RU93018049A - Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки - Google Patents
Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложкиInfo
- Publication number
- RU93018049A RU93018049A RU93018049/02A RU93018049A RU93018049A RU 93018049 A RU93018049 A RU 93018049A RU 93018049/02 A RU93018049/02 A RU 93018049/02A RU 93018049 A RU93018049 A RU 93018049A RU 93018049 A RU93018049 A RU 93018049A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- vacuum metallized
- dielectric surfaces
- substrate
- drawing vacuum
- metallized coatings
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
Claims (1)
- Способ напыления вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки включает бомбардировку подложки положительными ионами газового разряда с одновременным напылением покрытия путем осаждения металла, испаренного в рабочей камере вакуумным методом. Бомбардировка подложки положительными ионами газового разряда чередуется с процессом облучения подложки ультрафиолетовым излучением и потоком электронов.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU93018049A RU2052538C1 (ru) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Способ нанесения вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU93018049A RU2052538C1 (ru) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Способ нанесения вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2052538C1 RU2052538C1 (ru) | 1996-01-20 |
RU93018049A true RU93018049A (ru) | 1996-01-27 |
Family
ID=20139883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU93018049A RU2052538C1 (ru) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Способ нанесения вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2052538C1 (ru) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EA200601327A1 (ru) * | 2006-05-15 | 2007-12-28 | Владимир Яковлевич ШИРИПОВ | Способ нанесения пленок нитрида кремния в вакууме (варианты) |
CA2721194A1 (en) * | 2008-04-14 | 2009-10-22 | Hemlock Semiconductor Corporation | Manufacturing apparatus for depositing a material and an electrode for use therein |
CN102047751B (zh) * | 2008-04-14 | 2014-01-29 | 赫姆洛克半导体公司 | 用于沉积材料的制造设备和其中使用的电极 |
RU2461665C1 (ru) * | 2011-08-12 | 2012-09-20 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" | Способ получения легированного кварцевого стекла с тетраэдрической координацией атомов титана |
RU2486282C1 (ru) * | 2011-11-17 | 2013-06-27 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" | Способ получения имплантированного ионами олова кварцевого стекла |
-
1993
- 1993-04-08 RU RU93018049A patent/RU2052538C1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0385475A3 (en) | Method of forming a transparent conductive film | |
JPS56156762A (en) | Precipitation depositing method of hard metal coating , target therefor and hard metal coated decorative segment | |
AU6525196A (en) | Methods for deposition of molybdenum sulphide | |
Mattox | Physical vapor deposition (PVD) processes | |
WO2004017356A8 (en) | Process and apparatus for pulsed dc magnetron reactive sputtering of thin film coatings on large substrates using smaller sputter cathodes | |
EP0359567A3 (en) | Plasma processing method and apparatus | |
SG40883A1 (en) | Apparatus for coating substrates in a vacuum | |
RU93018049A (ru) | Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки | |
WO2002063661A3 (en) | Method and apparatus for removal of surface contaminants from substrates in vacuum applications | |
CA2194742A1 (en) | Process and device for coating a substrate surface | |
US5024721A (en) | Method of forming metal surface thin film having high corrosion resistance and high adhesion | |
GB2227755A (en) | Improving the wear resistance of metallic components by coating and diffusion treatment | |
US20120164480A1 (en) | Coated article and method for making the same | |
RU96124815A (ru) | Способ изготовления имплантата с электретными свойствами для остеосинтеза | |
JPH04276062A (ja) | アーク蒸着装置 | |
EP0790328A1 (en) | Thin film deposition | |
CA2132825C (en) | Process for coating a substrate with a material giving a polished effect | |
CA2281265A1 (en) | Method for manufacturing a nonlinear optical thin film | |
RU93029466A (ru) | Способ нанесения покрытия | |
RU2145362C1 (ru) | Способ вакуумно-плазменного нанесения покрытий | |
SU1763520A1 (ru) | Способ локального нанесени покрытий в вакууме | |
JPH0428861A (ja) | ホロカソード電子銃を用いた成膜装置 | |
JP2957620B2 (ja) | 均一色度のTiN膜とその形成方法 | |
JPH04341577A (ja) | Pvd法による皮膜形成方法 | |
RU2055099C1 (ru) | Способ получения пленок и покрытий из легкоплавких неметаллических материалов в вакууме, преимущественно селена |