RU1644553C - Подложкодержатель - Google Patents

Подложкодержатель Download PDF

Info

Publication number
RU1644553C
RU1644553C SU4764153A RU1644553C RU 1644553 C RU1644553 C RU 1644553C SU 4764153 A SU4764153 A SU 4764153A RU 1644553 C RU1644553 C RU 1644553C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate holder
spiral
articles
treated
distance
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
А.В. Коровкин
Г.А. Усачев
О.В. Полунина
Original Assignee
АвтоВАЗ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by АвтоВАЗ filed Critical АвтоВАЗ
Priority to SU4764153 priority Critical patent/RU1644553C/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU1644553C publication Critical patent/RU1644553C/ru

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий и может быть использовано для нанесения различных покрытий и тонких пленок. Цель изобретения - повышение равномерности покрытия по толщине. Подложкодержатель содержит многоярусный цилиндричсекий корпус с гнездами, в которых установлены обрабатываемые детали. Выполнение копруса в виде жесткой одно- или многозаходной спирали с шагом витка спирали H≥2h , где h - высота обрабатываемых деталей, и расстояние между ними L≥l , где l - максимальный размер детали, позволяет потоку пара со всех сторон экранироваться на обрабатываемых изделиях. 1 з.п.ф-лы, 3 ил.

Description

Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий и может быть использовано для нанесения различных покрытий и тонких пленок.
Целью изобретения является повышение равномерности покрытия по толщине.
Подложкодержатель выполнен в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали, в гнездах которой устанавливаются обрабатываемые детали.
Кроме того, с целью исключения экранирования от потока пара, шаг витка спирали Н ≥ 2h, где h - высота обрабатываемой детали, а расстояние между гнездами с учетом производительности равно L ≥ l, где l - максимальный размер детали.
На фиг. 1 - общий вид подложкодержателя; на фиг. 2 - вид сверху; на фиг. 3 - поперечное сечение витка.
Подложкодержатель содержит многоярусный цилиндрический корпус, выполненный в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали 1 с гнездами 2, в которых установлены обрабатываемые детали 3, привод 4 вращения спирали.
Подложкодержатель работает следующим образом.
Нанесение покрытий производится на установке Булат-3. Спираль 1 в процессе обработки вращается вокруг своей оси. Благодаря тому, что детали расположены под углом и положение их по отношению к ионному потоку в процессе обработки непрерывно меняется, обеспечивается равномерная объемная конденсация покрытия разных поверхностей обрабатываемых деталей.

Claims (1)

  1. ПОДЛОЖКОДЕРЖАТЕЛЬ, содержащий многоярусный цилиндрический корпус, на ярусах которого размещаются обрабатываемые изделия, и привод вращения, кинематически соединенный с корпусом, отличающийся тем, что, с целью повышения равномерности покрытия по толщине, корпус выполнен в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали, при этом шаг спирали равен
    H ≥ h,
    где H - шаг спирали, мм;
    h - высота обрабатываемой детали, мм,
    а расстояние между гнездами равно
    L ≥ l,
    где L - расстояние между гнездами, мм;
    l - наибольший размер обрабатываемой детали, мм.
SU4764153 1989-08-02 1989-08-02 Подложкодержатель RU1644553C (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4764153 RU1644553C (ru) 1989-08-02 1989-08-02 Подложкодержатель

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4764153 RU1644553C (ru) 1989-08-02 1989-08-02 Подложкодержатель

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1644553C true RU1644553C (ru) 1994-10-15

Family

ID=30441557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4764153 RU1644553C (ru) 1989-08-02 1989-08-02 Подложкодержатель

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1644553C (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2507308C1 (ru) * 2012-07-19 2014-02-20 Айрат Хамитович Хисамов Способ нанесения тонкопленочных покрытий и технологическая линия для его осуществления
RU2539487C2 (ru) * 2012-05-03 2015-01-20 Вера Дмитриевна Мирошникова Способ нанесения покрытия магнетронным распылением и держатель подложек на его основе
RU2688353C1 (ru) * 2018-08-09 2019-05-21 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") Устройство перемещения и вращения подложкодержателя

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР N 503939, кл. C 23C 14/24, 1973. *
Заявка Японии N 5333948, кл. C 23C 14/34, 1978. *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2539487C2 (ru) * 2012-05-03 2015-01-20 Вера Дмитриевна Мирошникова Способ нанесения покрытия магнетронным распылением и держатель подложек на его основе
RU2507308C1 (ru) * 2012-07-19 2014-02-20 Айрат Хамитович Хисамов Способ нанесения тонкопленочных покрытий и технологическая линия для его осуществления
RU2688353C1 (ru) * 2018-08-09 2019-05-21 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") Устройство перемещения и вращения подложкодержателя

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5922176A (en) Spark eliminating sputtering target and method for using and making same
CA2362146A1 (en) Magnetron sputtering method and apparatus
US5449411A (en) Microwave plasma processing apparatus
US5234529A (en) Plasma generating apparatus employing capacitive shielding and process for using such apparatus
JP6383674B2 (ja) 基板処理装置
RU2008113834A (ru) Источник ионов и устройство для плазменной обработки
FI941439A (fi) Laite ja menetelmä nopeaa plasmakäsittelyä varten
ES2105263T3 (es) Aparato y procedimiento para el tratamiento con plasma en el cual se induce un campo electrico uniforme a traves de una ventana dielectrica.
KR950024254A (ko) 보정된 전극을 사용하여 플라즈마 처리를 위한 피일드를 튜닝하기 위한 방법 및 장치
ES2067099T3 (es) Procedimiento para la produccion de una capa diamantina e instalacion para ello.
RU1644553C (ru) Подложкодержатель
US6159351A (en) Magnet array for magnetrons
US3523517A (en) Rotating workpiece holder
CA2096593A1 (en) Plasma Vapor Deposition Apparatus
CN212375363U (zh) 磁控溅射镀膜装置
JP2023503313A (ja) 基板処理装置
EP3567128A1 (en) Deposition apparatus and method of coating spherical objects
CN108070833B (zh) 聚焦环及其工作方法
BR9303607A (pt) Aparelho para efetuar descarga incandescnete,aparelho de revestimento a vacuo,e processo para prover um bombardeamento uniforme de ions de uma pluralidade de substratos eletricamente condutivos
TWI849280B (zh) 磁控濺射鍍膜裝置及其工作方法
RU93018049A (ru) Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки
Bessot New Vacuum Deposition Techniques. Evolution and Trends
JPH088558Y2 (ja) マイクロ波加熱装置
JPS5647562A (en) Method and apparatus for formation of deposit film
JPS6326351A (ja) 真空蒸着用の蒸発源装置