PL94415B1 - Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu - Google Patents

Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu Download PDF

Info

Publication number
PL94415B1
PL94415B1 PL17694974A PL17694974A PL94415B1 PL 94415 B1 PL94415 B1 PL 94415B1 PL 17694974 A PL17694974 A PL 17694974A PL 17694974 A PL17694974 A PL 17694974A PL 94415 B1 PL94415 B1 PL 94415B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
gloss
low current
current density
glowing
capacity
Prior art date
Application number
PL17694974A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL17694974A priority Critical patent/PL94415B1/pl
Publication of PL94415B1 publication Critical patent/PL94415B1/pl

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu, o wysokiej wydajnosci katodowej, i o duzej zdolnosci krycia w glab powloka blyszczaca.Znany jest fakt, ze wprowadzajac do podstawowej kapieli niklowej typu Wattsa substancje blaskotwórcze mozna osiagnac polysk powlok niklowych. Jakosc powlok niklowych i ich wlasnosci sa zalezne od zestawu substancji biaskotwórczych. Wlasciwie dobrany zestaw substancji biaskotwórczych wplywa na takie wlasnosci powlok i kapieli, jak polysk powlok, zakres polysku, plastycznosc powlok, wydajnosc katodowa, zdolnosc wygladzania podloza, brak wrazliwosci na okreslone rodzaje zanieczyszczen i podobne.Badania naukowe i praktyka wykazaly, ze najlepsze wyniki uzyskuje sie przy stosowaniu wieloskladnikowych zestawów substancji biaskotwórczych. O jakosci uzyskiwanych powlok i pracy kapieli decyduje dobór skladników substancji biaskotwórczych i stezenie tych skladników. Niewielkie juz zmiany ilosciowe i jakosciowe w zestawie powoduja istotne zmiany w pracy kapieli i jakosci otrzymywanych powlok.Celem wynalazku jest opracowanie zestawu substancji biaskotwórczych do niklowania z polyskiem umozliwiajacego uzyskiwania wysokiej zdolnosci krycia w glab powloka blyszczaca, zwlaszcza na powierzchniach mi kr oporo waty eh, wysokiej wydajnosci katodowej i mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu. Postawiony ce! udalo sie zrealizowac, gdyz okazalo sie, ze piecioskladnikowy zestaw substancji biaskotwórczych spelnia postawione wymagania. Zestaw ten skrada sie z: OJ do 10g/i imidu kwasu benzoesowego, 0,1 do 5g/l soli metali alkalicznych z! grupy ukladu okresowego sulfonowych kwasów alifatycznych zawierajacych w lancuchu podwójne wiazania, 0,1 do 5 g/l aldehydu alifatycznego, 0,01 do 5 g/l formylobutindiolu lub produktów jego hydrolizy oraz 0,01 do 5 g/l produktów jego metylowania.Kapiel wedlug wynalazku ma szeroki zakres osadzania powlok blyszczacych. Zakres ten wynosi od 0,02 do 18 A/d m2. Wydajnosc katodowa kapieli jest bardzo wysoka i wynosi 97%. Tak wysoka wydajnosc kapieli praktycznie uniemozliwia powstawanie defektów powierzchniowych w postaci pitingu ze wzgledu na niewielka2 94 4(5 ilosc wydzielonego wodoru. Plastycznosc powlok z tej kapieli jest równiez wysoka i wynosi powyzej 6%.Zdolnosc wygladzania nierównosci podloza jest wysoka i wynosi 86%, przy czym zdolnosc ta rozciaga s;e równiez na mikrowygladzanie w zakresie niskich gestosci pradu.Przyklad. Do kapieli zawierajacej 350 g/l siarczanu niklawego NiSC4 *7H20, 30 g/l chlorku ni klawego NiCI2 "6H20, 40 g/l kwasu borowego i 50 g/l siarczanu magnezowego MgSQ4'/HjO, dodano 0,6 g/! imidu kwasu o-sulfobenzoesowego lub jego soli, 0,4 g/! aldehydu octowego, 0,4 g/i formylobutindiolu, 0 3 g/6 1-metoksy-2-butyn-4 sulfonianu sodowego i 0,5 g/l winylosulfonianu sodowego. Kapiel ta przy eksploatacji w temperaturze otoczenia przy gestosci 2 A/dm* dawala powloki odpowiadajace nalozonym wymaganiom. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu, znamienna tym, ze jako substancje blaskotwórcze zawiera równoczesnie OJ do 10g/i imidu kwasu benzoesowego, 0,1 do 5 g/l soli metali alkalicznych z l grupy ukladu okresowego sulfonowych kwasów alifatycznych zawierajacych w lancuchu podwójne wiazanie, 0,1 do 5 g/l aldehydu alifatycznego, 0,01 co 5 g/l formylobu.tiodioiuJub produktów jego hydrolizy oraz 0,01 do 5 g/l produktów jego metylowan;£. Pisc. Poligraf. U? PRL naklsd 120-Hfc Ona 45 zl PL
PL17694974A 1974-12-30 1974-12-30 Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu PL94415B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL17694974A PL94415B1 (pl) 1974-12-30 1974-12-30 Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL17694974A PL94415B1 (pl) 1974-12-30 1974-12-30 Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL94415B1 true PL94415B1 (pl) 1977-08-31

Family

ID=19970376

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL17694974A PL94415B1 (pl) 1974-12-30 1974-12-30 Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL94415B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3769182A (en) Bath and method for electrodepositing tin and/or lead
US3031387A (en) Anodic oxidation of aluminum
CA1292093C (en) High-efficiency chromium plating bath with alkyl sulfonic acid for non-iridescent plate
KR20110071106A (ko) 개선된 백색도를 갖는 백금-로듐 층의 침착방법
TW201005129A (en) Modified copper-tin electrolyte and process for the deposition of bronze layers
JPS60181293A (ja) アルカリ性浴からの電気亜鉛−鉄合金めつき法
US3661730A (en) Process for the formation of a super-bright solder coating
GB2189258A (en) Zinc-nickel alloy electrolyte
JP5336762B2 (ja) 銅‐亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法
NO833388L (no) Fremgangsmaate til overflatebehandling av aluminium og aluminiumlegeringer
ES2890664T3 (es) Baño de galvanizado de níquel para depositar un revestimiento de níquel decorativo sobre un sustrato
US3892638A (en) Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys
PL94415B1 (pl) Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu
US3860502A (en) Electrodeposition of tin
US3703448A (en) Method of making composite nickel electroplate and electrolytes therefor
JPS58110687A (ja) 無水マレイン酸重合体のキレ−トを使用する金めつき浴及び金めつき方法
US2427280A (en) Nickel electroplating composition
JPS6141998B2 (pl)
US2654703A (en) Electrodeposition of bright nickel, cobalt, and alloys thereof
JPH03503068A (ja) スズ‐ビスマス合金の電着方法、浴および槽
SE8201299L (sv) Bad for galvanisk utfellning av en palladium/nickel-legering
US3630856A (en) Electrodeposition of ruthenium
CN109881224B (zh) 一种深镀能力好的锡钴合金电镀液及其电镀方法
NO147995B (no) Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten
NO150214B (no) Fremgangsmaate til elektrolytisk utfelling av nikkel, kobolt og/eller binaere eller ternaere legeringer av metaller valgt fra gruppen nikkel, jern og kobolt og pletteringsloesning til utfoerelse av fremgangsmaaten