RU1593057C - Способ лазерной обработки - Google Patents
Способ лазерной обработки Download PDFInfo
- Publication number
- RU1593057C RU1593057C SU4627534A RU1593057C RU 1593057 C RU1593057 C RU 1593057C SU 4627534 A SU4627534 A SU 4627534A RU 1593057 C RU1593057 C RU 1593057C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- mirrors
- laser
- radiation
- phase
- mirror
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
Изобретение относится к способам лазерной обработки материалов, в частности к лазерной резке, и может быть использовано для создания систем передачи луча на объект обработки в лазерных комплексах резки. Цель изобретения - снижение себестоимости и улучшение эксплуатационных свойств зеркал. Осуществляют передачу системой поворотных под углом 90° зеркал линейно поляризованного горизонтального излучения лазера. Преобразуют излучение в вертикальное с круговой поляризацией с помощью фазосдвигающего покрытия последнего из зеркал и фокусировки его на поверхность обрабатываемого материала. Обеспечивают одинаковые по абсолютной величине фазовые сдвиги, равные 22,5°, при отражении от четырех зеркал с фазосдвигающими покрытиями, число слоев в которых снижено до двух. Поэтому снижается общая себестоимость зеркал за счет упрощения их конструкции и улучшаются эксплуатационные свойства за счет снижения потерь на поглощение излучения в зеркалах на 0,7 - 2,7%. Зеркала имеют фазовые сдвиги Ψ (Ψ ), , Ψ (Ψ ), Ψ (Ψ ), Ψ (Ψ ) , если первое и второе из них по ходу от лазера сохраняют направление луча в вертикальной плоскости, или фазовые сдвиги Ψ (Ψ ), Ψ (Ψ ), Ψ (Ψ ), Ψ (Ψ ) , если второе зеркало меняет направление луча в перпендикулярную плокость, где Ψ (Ψ ) - фазовые сдвиги между P- и S- отраженными компонентами луча соответственно для n-го по ходу от лазера зеркала. 2 з.п. ф-лы, 3 ил.
Description
Изобретение отноcитcя к cпоcобам лазерной обработки материалов, в чаcтноcти лазерной резки лиcтовых материалов.
Целью изобретения являетcя cнижение cебеcтоимоcти и улучшение экcпллуатаци-онных cвойcтв зеркал.
Hа фиг. 1 предcтавлена принципиальная оптичеcкая cхема лазерного комплекcа резки; на фиг.2 и 3 - принципиальные cхемы разновидноcтей зеркальных cиcтем передачи луча лазера портального типа для лазерного комплекcа резки, cоcтоящих по крайней мере из четырех выcокоотражаю-щих зеркал, c помощью которых cоздают фазовые cдвиги, равные - 22,5о или + 22,5о, отражающего под углом 90о от каждого из зеркал излучения лазера.
Способ заключается в передаче системой поворотных под углом 90озеркал линейно поляризованного горизонтального излучения лазера 1, преобразовании его в вертикальное с круговой поляризацией с помощью по крайней мере четырех зеркал 2, 3, 4, и 5 с фазосдвигающими покрытиями, обеспечивающими одинаковые по абсолютной величине фазовые сдвиги излучения, равные 22,5о, которые в сумме создают фазовый сдвиг в ±90о, и последующей фокусировкой излучения фокусирующей системой 6 на поверхность обрабатываемого материала 7 для проведения обработки излучением, в частности резки материала 7 по сложному контуру.
Для реализации способа использовали устройство, содержащее лазер 1 с горизонтальной главной оптической осью, оптическую зеркальную систему передачи излучения лазера 1, состоящую по крайней мере из четырех высокоотражающих поворотных зеркал 2, 3, 4 и 5 для изменения направления при каждом отражении луча излучения лазера 1 на 90о и преобразования его из горизонтального плоскополяризованного под углом 45о к вертикальной плоскости в вертикальный с круговой поляризацией, фокусирующую систему 6. Зеркала 2, 3, 4 и 5 снабжены фазосдвигающими покрытиями для обеспечения одинаковых по абсолютной величине фазовых сдвигов между Р и S-компонентами поляризованного излучения лазера 1, лежащими соответственно в плоскости падения и перпендикулярно ей для каждого зеркала 2, 3, 4 и 5 и равных 22,5о.
Причем, если отражающие поверхности зеркал 2 и 3 параллельны между собой, перпендикулярны вертикальной плоскости, проходящей через главную оптическую ось лазера и эти зеркала, и обращены друг к другу, то фазовые сдвиги на зеркалах 2, 3 и 5 должны быть отрицательными (положительными), а на зеркала 4 фазовый сдвиг должен быть положительным (отрицательным) (cм. фиг.1 и 3). А если отражающая поверхность зеркала 3 перпендикулярна отражающей поверхности зеркала 2 и составляет угол 45о с проходящей через главную оптическую ось лазера и зеркала 2 и 3 вертикальной плоскостью, то фазовые сдвиги на зеркалах 2 и 4 должны быть отрицательными (положительными), а на зеркалах 3 и 5 - положительными (отрицательными) (см.фиг.1 и 2).
Зеркала 2, 3, 4 и 5 оптически связаны с лазером 1 и фокусирующей системой 6, причем зеркало 2 расположено на главной оптической оси лазера 1, а зеркало 3 - на вертикальной оси, пересекающей главную оптическую ось лазера 1. Зеркала 3, 4 и 5 расположены в одной горизонтальной плоскости с возможностью совместного с системой 6 перемещения вдоль общей оси зеркал 2 и 3. Зеркало 5 установлено с возможностью перемещения вдоль их общей с зеркалом 4 оптической оси и с возможностью перемещения совместно с зеркалом 4 вдоль общей оси зеркал 3 и 4. А фокусирущая система 6 установлена с возможностью перемещения вдоль вертикальной общей для зеркала 5 и системы 6 оси.
Рассмотрим распространение линейно поляризованной электромагнитной (оптической) волны по системе передачи луча, в которой каждое из зеркал изменяет направление распространения волн на 90о, причем плоская электромагнитная волна от лазера распространяется вдоль оси OY. Обозначим римской цифрой вверху амплитудные коэффициенты отражения, набег фазы и другие характеристики, относящиеся к процессу отражения волны от соответствующего зеркала. Амплитуду падающей волны обозначим верхним индексом П.
Зеркало 2 расположено под углом 45о к оси OY, плоскость падения волны ZY. Волна поляризована так, что плоскость поляризации составляет угол 45о к плоскости падения. При рассмотрении процесса отражения представим электромагнитную волну как суперпозицию двух поляризаций (Р - поляризованная компонента, ее вектор электрической напряженности лежит в плоскости падения) и (S - поляризованная волна, ее вектор электрической напряженности перпендикулярен плоскости падения).
Рассмотрим распространение волны в системе передачи луча по схеме на фиг.2. В падающей на первое зеркало 2 волне = {O,O,U0}, = {U0,O1O1} . После отражения от зеркала 2 волна движется в отрицательном направлении оси Oz, вектор электрической напряженности падающей волны перпендикулярен направлению распространения, а значит вместо Z - компоненты в появится Y-компонента, S - компонента направления своего не меняет, следовательно
= {O,U0r ,O} ;
(1)
= { U0r , O,O} , где rp, rs - амплитудные комплексные коэффициенты отражения Р- и S-поляризованных волн,
rP= reiφp,
rS= reiφs.
= {O,U0r
(1)
= { U0r
rP= reiφp,
rS= reiφs.
Далее волна падает на зеркало 3, отразившись от которого распространяется вдоль оси Ох. Это значит, что плоскость падения волны на зеркало 3 перпендикулярна плоскости падения волны на зеркало 4. Поэтому Р- и S-компонентавми падающей на зеркало 3 волны будут соответственно S- и Р-компоненты, отраженные первым зеркалом 2
= ; = (2)
После отражения от второго зеркала 3 амплитуды Р- и S-компонент электромагнитной волны будут соответственно равны
= {O,O,U0r r I};
(3)
= {O,U0r r I,O}.
= ; = (2)
После отражения от второго зеркала 3 амплитуды Р- и S-компонент электромагнитной волны будут соответственно равны
= {O,O,U0r
(3)
= {O,U0r
Зеркало 4 направляет отраженную волну вдоль оси Оу, Ху - плоскость падения волны на зеркало 4 - при этом также перпендикулярна к плоскости падения электромагнитной волны на зеркало 3, поэтому Р-компонентной падающей на зеркало 4 волны будет S-компонента волны, отраженной от второго зеркала 3 и наоборот
= ; = (4)
Амплитуды отраженных волн связаны с амплитудой падающей волы через комплексные коэффициенты отражения rp III и rs III.
= ; = (4)
Амплитуды отраженных волн связаны с амплитудой падающей волы через комплексные коэффициенты отражения rp III и rs III.
Зеркало 5 направляет отраженную волну вдоль отрицательного направления оси OZ. Здесь также плоскость падения YZ перпендикулярна к предыдущей плоскости падения XY и Р-компонента отраженной от зеркала 4 волны будет S-компонентой в падающей на зеркало 5 волне и наоборот. Амплитуды отраженных волн записываются через амплитуды падающих волн и соответствующие комплексные коэффициенты отражения rp IV и rs IV
= {O,U0r r Ir IIr V,O},
(6)
= {U0r r Ir IIr V,O,O}.
= {O,U0r
(6)
= {U0r
Результирующая разность фаз после прохождения волнового фpонта составит
ΔΨ= аrg(rs I ˙ rp II ˙ rs III˙rp IV) - arg(rp I, rs II, rp III rs IV), (7)
argW - аргумент комплексного числа W.
ΔΨ= аrg(rs I ˙ rp II ˙ rs III˙rp IV) - arg(rp I, rs II, rp III rs IV), (7)
argW - аргумент комплексного числа W.
Преобразовав эти выражения, можно получить
ΔΨ= ( Ψs I + Ψp II + Ψs III + Ψp IV) - ( Ψp I + Ψs II + Ψp III + Ψs IV)
или
ΔΨ= -(Ψp I- Ψs I)+(Ψp II- Ψs II)-(Ψp III- Ψs III)+(Ψp IV- Ψs IV) (8)
Если зеркала 2 и 4 будут создавать разность фаз между Р- и S-отраженными компонентами (+22,5о), а зеркала 3 и 5 (-22,5о), то результирующая разность фаз ΔΨ составит 90о. Аналогично, если зеркала 2 и 4 создают разность фаз (-22,5о), а зеркала 3 и 5 (+22,5о), то результирующая разность фаз ΔΨ составит +90о, что в обоих случаях равноценно с точки зрения создания круговой поляризации на объекте обработки.
ΔΨ= ( Ψs I + Ψp II + Ψs III + Ψp IV) - ( Ψp I + Ψs II + Ψp III + Ψs IV)
или
ΔΨ= -(Ψp I- Ψs I)+(Ψp II- Ψs II)-(Ψp III- Ψs III)+(Ψp IV- Ψs IV) (8)
Если зеркала 2 и 4 будут создавать разность фаз между Р- и S-отраженными компонентами (+22,5о), а зеркала 3 и 5 (-22,5о), то результирующая разность фаз ΔΨ составит 90о. Аналогично, если зеркала 2 и 4 создают разность фаз (-22,5о), а зеркала 3 и 5 (+22,5о), то результирующая разность фаз ΔΨ составит +90о, что в обоих случаях равноценно с точки зрения создания круговой поляризации на объекте обработки.
Выполним аналогичные рассуждения для оптической схемы на фиг.3. Зеркало 3 направляет отраженную волну вдоль оси OY и при этом плоскость падения остается той же. Отраженная первым зеркалом 2 Р-компонента будет и Р-компонентной падающей на второе зеркало 3 волны, аналогично для S-компоненты. Поэтому амплитуды Р- и S-компонент выходящей из системы передачи луча волны будут равны
= {O,U0r r Ir IIr V,O};
(9)
= {U0r r Ir IIr V,O,O}, результирующая разность фаз составит
ΔΨ= (Ψp I- Ψs I)+(Ψp II- Ψs II)-(Ψp III- Ψs III)+(Ψp IV- Ψs IV) (10) Для получения результирующего сдвига фаз +90о между Р- и S-отраженными компонентами необходимо, чтобы зеркала 2, 3 и 5 создавали сдвиг фаз +22,5о, а зеркало 4 - (-22,5о) или (что эквивалентно) для -90о зеркала 2, 3 и 5 создавали сдвиг фаз (-22,5о) а зеркало 4 (+22,5о).
= {O,U0r
(9)
= {U0r
ΔΨ= (Ψp I- Ψs I)+(Ψp II- Ψs II)-(Ψp III- Ψs III)+(Ψp IV- Ψs IV) (10) Для получения результирующего сдвига фаз +90о между Р- и S-отраженными компонентами необходимо, чтобы зеркала 2, 3 и 5 создавали сдвиг фаз +22,5о, а зеркало 4 - (-22,5о) или (что эквивалентно) для -90о зеркала 2, 3 и 5 создавали сдвиг фаз (-22,5о) а зеркало 4 (+22,5о).
Как показали расчеты, для отражателей-фазосдвигателей с Ψ= +22,5o и Ψ = -22,5о с покрытиями из одних и тех же пленкообразующих материалов при одинаковом числе слоев (два интерференционных слоя), их энергетические коэффициенты отражения равны для соответствующих компонент отраженной волны, т.е. ρs + = ρs -, а ρр + = ρр -. Имея в виду также, что
ρ = r = с учетом выражений (6) и (9) получим результирующие значения энергетических коэффициентов отражения ρрез и эллиптичности εрез
ρS рез= ρP.рез= r r = ρ · ρ (11) для схемы на фиг.2,
εрез= = 1 (12)
ρS рез= rr = ρ ·ρP; (13)
ρP.рез= rr = ρ ·ρS для схемы на фиг.3,
εрез = = ≠ 1 (14)
Система передачи луча лазеpа портального типа по схеме (см.фиг.2) принципиально обеспечивает εрез = 1, в то время как для схемы (см.фиг.3), как правило, εрез > 1, так как ρs > ρp.
ρ = r = с учетом выражений (6) и (9) получим результирующие значения энергетических коэффициентов отражения ρрез и эллиптичности εрез
ρS рез= ρP.рез= r r = ρ
εрез= = 1 (12)
ρS рез= rr = ρ
ρP.рез= rr = ρ
εрез = = ≠ 1 (14)
Система передачи луча лазеpа портального типа по схеме (см.фиг.2) принципиально обеспечивает εрез = 1, в то время как для схемы (см.фиг.3), как правило, εрез > 1, так как ρs > ρp.
Были рассчитаны и реализованы отражатели-фазосдвигатели с Ψ=+ 22,5ои Ψ = -22,5о при угле падения луча 45о для системы передачи луча СО2технологического лазера. Отражатели-фазосдвигатели были изготовлены на подложках из кремния, на оптически полированную поверхность которых были нанесены термическим испарением в вакууме отражающе-фазосдвигающие покрытия вида:
П Ме 1,11 Н 1,55 В - для Ψ= -22,5о и
П Ме 0,984 Н 0,69 В - для Ψ = +22,5о где П - подложка, Ме - высокоотражающий слой меди, Н и В - диэлектрические четвертьволновые на длине волны 10,6 мкм слои с низким (n = 1,35-1,40 BaF2) и высоким (n = 2,4 ZnSe, значениями показателя преломления. Причем, использовали пленкообразующие материалы отечественного производства марки "r".
П Ме 1,11 Н 1,55 В - для Ψ= -22,5о и
П Ме 0,984 Н 0,69 В - для Ψ = +22,5о где П - подложка, Ме - высокоотражающий слой меди, Н и В - диэлектрические четвертьволновые на длине волны 10,6 мкм слои с низким (n = 1,35-1,40 BaF2) и высоким (n = 2,4 ZnSe, значениями показателя преломления. Причем, использовали пленкообразующие материалы отечественного производства марки "r".
Расчетные значения коэффициентов отражения для обоих видов отражателей-фазосдвигателей при принятых значениях κ= 1˙10-3 составили ρр = 98,6% и ρs = 99,5%, а при κ= 1˙10-4 составили ρр = 99,1% и ρs = 99,7%. Практически были получены величины ρр = 98,5-98,7% и ρs = 99,2-99,4%. Фазовые характеристики Ψ= +22,5о и Ψ =-22,5о были реализованы с погрешностью 1-2о. Измерения коэффициентов отражения отражетелей-фазосдвигателей и их фазовых сдвигов проводились на лабораторном лазерном гониофотометре на рабочей длине волны. Hужно отметить, что аналогичные фазосдвигающие покрытия можно создать и из других прозрачных на рабочей длине волны пленкообразующих материалов со значениями показателя преломления 1,25-6,0.
Сделаем расчетную оценку результирующих характеристик систем передачи луча портального типа в соответствии со схемами на фиг.2 и 3 в случае применения отражателей-фазосдвигателей с Ψ= +22,5о и Ψ =-22,5оисходя из практически реализованных коэффициентов отражения ρр = 98,7% и ρs = 99,4%, тогда ρр = ρs = 96,2%, ε= 1 для схемы на фиг.2 и ρр = 95,6%, ρs = 96,9%, ε= = 1,014 для схемы на фиг.3. Результирующие параметры для отечественного аналога были ρр = 93%, ρs = 94%, ε= 1,009, а результирующие параметры для прототипа и базового объекта ρр = 95%, ρs = 96%, ε= 1,009.
Результирующие оптические характеристики ρ и ε систем передачи луча лазерного комплекса резки портального типа с четырьмя высокоотражающими зеркалами-фазосдвигателями с Ψ= +22,5o и Ψ = -22,5оока- зались не хуже отечественного аналога и прототипа. Уменьшение стоимости предложенного технического решения достигнуто за счет упрощения конструкции фазосдвигающего интерференционного покрытия до 2 слоев (не считая металлического слоя) вместо 8-10 слоев аналогов и прототипа и за счет применения доступных недорогих пленкообразующих материалов отечественного производства. Эксплуатационные характеристики улучшены за счет того, что уменьшены потери на поглощение в отражателях-фазосдвигателях на 2,7% для отечественного аналога и на 0,7% для прототипа и базового объекта, в результате чего снижен нагрев поверхности зеркал при работе в мощных пучках и следовательно повышен ресурс их эксплуатации. Дополнительно эксплуатационные характеристики (термомеханическая устойчивость покрытия, улучшены за счет упрощения покрытия.
Claims (3)
1. СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТКИ, преимущественно с помощью лазерного комплекса резки портального типа, заключающийся в передаче от лазера и преобразовании с помощью оптической системы высокоотражающих поворотных под углом 90o зеркал, на одно из которых нанесено фазосдвигающее покрытие, горизонтального линейно поляризованного под углом 45o к вертикальной плоскости, проходящей через главную оптическую ось лазера, излучения в вертикальное с круговой поляризацией и последующей его фокусировке на поверхности обрабатываемого материала, отличающийся тем, что, с целью снижения себестоимости и улучшения эксплуатационных свойств зеркал при отражении излучения лазера с помощью по крайней мере четырех зеркал фазосдвигающими покрытиями дополнительно снабжены другие три зеркала, на каждом из четырех зеркал излучению придают одинаковые по абсолютной величине фазовые сдвиги между P- и S-компонентами отраженного излучения лазера, лежащими соответственно в плоскости падения и перпендикулярно ей для каждого из зеркал, по сравнению с падающим на них излучением, равные 22,5o.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в случае, когда отражающие поверхности первого и второго от лазера зеркал параллельны между собой, перпендикулярны вертикальной плоскости, проходящей через главную оптическую ось лазера, и центры этих зеркал обращены друг к другу, фазовые сдвиги излучения лазера на первом, втором и четвертом зеркалах создают отрицательными или положительными, а на третьем зеркале фазовый сдвиг - положительным или отрицательным.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что в случае, когда отражающая поверхность второго зеркала перпендикулярна отражающей поверхности первого и составляет 45o с проходящей через центры первого и второго от лазера зеркал вертикальной плоскостью, фазовые сдвиги излучения на первом и третьем зеркалах создают отрицательными или положительными, а на втором и четвертом - положительными или отрицательными.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4627534 RU1593057C (ru) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | Способ лазерной обработки |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4627534 RU1593057C (ru) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | Способ лазерной обработки |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1593057C true RU1593057C (ru) | 1994-11-15 |
Family
ID=30441190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4627534 RU1593057C (ru) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | Способ лазерной обработки |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1593057C (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005110665A1 (fr) * | 2004-05-18 | 2005-11-24 | Yuri Konstantinovich Nizienko | Procede de decoupe par laser de materiaux |
-
1988
- 1988-12-29 RU SU4627534 patent/RU1593057C/ru active
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Проспект фирмы Op I EL G-твH и "Ту-Синк Инкорпорейтид" (США). * |
Проспект фирмы TPUMPF (ФРГ). Пятиосевой станок для лазерной резки с автофокусировкой ТРУМАИК L 5000. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005110665A1 (fr) * | 2004-05-18 | 2005-11-24 | Yuri Konstantinovich Nizienko | Procede de decoupe par laser de materiaux |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106025566A (zh) | 基于反射型超表面产生涡旋波束的透镜及方法 | |
Ageev et al. | Photoinduced effects in light-sensitive films | |
JPH027022A (ja) | 液晶セル窓 | |
US7106482B2 (en) | Scanning apparatus | |
CN110927984A (zh) | 一种可调的横向错位激光分束/合束器 | |
US4565426A (en) | Beam splitter | |
JPS6392902A (ja) | 鏡およびリングレーザジヤイロスコープ | |
RU1593057C (ru) | Способ лазерной обработки | |
GB2034065A (en) | Polarization rotation method and apparatus | |
Luo et al. | Dynamics of diverse polarization singularities in momentum space with far-field interference | |
GB2177814A (en) | Polarization preserving reflector and method | |
CN111399086B (zh) | 一种基于超表面材料的叉形光栅复用方法 | |
CN106483774B (zh) | 基于非对称金属包覆介质波导的多层亚波长结构刻写装置 | |
CN108803062B (zh) | 单轴双折射晶体偏振激光合束器 | |
CN211318893U (zh) | 一种空气隙结构的消偏振分光装置 | |
US3703330A (en) | Optical rotary joint | |
Pissadakis et al. | An elliptical Talbot interferometer for fiber Bragg grating fabrication | |
KR100919578B1 (ko) | 노광 장치 및 이를 이용한 반도체 소자의 형성 방법 | |
Tavrov et al. | Achromatic coronagraph based on out-of-plane common-path nulling interferometer | |
CN118011630B (en) | Optical element applied to common aperture detection and emission scheme and design method thereof | |
Bartelt et al. | Modelling and characterization of optical high frequency gratings | |
CN212160134U (zh) | 用于全反射棱镜的保偏膜及全反射棱镜 | |
Sankarasubramanian et al. | Measurement of instrumental polarisation of the Kodaikanal tunnel tower telescope | |
Zaghloul | Modified O'Bryan ellipsometer (MOE) for film-substrate systems | |
Azzam | Reflective thin-film device for generating spatial binary patterns of orthogonal circular polarization states |