RU1812239C - Способ обработки металлических изделий в вакууме - Google Patents
Способ обработки металлических изделий в вакуумеInfo
- Publication number
- RU1812239C RU1812239C SU4840615A RU1812239C RU 1812239 C RU1812239 C RU 1812239C SU 4840615 A SU4840615 A SU 4840615A RU 1812239 C RU1812239 C RU 1812239C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma
- gas
- self
- gas discharge
- discharge
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 6
- 238000003754 machining Methods 0.000 title 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims abstract description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 22
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001994 activation Methods 0.000 abstract 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 abstract 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
Использование: нанесение износостойких покрытий с сохранением исходной шероховатости обрабатываемой поверхности, может быть использовано в машиностроении . Сущность изобретени : в способе обработки очистку, активацию и нагрев обрабатываемой поверхности осуществл ют ионами газов несамосто тельного газового разр да при плотности ионного тока 15-200 А/м2 и давлении газа 1,33- ,33 Па. Возбуждение несамосто тельного газового разр да осуществл ют путем инжек- ции электронов в рабочий объем из плазмы дугового разр да с нерасходуемым полым термоэмиссионным катодом, через который подают плазмообразующий газ. 1 табл.
Description
Изобретение относитс к области технологии получени износостойких покрытий в вакууме и.может найти применение в машиностроении и металлообработке дл повышени срока службы металлорежущих инструментов и деталей машин, подвергающихс износу.
Цель изобретени - повышение качества обработки за счет увеличени адгезии наносимых покрытий при сохранении исходной шероховатости обрабатываемой поверхности ,
Автономный дуговой разр д с нерасходуемым полым термоэмиссионным катодом зажигают дл создани плотной сильноионизованной плазмы с энерги ми электронов от единиц до дес тков электронвольт, Электроны с такими энерги ми наиболе.е эффективно ионизируют газ. Инжектиру плазму дугового разр да в рабочую камеру при давлении 1,33 -10-1,33 Па и прикладыва напр жение между электродами, раз- мещенными в камере, вынуждают электроны инжектированной плазмы дугового разр да ускор тьс и поддерживать ионизацию газа. При этом количество электронов в разр де возрастает, и в объеме возникает несамосто тельный газовый.разр д , который прекращаетс при прекращении инжекции плазмы в объем камеры. Проведение процесса бомбардировки повер- хности ионами несамосто тельного газового разр да при давлени х газа 1,33- ,33 Па обусловлено тем, что при давлении более 1,33 Па поток возвращаемых на очищаемую поверхность распыленных частиц существенно возрастает, что снижает производительность и качество очистки. При давлении газа менее 1,33 Па несамосто тельный разр д гаснет.
Подачу плазмообразующего газа через полый катод осуществл ют дл горени несамосто тельного газового разр да в интервале давлений 1,33 ,33 Па и плотностей тока 15-200 А/м2
В указанном диапазоне плотности ионного тока (15-200 А/м2) на поверхности изу делий обеспечиваетс достаточно высокое
СО
С
00
-А
N5 ГО СО Ю
качество очистки, т.к. могут быть обеспечены услови преобладани процесса ионного распылени загр знений над процессом адсорбции молекул остаточного газа, посто н- но поступающих на очищаемую поверхность.
Способ по сн етс таблицей.
Обработка изделий поданному способу осуществл етс следующим образом.
Обрабатываемые издели (например, фасонные резцы, изготовленные из стали Р6М5), очищенные от загр знений, размещают на подложкодержателе, изолированном от корпуса вакуумной камеры и подключенном к отрицательному полюсу источника электропитани , вакуумна камера откачиваетс до давлени 1,33 10-3 Па форвакуумным и диффузионным насосами, затем через систему газопитани в полый катод несамосто тельного дугового разр - да, изготовленный из тугоплавкого материала , подают плазмообразующий газ, например аргон, а на издели подают отрицательный потенциал относительно стенок вакуумной камеры. Полый катод несамосто- тельного дугового разр да разогревают до температур термоэмиссии и зажигают несамосто тельный дуговой разр д с нерасходуемым полым термоэмиссионным катодом.
Плазму, создаваемую в дуговом разр - де, инжектируют в вакуумную камеру, и зажигают несамосто тельный газовый разр д.
Электроны плазмы ускор ютс к аноду, сталкиваютс с атомами и дополнительно ионизуют газ, а ионы ускор ютс к катоду- изделию и бомбардируют его, очища , активиру и разогрева поверхность обрабатываемых изделий.
... . :.
Затем подачу плазмообразующего газа прекращают, дуговой разр д гаснет, гаснет несамосто тельный газовый разр д, подают в камеру реакционный газ (например, азот), осуществл ют испарение металла, на- пример, титана, образующего соединение с реакционным газом, производ т ионизацию его паров и осаждают покрытие типа TIN до толщины 5 мкм,
В насто щее врем на отечественных заводах примен ютс установки ПУСК, Булат , ННВ6.6-И1, в которых реализуетс способ обработки изделий, включающий бомбардировку поверхности изделий ионами , извлекаемыми из плазмы вакуумной дуги , при этом при бомбардировке происходит осаждение микрокапель материала катода на поверхность изделий и конденсаци покрытий типа TiN.
Покрыти , полученные по этому способу в этих установках, обладают шероховатостью 0,25-0,35 мкм. Микрокапельна фаза в покрыти х снижает их адгезию.
Применение данного способа позволит:
- повысить производительность процесса обработки изделий на 30-50%;
- повысить работоспособность изделий с покрыти ми в 1,5-2 раза.
Claims (3)
1. Способ обработки металлических изделий в вакууме, включающий подачу плазмообразующего газа в рабочую камеру, возбуждение газового разр да, очистку поверхности обрабатываемых изделий бомбардировкой ускоренными ионами плазмы газового разр да, нагрев изделий и конденсацию покрытий из плазмы металлов наносимых покрытий в среде реакционного газа, отличающийс тем, что, с целью повышени качества обработки за счет увеличени адгезии наносимых покрытий при сохранении исходной шероховатости обрабатываемой поверхности, газовый разр д возбуждают при давлении плазмообразующего газа 1,33-10 2-1,33 Па путем инжекции электронов из плазмы автономного несамосто тельного дугового разр да с полым нерасходуемым термоэмиссионным катодом, а очистку поверхности и ее нагрев осуществл ют при плотности тока 15-200 А/м.
2. Способ по п. 1,отличающийс тем, что горение газового разр да осуществл ют между стенками вакуумной камеры и обрабатываемыми издели ми. .
3. Способ по пп.1 и 2, о т л и ч а ю щ и й- с тем, что в качестве пдазмообразующего газа используют аргон, азот или их смесь с водородом.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU4840615 RU1812239C (ru) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Способ обработки металлических изделий в вакууме |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU4840615 RU1812239C (ru) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Способ обработки металлических изделий в вакууме |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU1812239C true RU1812239C (ru) | 1993-04-30 |
Family
ID=21521687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU4840615 RU1812239C (ru) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Способ обработки металлических изделий в вакууме |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU1812239C (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE202016008333U1 (de) | 2016-04-08 | 2017-08-01 | Andrey Senokosov | Einrichtung zur Reinigung von Steigrohren, insbesondere in Erdölausrüstungen |
-
1990
- 1990-06-18 RU SU4840615 patent/RU1812239C/ru active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Авторское свидетельство СССР №1048847, кл; С 23 С 14/32, 1987. Авторское свидетельство СССР № 997489, кл. С 23 С 14/00, 1985. * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE202016008333U1 (de) | 2016-04-08 | 2017-08-01 | Andrey Senokosov | Einrichtung zur Reinigung von Steigrohren, insbesondere in Erdölausrüstungen |
| DE102016106421A1 (de) | 2016-04-08 | 2017-10-12 | Andrey Senokosov | Reinigungsverfahren für Steigrohre und Einrichtung hierfür |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0726967B1 (en) | A method for generation of a discharge in own vapors of a radio frequency electrode for sustained self-sputtering and evaporation of the electrode | |
| Gavrilov et al. | New broad beam gas ion source for industrial application | |
| RU2472869C2 (ru) | Установка вакуумной обработки и способ вакуумной обработки | |
| US4197175A (en) | Method and apparatus for evaporating materials in a vacuum coating plant | |
| US5015493A (en) | Process and apparatus for coating conducting pieces using a pulsed glow discharge | |
| JP3652702B2 (ja) | プラズマ処理用線形アーク放電発生装置 | |
| Grigoriev et al. | Plasma-and beam-assisted deposition methods | |
| US5294322A (en) | Electric arc coating device having an additional ionization anode | |
| JPH02285072A (ja) | 加工物表面のコーティング方法及びその加工物 | |
| JP2009543951A (ja) | 電気絶縁皮膜の堆積方法 | |
| EP1746178B1 (en) | Device for improving plasma activity in PVD-reactors | |
| US3492215A (en) | Sputtering of material simultaneously evaporated onto the target | |
| RU2146724C1 (ru) | Способ нанесения композиционных покрытий | |
| RU1812239C (ru) | Способ обработки металлических изделий в вакууме | |
| JPH01129958A (ja) | 高密着窒化チタン膜形成方法 | |
| JP4497466B2 (ja) | 硬質窒化炭素膜の作製方法 | |
| JPH0357191B2 (ru) | ||
| US10083822B2 (en) | Physical vapour deposition coating device as well as a physical vapour deposition method | |
| CN114411099A (zh) | 一种真空镀膜系统及镀膜方法 | |
| CN114318249A (zh) | 一种无液滴的等离子体镀膜弧源结构、镀膜系统及镀膜方法 | |
| RU2145362C1 (ru) | Способ вакуумно-плазменного нанесения покрытий | |
| JPH03150353A (ja) | 反応性イオンプレーティング方法 | |
| KR100193365B1 (ko) | 금속표면에 질화티탄막을 형성하는 방법 | |
| FI66656C (fi) | Foerfarande foer tillverkning av titannitridbelaeggning vid lag temperatur med hjaelp av glimurladdning | |
| RU2567770C2 (ru) | Способ получения покрытий алмазоподобного углерода и устройство для его осуществления |