RU1644553C - Подложкодержатель - Google Patents
Подложкодержатель Download PDFInfo
- Publication number
- RU1644553C RU1644553C SU4764153A RU1644553C RU 1644553 C RU1644553 C RU 1644553C SU 4764153 A SU4764153 A SU 4764153A RU 1644553 C RU1644553 C RU 1644553C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate holder
- spiral
- articles
- treated
- distance
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий и может быть использовано для нанесения различных покрытий и тонких пленок. Цель изобретения - повышение равномерности покрытия по толщине. Подложкодержатель содержит многоярусный цилиндричсекий корпус с гнездами, в которых установлены обрабатываемые детали. Выполнение копруса в виде жесткой одно- или многозаходной спирали с шагом витка спирали H≥2h , где h - высота обрабатываемых деталей, и расстояние между ними L≥l , где l - максимальный размер детали, позволяет потоку пара со всех сторон экранироваться на обрабатываемых изделиях. 1 з.п.ф-лы, 3 ил.
Description
Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий и может быть использовано для нанесения различных покрытий и тонких пленок.
Целью изобретения является повышение равномерности покрытия по толщине.
Подложкодержатель выполнен в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали, в гнездах которой устанавливаются обрабатываемые детали.
Кроме того, с целью исключения экранирования от потока пара, шаг витка спирали Н ≥ 2h, где h - высота обрабатываемой детали, а расстояние между гнездами с учетом производительности равно L ≥ l, где l - максимальный размер детали.
На фиг. 1 - общий вид подложкодержателя; на фиг. 2 - вид сверху; на фиг. 3 - поперечное сечение витка.
Подложкодержатель содержит многоярусный цилиндрический корпус, выполненный в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали 1 с гнездами 2, в которых установлены обрабатываемые детали 3, привод 4 вращения спирали.
Подложкодержатель работает следующим образом.
Нанесение покрытий производится на установке Булат-3. Спираль 1 в процессе обработки вращается вокруг своей оси. Благодаря тому, что детали расположены под углом и положение их по отношению к ионному потоку в процессе обработки непрерывно меняется, обеспечивается равномерная объемная конденсация покрытия разных поверхностей обрабатываемых деталей.
Claims (1)
- ПОДЛОЖКОДЕРЖАТЕЛЬ, содержащий многоярусный цилиндрический корпус, на ярусах которого размещаются обрабатываемые изделия, и привод вращения, кинематически соединенный с корпусом, отличающийся тем, что, с целью повышения равномерности покрытия по толщине, корпус выполнен в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали, при этом шаг спирали равен
H ≥ h,
где H - шаг спирали, мм;
h - высота обрабатываемой детали, мм,
а расстояние между гнездами равно
L ≥ l,
где L - расстояние между гнездами, мм;
l - наибольший размер обрабатываемой детали, мм.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4764153 RU1644553C (ru) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | Подложкодержатель |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4764153 RU1644553C (ru) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | Подложкодержатель |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1644553C true RU1644553C (ru) | 1994-10-15 |
Family
ID=30441557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4764153 RU1644553C (ru) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | Подложкодержатель |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1644553C (ru) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2507308C1 (ru) * | 2012-07-19 | 2014-02-20 | Айрат Хамитович Хисамов | Способ нанесения тонкопленочных покрытий и технологическая линия для его осуществления |
RU2539487C2 (ru) * | 2012-05-03 | 2015-01-20 | Вера Дмитриевна Мирошникова | Способ нанесения покрытия магнетронным распылением и держатель подложек на его основе |
RU2688353C1 (ru) * | 2018-08-09 | 2019-05-21 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") | Устройство перемещения и вращения подложкодержателя |
-
1989
- 1989-08-02 RU SU4764153 patent/RU1644553C/ru active
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР N 503939, кл. C 23C 14/24, 1973. * |
Заявка Японии N 5333948, кл. C 23C 14/34, 1978. * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2539487C2 (ru) * | 2012-05-03 | 2015-01-20 | Вера Дмитриевна Мирошникова | Способ нанесения покрытия магнетронным распылением и держатель подложек на его основе |
RU2507308C1 (ru) * | 2012-07-19 | 2014-02-20 | Айрат Хамитович Хисамов | Способ нанесения тонкопленочных покрытий и технологическая линия для его осуществления |
RU2688353C1 (ru) * | 2018-08-09 | 2019-05-21 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") | Устройство перемещения и вращения подложкодержателя |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5922176A (en) | Spark eliminating sputtering target and method for using and making same | |
CA2362146A1 (en) | Magnetron sputtering method and apparatus | |
US5449411A (en) | Microwave plasma processing apparatus | |
US5234529A (en) | Plasma generating apparatus employing capacitive shielding and process for using such apparatus | |
JP6383674B2 (ja) | 基板処理装置 | |
RU2008113834A (ru) | Источник ионов и устройство для плазменной обработки | |
FI941439A (fi) | Laite ja menetelmä nopeaa plasmakäsittelyä varten | |
ES2105263T3 (es) | Aparato y procedimiento para el tratamiento con plasma en el cual se induce un campo electrico uniforme a traves de una ventana dielectrica. | |
KR950024254A (ko) | 보정된 전극을 사용하여 플라즈마 처리를 위한 피일드를 튜닝하기 위한 방법 및 장치 | |
ES2067099T3 (es) | Procedimiento para la produccion de una capa diamantina e instalacion para ello. | |
RU1644553C (ru) | Подложкодержатель | |
US6159351A (en) | Magnet array for magnetrons | |
US3523517A (en) | Rotating workpiece holder | |
CA2096593A1 (en) | Plasma Vapor Deposition Apparatus | |
CN212375363U (zh) | 磁控溅射镀膜装置 | |
JP2023503313A (ja) | 基板処理装置 | |
EP3567128A1 (en) | Deposition apparatus and method of coating spherical objects | |
CN108070833B (zh) | 聚焦环及其工作方法 | |
BR9303607A (pt) | Aparelho para efetuar descarga incandescnete,aparelho de revestimento a vacuo,e processo para prover um bombardeamento uniforme de ions de uma pluralidade de substratos eletricamente condutivos | |
TWI849280B (zh) | 磁控濺射鍍膜裝置及其工作方法 | |
RU93018049A (ru) | Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки | |
Bessot | New Vacuum Deposition Techniques. Evolution and Trends | |
JPH088558Y2 (ja) | マイクロ波加熱装置 | |
JPS5647562A (en) | Method and apparatus for formation of deposit film | |
JPS6326351A (ja) | 真空蒸着用の蒸発源装置 |