanzzylinder | |
| EP2026131A3 (en) | Lithography meandering order | |
| WO2004107403A3 (en) | Imprinting polymer film on patterned substrate | |
| TW200744850A (en) | Release sheet | |
| DE602004009846D1 (de) | Flachdruckplattenvorläufer | |
| ES2633653T3 (es) | Procedimiento y conjunto de fabricación de una hoja absorbente y hoja absorbente obtenida | |
| CN106003880B (zh) | 复制膜及其制造方法 | |
| DE60305846D1 (de) | Druckempfindliche Klebefolie für medizinische Zwecke und Verfahren zu deren Herstellung | |
| EP1972440A3 (en) | Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same | |
| EP1561597A3 (en) | Planographic printing plate material, printing plate and printing method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20140908 |