RU2002127865A - MAGNETRON SPRAYING SYSTEM - Google Patents

MAGNETRON SPRAYING SYSTEM

Info

Publication number
RU2002127865A
RU2002127865A RU2002127865/02A RU2002127865A RU2002127865A RU 2002127865 A RU2002127865 A RU 2002127865A RU 2002127865/02 A RU2002127865/02 A RU 2002127865/02A RU 2002127865 A RU2002127865 A RU 2002127865A RU 2002127865 A RU2002127865 A RU 2002127865A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
magnetic
target cathode
spraying system
permanent magnets
magnetron sputtering
Prior art date
Application number
RU2002127865/02A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2242821C2 (en
Inventor
Николай Семенович Сочугов
Андрей Александрович Соловьев
Александр Николаевич Захаров
Original Assignee
Институт сильноточной электроники СО РАН
Filing date
Publication date
Application filed by Институт сильноточной электроники СО РАН filed Critical Институт сильноточной электроники СО РАН
Priority to RU2002127865/02A priority Critical patent/RU2242821C2/en
Priority claimed from RU2002127865/02A external-priority patent/RU2242821C2/en
Publication of RU2002127865A publication Critical patent/RU2002127865A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2242821C2 publication Critical patent/RU2242821C2/en

Links

Claims (2)

1. Магнетронная распылительная система, содержащая анод и протяженные катод-мишень с магнитным блоком, состоящим из магнитопровода и постоянных магнитов, образующих над поверхностью катода-мишени замкнутый контур силовых линий магнитного поля, отличающаяся тем, что величина индукции магнитного поля постоянных магнитов вблизи концов магнитного блока на 5-15% выше, чем в центральной части.1. A magnetron sputtering system containing an anode and an extended target cathode with a magnetic block consisting of a magnetic circuit and permanent magnets forming a closed magnetic field line circuit above the target cathode, characterized in that the magnitude of the magnetic field induction of the permanent magnets near the ends of the magnetic block is 5-15% higher than in the central part. 2. Магнетронная распылительная система по п.1, отличающаяся тем, что катод-мишень выполнен в виде вращающегося цилиндра, а магнитный блок неподвижно расположен внутри него.2. The magnetron sputtering system according to claim 1, characterized in that the target cathode is made in the form of a rotating cylinder, and the magnetic unit is stationary inside it.
RU2002127865/02A 2002-10-17 2002-10-17 Magnetron spraying system RU2242821C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2002127865/02A RU2242821C2 (en) 2002-10-17 2002-10-17 Magnetron spraying system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2002127865/02A RU2242821C2 (en) 2002-10-17 2002-10-17 Magnetron spraying system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2002127865A true RU2002127865A (en) 2004-04-10
RU2242821C2 RU2242821C2 (en) 2004-12-20

Family

ID=34387219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2002127865/02A RU2242821C2 (en) 2002-10-17 2002-10-17 Magnetron spraying system

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2242821C2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120067717A1 (en) * 2010-09-17 2012-03-22 Guardian Industries Corp. Method of co-sputtering alloys and compounds using a dual C-MAG cathode arrangement and corresponding apparatus
RU2595266C2 (en) * 2014-10-24 2016-08-27 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" Ion sputtering device (versions)
GEP201606512B (en) * 2015-05-28 2016-07-11 Planar magnetron sputter
RU2726223C1 (en) * 2019-11-28 2020-07-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН") Magnetron sprayer
RU2748443C1 (en) * 2020-06-15 2021-05-25 Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП") Magnetron sputtering system
CN115287614A (en) * 2022-07-22 2022-11-04 宣城开盛新能源科技有限公司 Method for improving TCO film thickness uniformity of CIGS chip and film coating device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60042554D1 (en) Rotor arrangement with superconducting magnet coil
DE59109190D1 (en) Device for coating substrates
DE69613061D1 (en) Magnetic circuit arrangement with opposing permanent magnets
RU2002127865A (en) MAGNETRON SPRAYING SYSTEM
EP1422738A3 (en) Magnetron for microwave oven
EP1286379A3 (en) Magnetron
UA81637C2 (en) Cooling of the electrical coils of an electromagnetic stirrer
EP1426996A3 (en) Magnetron and microwave oven and high frequency heating apparatus each equipped with the same
WO2005048284A3 (en) Rotating sputtering magnetron
RU96113838A (en) MAGNETRON SPRAYING SYSTEM
RU98105222A (en) MAGNETRON SPRAYING SYSTEM
RU2001115937A (en) MAGNETRON SPRAYING SYSTEM WITH VARIABLE MAGNETIC FIELD PARAMETERS
DE69703053D1 (en) Electromagnetic transducer with multipolar permanent magnets
RU96109638A (en) MAGNETRON
RU2002109324A (en) Hollow cathode ion source
JPS5779170A (en) Target for magnetron sputtering
RU2000130437A (en) Piezomagnetic Geophone
RU2010131089A (en) MAGNETRON SPRAYING SYSTEM
RU94002199A (en) ELECTRIC ENERGY GENERATOR
KR920007046A (en) Structure of magnetron
RU97105448A (en) MAGNETRON SPRAYING DEVICE
RU96110833A (en) VACUUM-ARC PLASMA SOURCE
RU2000109774A (en) METHOD OF INFLUENCE ON CELLS
RU2004111083A (en) MAGNETIC MOTOR
RU2001124408A (en) Circuit breaker