RU93018049A - Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки - Google Patents

Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки

Info

Publication number
RU93018049A
RU93018049A RU93018049/02A RU93018049A RU93018049A RU 93018049 A RU93018049 A RU 93018049A RU 93018049/02 A RU93018049/02 A RU 93018049/02A RU 93018049 A RU93018049 A RU 93018049A RU 93018049 A RU93018049 A RU 93018049A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
vacuum metallized
dielectric surfaces
substrate
drawing vacuum
metallized coatings
Prior art date
Application number
RU93018049/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2052538C1 (ru
Inventor
С.Н. Кучанов
Original Assignee
С.Н. Кучанов
Filing date
Publication date
Application filed by С.Н. Кучанов filed Critical С.Н. Кучанов
Priority to RU93018049A priority Critical patent/RU2052538C1/ru
Priority claimed from RU93018049A external-priority patent/RU2052538C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2052538C1 publication Critical patent/RU2052538C1/ru
Publication of RU93018049A publication Critical patent/RU93018049A/ru

Links

Claims (1)

  1. Способ напыления вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки включает бомбардировку подложки положительными ионами газового разряда с одновременным напылением покрытия путем осаждения металла, испаренного в рабочей камере вакуумным методом. Бомбардировка подложки положительными ионами газового разряда чередуется с процессом облучения подложки ультрафиолетовым излучением и потоком электронов.
RU93018049A 1993-04-08 1993-04-08 Способ нанесения вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки RU2052538C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93018049A RU2052538C1 (ru) 1993-04-08 1993-04-08 Способ нанесения вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93018049A RU2052538C1 (ru) 1993-04-08 1993-04-08 Способ нанесения вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2052538C1 RU2052538C1 (ru) 1996-01-20
RU93018049A true RU93018049A (ru) 1996-01-27

Family

ID=20139883

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU93018049A RU2052538C1 (ru) 1993-04-08 1993-04-08 Способ нанесения вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2052538C1 (ru)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EA200601327A1 (ru) * 2006-05-15 2007-12-28 Владимир Яковлевич ШИРИПОВ Способ нанесения пленок нитрида кремния в вакууме (варианты)
CA2721194A1 (en) * 2008-04-14 2009-10-22 Hemlock Semiconductor Corporation Manufacturing apparatus for depositing a material and an electrode for use therein
CN102047751B (zh) * 2008-04-14 2014-01-29 赫姆洛克半导体公司 用于沉积材料的制造设备和其中使用的电极
RU2461665C1 (ru) * 2011-08-12 2012-09-20 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" Способ получения легированного кварцевого стекла с тетраэдрической координацией атомов титана
RU2486282C1 (ru) * 2011-11-17 2013-06-27 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" Способ получения имплантированного ионами олова кварцевого стекла

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0385475A3 (en) Method of forming a transparent conductive film
JPS56156762A (en) Precipitation depositing method of hard metal coating , target therefor and hard metal coated decorative segment
AU6525196A (en) Methods for deposition of molybdenum sulphide
Mattox Physical vapor deposition (PVD) processes
WO2004017356A8 (en) Process and apparatus for pulsed dc magnetron reactive sputtering of thin film coatings on large substrates using smaller sputter cathodes
EP0359567A3 (en) Plasma processing method and apparatus
SG40883A1 (en) Apparatus for coating substrates in a vacuum
RU93018049A (ru) Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки
WO2002063661A3 (en) Method and apparatus for removal of surface contaminants from substrates in vacuum applications
CA2194742A1 (en) Process and device for coating a substrate surface
US5024721A (en) Method of forming metal surface thin film having high corrosion resistance and high adhesion
GB2227755A (en) Improving the wear resistance of metallic components by coating and diffusion treatment
US20120164480A1 (en) Coated article and method for making the same
RU96124815A (ru) Способ изготовления имплантата с электретными свойствами для остеосинтеза
JPH04276062A (ja) アーク蒸着装置
EP0790328A1 (en) Thin film deposition
CA2132825C (en) Process for coating a substrate with a material giving a polished effect
CA2281265A1 (en) Method for manufacturing a nonlinear optical thin film
RU93029466A (ru) Способ нанесения покрытия
RU2145362C1 (ru) Способ вакуумно-плазменного нанесения покрытий
SU1763520A1 (ru) Способ локального нанесени покрытий в вакууме
JPH0428861A (ja) ホロカソード電子銃を用いた成膜装置
JP2957620B2 (ja) 均一色度のTiN膜とその形成方法
JPH04341577A (ja) Pvd法による皮膜形成方法
RU2055099C1 (ru) Способ получения пленок и покрытий из легкоплавких неметаллических материалов в вакууме, преимущественно селена