RU2007110100A - Способ плазменной обработки поверхности изделия - Google Patents

Claims (8)

1. Способ плазменной обработки поверхности изделия, основанный на формировании плазменной струи в камере плазменной установки в среде рабочего газа под действием высокого напряжения, приложенного к аноду и катоду, и воздействии высокотемпературной плазмой на поверхность изделия с внедрением в его поверхностный слой компонента имплантируемого материала, отличающийся тем, что плазменную струю формируют сгустками в импульсном режиме со скоростью истечения плазменной струи 10⁵-10⁶ м/с, температурой 0,1-3,0 КЭВ, плотностью мощности потока плазменной струи 10⁶-10¹⁰ Вт/см², причем концентрацию легирующего компонента в поверхностном слое задают количеством воздействующих импульсов и длительностью воздействия отдельного импульса.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что воздействующие импульсы формируют с частотой в пределах 0,01-10⁵ Гц.

3. Способ по п.1, отличающийся тем, что воздействующий импульс формируют с длительностью от 10^-8 до 10^-6 с.

4. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве источника легирующего компонента используют материал анода.

5. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве источника легирующего компонента используют материал вставки, которую располагают в аноде на оси плазменной струи.

6. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве источников легирующего компонента используют материал вставок, которые располагают в аноде и за полым обрабатываемым изделием на оси плазменной струи.

7. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве источника легирующего компонента используют материал вставки, которую располагают на оси плазменной струи между полым анодом и обрабатываемым изделием.

8. Способ по п.1, отличающийся тем, что обработку внешних и внутренних поверхностей протяженных изделий осуществляют в два этапа, причем на втором этапе обработки ориентацию протяженного изделия изменяют на 180° по отношению к его ориентации на первом этапе.