PL94415B1 - Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu - Google Patents
Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu Download PDFInfo
- Publication number
- PL94415B1 PL94415B1 PL17694974A PL17694974A PL94415B1 PL 94415 B1 PL94415 B1 PL 94415B1 PL 17694974 A PL17694974 A PL 17694974A PL 17694974 A PL17694974 A PL 17694974A PL 94415 B1 PL94415 B1 PL 94415B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- gloss
- low current
- current density
- glowing
- capacity
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- -1 benzoic acid imide Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 4
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N Benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 5
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000011987 methylation Effects 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu, o wysokiej wydajnosci katodowej, i o duzej zdolnosci krycia w glab powloka blyszczaca.Znany jest fakt, ze wprowadzajac do podstawowej kapieli niklowej typu Wattsa substancje blaskotwórcze mozna osiagnac polysk powlok niklowych. Jakosc powlok niklowych i ich wlasnosci sa zalezne od zestawu substancji biaskotwórczych. Wlasciwie dobrany zestaw substancji biaskotwórczych wplywa na takie wlasnosci powlok i kapieli, jak polysk powlok, zakres polysku, plastycznosc powlok, wydajnosc katodowa, zdolnosc wygladzania podloza, brak wrazliwosci na okreslone rodzaje zanieczyszczen i podobne.Badania naukowe i praktyka wykazaly, ze najlepsze wyniki uzyskuje sie przy stosowaniu wieloskladnikowych zestawów substancji biaskotwórczych. O jakosci uzyskiwanych powlok i pracy kapieli decyduje dobór skladników substancji biaskotwórczych i stezenie tych skladników. Niewielkie juz zmiany ilosciowe i jakosciowe w zestawie powoduja istotne zmiany w pracy kapieli i jakosci otrzymywanych powlok.Celem wynalazku jest opracowanie zestawu substancji biaskotwórczych do niklowania z polyskiem umozliwiajacego uzyskiwania wysokiej zdolnosci krycia w glab powloka blyszczaca, zwlaszcza na powierzchniach mi kr oporo waty eh, wysokiej wydajnosci katodowej i mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu. Postawiony ce! udalo sie zrealizowac, gdyz okazalo sie, ze piecioskladnikowy zestaw substancji biaskotwórczych spelnia postawione wymagania. Zestaw ten skrada sie z: OJ do 10g/i imidu kwasu benzoesowego, 0,1 do 5g/l soli metali alkalicznych z! grupy ukladu okresowego sulfonowych kwasów alifatycznych zawierajacych w lancuchu podwójne wiazania, 0,1 do 5 g/l aldehydu alifatycznego, 0,01 do 5 g/l formylobutindiolu lub produktów jego hydrolizy oraz 0,01 do 5 g/l produktów jego metylowania.Kapiel wedlug wynalazku ma szeroki zakres osadzania powlok blyszczacych. Zakres ten wynosi od 0,02 do 18 A/d m2. Wydajnosc katodowa kapieli jest bardzo wysoka i wynosi 97%. Tak wysoka wydajnosc kapieli praktycznie uniemozliwia powstawanie defektów powierzchniowych w postaci pitingu ze wzgledu na niewielka2 94 4(5 ilosc wydzielonego wodoru. Plastycznosc powlok z tej kapieli jest równiez wysoka i wynosi powyzej 6%.Zdolnosc wygladzania nierównosci podloza jest wysoka i wynosi 86%, przy czym zdolnosc ta rozciaga s;e równiez na mikrowygladzanie w zakresie niskich gestosci pradu.Przyklad. Do kapieli zawierajacej 350 g/l siarczanu niklawego NiSC4 *7H20, 30 g/l chlorku ni klawego NiCI2 "6H20, 40 g/l kwasu borowego i 50 g/l siarczanu magnezowego MgSQ4'/HjO, dodano 0,6 g/! imidu kwasu o-sulfobenzoesowego lub jego soli, 0,4 g/! aldehydu octowego, 0,4 g/i formylobutindiolu, 0 3 g/6 1-metoksy-2-butyn-4 sulfonianu sodowego i 0,5 g/l winylosulfonianu sodowego. Kapiel ta przy eksploatacji w temperaturze otoczenia przy gestosci 2 A/dm* dawala powloki odpowiadajace nalozonym wymaganiom. PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu, znamienna tym, ze jako substancje blaskotwórcze zawiera równoczesnie OJ do 10g/i imidu kwasu benzoesowego, 0,1 do 5 g/l soli metali alkalicznych z l grupy ukladu okresowego sulfonowych kwasów alifatycznych zawierajacych w lancuchu podwójne wiazanie, 0,1 do 5 g/l aldehydu alifatycznego, 0,01 co 5 g/l formylobu.tiodioiuJub produktów jego hydrolizy oraz 0,01 do 5 g/l produktów jego metylowan;£. Pisc. Poligraf. U? PRL naklsd 120-Hfc Ona 45 zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL17694974A PL94415B1 (pl) | 1974-12-30 | 1974-12-30 | Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL17694974A PL94415B1 (pl) | 1974-12-30 | 1974-12-30 | Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL94415B1 true PL94415B1 (pl) | 1977-08-31 |
Family
ID=19970376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL17694974A PL94415B1 (pl) | 1974-12-30 | 1974-12-30 | Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL94415B1 (pl) |
-
1974
- 1974-12-30 PL PL17694974A patent/PL94415B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3769182A (en) | Bath and method for electrodepositing tin and/or lead | |
| US3031387A (en) | Anodic oxidation of aluminum | |
| CA1292093C (en) | High-efficiency chromium plating bath with alkyl sulfonic acid for non-iridescent plate | |
| KR20110071106A (ko) | 개선된 백색도를 갖는 백금-로듐 층의 침착방법 | |
| TW201005129A (en) | Modified copper-tin electrolyte and process for the deposition of bronze layers | |
| JPS60181293A (ja) | アルカリ性浴からの電気亜鉛−鉄合金めつき法 | |
| US3661730A (en) | Process for the formation of a super-bright solder coating | |
| GB2189258A (en) | Zinc-nickel alloy electrolyte | |
| JP5336762B2 (ja) | 銅‐亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法 | |
| NO833388L (no) | Fremgangsmaate til overflatebehandling av aluminium og aluminiumlegeringer | |
| ES2890664T3 (es) | Baño de galvanizado de níquel para depositar un revestimiento de níquel decorativo sobre un sustrato | |
| US3892638A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys | |
| PL94415B1 (pl) | Kapiel do niklowania z polyskiem o duzej zdolnosci mikrowygladzania w zakresie niskich gestosci pradu | |
| US3860502A (en) | Electrodeposition of tin | |
| US3703448A (en) | Method of making composite nickel electroplate and electrolytes therefor | |
| JPS58110687A (ja) | 無水マレイン酸重合体のキレ−トを使用する金めつき浴及び金めつき方法 | |
| US2427280A (en) | Nickel electroplating composition | |
| JPS6141998B2 (pl) | ||
| US2654703A (en) | Electrodeposition of bright nickel, cobalt, and alloys thereof | |
| JPH03503068A (ja) | スズ‐ビスマス合金の電着方法、浴および槽 | |
| SE8201299L (sv) | Bad for galvanisk utfellning av en palladium/nickel-legering | |
| US3630856A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
| CN109881224B (zh) | 一种深镀能力好的锡钴合金电镀液及其电镀方法 | |
| NO147995B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| NO150214B (no) | Fremgangsmaate til elektrolytisk utfelling av nikkel, kobolt og/eller binaere eller ternaere legeringer av metaller valgt fra gruppen nikkel, jern og kobolt og pletteringsloesning til utfoerelse av fremgangsmaaten |