RU2001106945A - Пространственный модулятор света с оптической адресацией - Google Patents

Пространственный модулятор света с оптической адресацией

Info

Publication number
RU2001106945A
RU2001106945A RU2001106945/28A RU2001106945A RU2001106945A RU 2001106945 A RU2001106945 A RU 2001106945A RU 2001106945/28 A RU2001106945/28 A RU 2001106945/28A RU 2001106945 A RU2001106945 A RU 2001106945A RU 2001106945 A RU2001106945 A RU 2001106945A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layers
light
layer
dielectric mirror
refractive index
Prior art date
Application number
RU2001106945/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Николай Александрович Феоктистов
Аркадий Павлович Онохов
Елена Анатольевна Коншина
Original Assignee
Квинетик Лимитед
Filing date
Publication date
Application filed by Квинетик Лимитед filed Critical Квинетик Лимитед
Priority to GB0114972A priority Critical patent/GB2373340A/en
Priority to EP02702535A priority patent/EP1379913B1/en
Priority to DE60205022T priority patent/DE60205022T2/de
Priority to US10/471,472 priority patent/US7092046B2/en
Priority to AT02702535T priority patent/ATE299601T1/de
Priority to PCT/GB2002/000958 priority patent/WO2002073303A1/en
Publication of RU2001106945A publication Critical patent/RU2001106945A/ru
Priority to US12/192,274 priority patent/USRE43642E1/en

Links

Claims (22)

1. Пространственный модулятор света с оптической адресацией (ПМСОА), содержащий первую прозрачную подложку; первый прозрачный электрод, созданный на указанной первой прозрачной подложке; фотопроводящий слой, сформированный на первом прозрачном электроде и состоящий из аморфного гидрогенизированного карбида кремния; светопоглощающий слой, сформированный на указанном фотопроводящем слое и состоящий из аморфного гидрогенизированного углерода; слой, представляющий собой диэлектрическое зеркало, выполненный в виде многослойной структуры, сформированной на указанном светопоглощающем слое; вторую прозрачную подложку, на которой создан второй прозрачный электрод, а между указанным вторым электродом и диэлектрическим зеркалом находятся слой жидкого кристалла и средство, осуществляющее его ориентацию.
2. Модулятор, отличающийся тем, что указанный слой, представляющий собой многослойное диэлектрическое зеркало, содержит чередующиеся слои из аморфного гидрогенизированного карбида кремния (a-Si:C:H), имеющие более высокий показатель преломления, и слои из аморфного гидрогенизированного углерода (а-С:Н), имеющие более низкий показатель преломления.
3. Модулятор по п.2, отличающийся, тем что слои диэлектрического многослойного зеркала, выполненные из а-Si:C:H, имеют более высокий показатель преломления в диапазоне от 3,7 до 3,3.
4. Модулятор по п.2, отличающийся тем, что слои диэлектрического многослойного зеркала, выполненные из а-С:Н, имеют более низкий показатель преломления в диапазоне от 1,5 до 1,8.
5. Модулятор по п.2, отличающийся тем, что слои диэлектрического многослойного зеркала, выполненные из а-С:Н, имеют более низкий показатель преломления в диапазоне от 1,6 до 1,7.
6. Модулятор по одному из пп.2 - 5, отличающийся тем, что слои, представляющие собой диэлектрическое зеркало, имеют проводимость в диапазоне от 10-9 до 10-12 Ом-1см-1.
7. Модулятор по одному из пп.1 - 6, отличающийся тем, что диэлектрическое зеркало имеет семь слоев.
8. Модулятор по любому из пп.1 - 7, отличающийся тем, что светопоглощающий слой имеет толщину в пределах от 0,4 до 0,6 мкм.
9. Модулятор по одному из пп.2 - 7, отличающийся тем, что по меньшей мере один из слоев диэлектрического зеркала, имеющих более низкий показатель преломления, выполнен таким образом, что осуществляет частичное поглощение света.
10. Модулятор по одному из пп.1 - 9, отличающийся тем, что показатель преломления слоев диэлектрического зеркала, выполненных из a-Si:C:H, равен 3,5, а показатель преломления слоев диэлектрического зеркала, выполненных из а-С:Н, равен 1,6.
11. Способ изготовления пространственного модулятора света, с оптической адресацией (ПМСОА) содержащий следующие операции: на первой прозрачной подложке создают первый прозрачный электрод; на первом прозрачном электроде формируют фотопроводящий слой из аморфного гидрогенизированного карбида кремния (a-Si-C:H); на указанном фотопроводящем слое формируют светопоглощающий слой из аморфного гидрогенизированного углерода (а-С:Н); формируют многослойное диэлектрическое зеркало, выполненное посредством слоев из a-Si:C:H, имеющих более высокий показатель преломления, которые чередуются со слоями из а-С:Н, имеющими более низкий показатель преломления, причем указанное зеркало формируют на указанном светопоглощающем слое.
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что указанный фотоприводящий слой формируют из газообразного вещества, содержащего силан (SiH4), водород (Н2) и один или более газов: метан (СН4) и ацетилен (C2H2).
13. Способ по одному из пп.11 или 12, отличающийся тем, что указанные слои диэлектрического зеркала, имеющие более высокий показатель преломления, формируют из сигнала (SiH4), водорода (H2) и по меньшей мере одного из газов: метана (СН4) или ацетилена (C2H2).
14. Способ по одному из пп.11 - 13, отличающийся тем, что указанные слои диэлектрического зеркала, имеющие более низкий показатель преломления, формируют из по меньшей мере одного из газов: метана (СН4) или ацетилена (C2H2) и любого газообразного или жидкого вещества, представляющего собой углеводород.
15. Способ по одному из пп.11 - 14, отличающийся тем, что указанный светопоглощающий слой формируют из ацетилена (C2H2) и любого газообразного или жидкого вещества, представляющего собой углеводород.
16. Способ по одному из пп.11 - 15, отличающийся тем, что слои формируют с использованием способа химического осаждения из газовой фазы.
17. Способ по п.16, отличающийся тем, что слои формируют с использованием способа химического осаждения из газовой фазы с плазменным возбуждением.
18. Способ по п.16, отличающийся тем, что слои формируют посредством способа химического осаждения из газовой фазы с использованием электронного парамагнитного резонанса.
19. Способ по п.11, отличающийся тем, что фотопроводящий слой, светопоглощающий слой и диэлектрическое зеркало изготавливают в рамках единого технологического процесса.
20. Система оптического отображения информации, содержащая пространственный модулятор света с оптической адресацией (ПМСОА) содержащая первую прозрачную подложку; первый прозрачный электрод, созданный на указанной прозрачной подложке; фотопроводящий слой, сформированный на первом прозрачном электроде и состоящий из аморфного гидрогенизированного карбида кремния; светопоглощающий слой, сформированный на указанном фотопроводящем слое и состоящий из аморфного гидрогенизированного углерода; слой, представляющий собой диэлектрическое зеркало, выполненный в виде многослойной структуры, сформированной на указанном светопоглощающем слое; вторую прозрачную подложку, на которой сформирован второй прозрачный электрод, а между указанным вторым электродом и диэлектрическим зеркалом находятся слой жидкого кристалла и средство осуществляющее его ориентацию.
21. Система по п.20, отличающаяся тем, что система отображения информации может осуществлять отображение голографической дифракционной решетки.
22. Система оптической обработки сигналов, содержащая пространственный модулятор света с оптической адресацией (ПМСОА) содержащая первую прозрачную подложку; первый прозрачный электрод, созданный на указанной прозрачной подложке; фотопроводящий слой, сформированный на первом прозрачном электроде и состоящий из аморфного гидрогенизированного карбида кремния; светопоглощающий слой, сформированный на указанном фотопроводящем слое и состоящий из аморфного гидрогенизированного углерода; слой, представляющий собой диэлектрическое зеркало, выполненный в виде многослойной структуры, сформированной на указанном светопоглощающем слое; вторую прозрачную подложку, на которой сформирован второй прозрачный электрод, а между указанным вторым электродом и диэлектрическим зеркалом находятся слой жидкого кристалла и средство осуществляющее его ориентацию.
RU2001106945/28A 2001-03-13 2001-03-13 Пространственный модулятор света с оптической адресацией RU2001106945A (ru)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0114972A GB2373340A (en) 2001-03-13 2001-06-20 Optically addressed spatial light modulator
EP02702535A EP1379913B1 (en) 2001-03-13 2002-03-11 Optically addressed spatial light modulator (oaslm) with dielectric mirror comprising layers of amorphous hydrogenated carbon
DE60205022T DE60205022T2 (de) 2001-03-13 2002-03-11 Optisch adressierbarer, ortsauflösender lichtmodulator (oaslm) mit dielektrischem spiegel, der schichten aus amorphem, hydriertem kohlenstoff enthält
US10/471,472 US7092046B2 (en) 2001-03-13 2002-03-11 Optically addressed spatial light modulator (OASLM) with dielectric mirror comprising layers of amorphous hydrogenated carbon
AT02702535T ATE299601T1 (de) 2001-03-13 2002-03-11 Optisch adressierbarer, ortsauflösender lichtmodulator (oaslm) mit dielektrischem spiegel,der schichten aus amorphem, hydriertem kohlenstoff enthält
PCT/GB2002/000958 WO2002073303A1 (en) 2001-03-13 2002-03-11 Optically addressed spatial light modulator (oaslm) with dielectric mirror comprising layers of amorphous hydrogenated carbon
US12/192,274 USRE43642E1 (en) 2001-03-13 2008-08-15 Optically addressed spatial light modulator (OASLM) with dielectric mirror comprising layers of amorphous hydrogenated carbon

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2001106945A true RU2001106945A (ru) 2003-05-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8871302B2 (en) Chemical vapor deposition of graphene on dielectrics
US20150270406A1 (en) Method for preparing graphene, thin-film transistor, array substrate, and display panel
Osgood et al. Optically induced microstructures in laser-photodeposited metal films
EP2725587A1 (en) Method for forming conductive film, conductive film, insulation method, and insulation film
KR910007084A (ko) 알킬 알루미늄 하이드라이드를 사용한 선택 퇴적을 이용한 퇴적막 형성 방법
US20150125972A1 (en) Method of manufacturing flexible display device
CN102959436A (zh) 波长板的制造方法
JPH084071B2 (ja) 堆積膜形成法
US20120132516A1 (en) Synthesis of Graphene Films Cycloalkanes
CN102629035A (zh) 薄膜晶体管阵列基板及其制造方法
KR970059848A (ko) 특정 최외곽면이 있는 표면 보호층을 갖는 수광 부재 및 이의 제조 방법
EP2396451A1 (en) Two layer barrier on polymeric substrate
Ahmed et al. The influence of fluorine doping on the optical properties of diamond-like carbon thin films
RU2001106945A (ru) Пространственный модулятор света с оптической адресацией
KR950032732A (ko) 다이아몬드 결정 및 그 제조방법
KR20070064765A (ko) 금속 배선, 이의 제조 방법, 이를 구비한 표시 기판 및표시 기판의 제조 방법
Chowdhury et al. Modulation of trion and exciton formation in monolayer WS2 by dielectric and substrate engineering
US4853309A (en) Photoreceptor for electrophotography with a-Si layers having a gradient concentration of doped atoms and sandwiching the photoconductive layer therebetween
JPS62132721A (ja) 高次シラン生成方法
Suzuki et al. The chemisorption of coronene on Si (001)-2× 1
JP2007140470A (ja) 垂直配向膜の製造方法および液晶表示装置
US5656363A (en) Layer construction with an organic layer and a transparent cover layer which is harder than the organic layer and process for its production
US4873165A (en) Electrophotographic photoreceptor having overlayer comprising carbon
US4923773A (en) Multilayered electrophotographic photoreceptor of amorphous silicon having a surface layer of nitrogenated amorphous silicon
WO2003098672A1 (en) Deposition method of insulating layers having low dielectric constant of semiconductor device