PL89267B3 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL89267B3 PL89267B3 PL1971147714A PL14771471A PL89267B3 PL 89267 B3 PL89267 B3 PL 89267B3 PL 1971147714 A PL1971147714 A PL 1971147714A PL 14771471 A PL14771471 A PL 14771471A PL 89267 B3 PL89267 B3 PL 89267B3
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- bromine
- acid
- carboxylic acid
- ethylene glycol
- tellurium
- Prior art date
Links
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- -1 bromine ions Chemical class 0.000 claims description 28
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 25
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims description 4
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910001513 alkali metal bromide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000005526 organic bromine compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 12
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBDSSBMEKXHSJF-UHFFFAOYSA-N cyclopentanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC1 JBDSSBMEKXHSJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910001509 metal bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Chemical group 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFDQLDNQZFOAFK-UHFFFAOYSA-N 2-benzoyloxyethyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 XFDQLDNQZFOAFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDLCZOVUSADOIV-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethanol Chemical compound OCCBr LDLCZOVUSADOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-M 2-cyanoacetate Chemical compound [O-]C(=O)CC#N MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SMNDYUVBFMFKNZ-UHFFFAOYSA-N 2-furoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CO1 SMNDYUVBFMFKNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVCYPHXUHJFRNZ-UHFFFAOYSA-N 2-pentanoyloxyethyl pentanoate Chemical class CCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCC PVCYPHXUHJFRNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXNZYCXMFBMHE-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCBr DHXNZYCXMFBMHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNTBDUTXMIMRKK-UHFFFAOYSA-N 5-chlorofuran-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)O1 NNTBDUTXMIMRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N Acetoacetic acid Natural products CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 159000000032 aromatic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane carboxylic acid Natural products OC(=O)C1CCCCCC1 VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMGUBTXCNDTFJI-UHFFFAOYSA-N cyclopropanecarboxylic acid Chemical group OC(=O)C1CC1 YMGUBTXCNDTFJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- WOWBFOBYOAGEEA-UHFFFAOYSA-N diafenthiuron Chemical compound CC(C)C1=C(NC(=S)NC(C)(C)C)C(C(C)C)=CC(OC=2C=CC=CC=2)=C1 WOWBFOBYOAGEEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N m-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1 GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229960003512 nicotinic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000001968 nicotinic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 1
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N nitrous oxide Inorganic materials [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N palmitic acid group Chemical group C(CCCCCCCCCCCCCCC)(=O)O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003022 phthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940081066 picolinic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N tellurium dioxide Chemical compound O=[Te]=O LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QERYCTSHXKAMIS-UHFFFAOYSA-N thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CS1 QERYCTSHXKAMIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/04—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds
- C07C67/05—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds with oxidation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania estrów glikolu etylenowego i kwasów karboksylowych i jest uzupelnieniem sposobu, stanowiacego przedmiot patentu nr 81199.Przedmiotem patentu glównego nr 81199 jest sposób wytwarzania estrów glikolu etylenowego i kwasów karboksylowych w reakcji etylenu z chlorem lub bromem albo halogenkiem zdolnym do wytwarzania jonów chloru lub bromu oraz z kwasem karboksylowym w obecnosci tlenu, pod zwiekszonym cisnieniem, w temperatu¬ rze 100-200°C w obecnosci co najmniej jednego zwiazku lub mieszaniny zwiazków metali o zmiennej wartosciowosci takich jak Te, Ce, Sb, Mn, V, Ga, As, Co, Cu, Se, Cr lub Ag, przy czym ilosc kationu metalu o zmiennej wartosci w stosunku do masy chlorowca wynosi 0,01-100, a chlorowiec stosuje sie w ilosci 0,01-30% w stosunku do masy reakcyjnej.Obecnie stwierdzono, ze obecnosc jonów metali alkalicznych lub metali ziem alkalicznych w srodowisku reakcji prowadzi do zmniejszenia szybkosci tworzenia estru glikolu etylenowego kwasu karboksylowego.Nieoczekiwanie stwierdzono, ze utleniajac tlenem etylen w srodowisku kwasu karboksylowego i w obecnos¬ ci telluru oraz odpowiedniego zródla bromu otrzymuje sie estry glikolu etylenowego z wysoka wydajnoscia i selektywnoscia, o ile kwasowosc srodowiska reakcji utrzymuje sie ponizej wartosci pH 2. Podana wartosc pH dotyczy próbek rozcienczonych woda w stosunku wagowym 10:1, mierzonego w temperaturze 25 C. pH srodowiska reakcji w czasie trwania reakcji utrzymywano ponizej 2 dostarczajac dostateczna ilosc bromu z zastosowaniem niezasadowego zródla bromu.Jezeli jony metali alkalicznych lub metali ziem alkalicznych sa obecne w srodowisku reakcji, konieczna jest dodatkowa ilosc bromu w strefie utleniania, pochodzacego z niezasadowego zródla. Jako niezasadowe zródlo bromu stosuje sie kwas bromowodorowy, Br2, bromki telluru, bromki organiczne oraz bromki metali, w których metal nie jest metalem alkalicznym ani metalem alkalicznych ziem.Stosuje sie taka ilosc bromu, która wystarcza do zmniejszenia wartosci pH srodowiska reakcji podczas przebiegu reakcji utleniania do wartosci pH ponizej 2 w celu zwiekszenia szybkosci tworzenia sie estru glikolu, zwiekszenia selektywnosci i wydajnosci reakcji.Okreslenie „selektywnosc" i „selektywnosc w stosunku do zadanego estru glikolu" oznacza procent molowy przereagowanego etylenu z którego powstal zadany dwuester glikolu wicynalnego lub prekursor, przy2 89 267 czym za prekursor uwaza sie jednoester glikolu i glikol. Tak wiec pozadany produkt dwuester glikolu etylenowego zawiera tez jednoester glikolu etylenowego i glikol etylenowy.Jako kwasy karboksylowe w sposobie wedlug wynalazku korzystnie stosuje sie niskoczasteczkowe alifatyczne kwasy jednokarboksylowe zawierajace 2—6 atomów wegla, takie jak kwas octowy, propionowy, propanokarboksylowy-1, propanokarboksylowy-2, butanokarboksylowy-1 i pentanokarboksylowy-1 oraz ich podstawione pochodne, zwlaszcza z takimi podstawnikami/które sa obojetne na warunki utleniania. Sposób wedlug wynalazku korzystnie stosuje sie do wytwarzania dwuoctanów, dwupropionanów, dwupropanokarboksy- lanów-1, dwupropanokarboksylanów-2, dwubutanokarboksylanów i dwupentanokarboksylanów glikolu etyleno¬ wego oraz odpowiednich jednoestrów.Sposób wedlug wynalazku obejmuje równiez stosowanie alifatycznych kwasów jednokarboksylowych o srednim ciezarze czasteczkowym, zawierajacych 7—12 atomów wegla takich jak kwas heptanokarboksylowy-1, nonanokarboksylowy-1 i laurynowy, jak równiez wyzszych alifatycznych kwasów jednokarboksylowych, zawie¬ rajacych od 12 do 30 atomów wegla, takich jak kwas mirystynowy, palmitynowy, stearynowy, pentakozylowy oraz heksakozylowy. Stosowane kwasy zawieraja ewentualnie jeden lub wiecej podstawników, takich jak niskoczasteczkowa grupa al koksylowaf na przyklad grupa, metoksylowa i propoksylowa, atom chloru, grupa cyjanowa, niskoczasteczkowa grupa alkilotio, taka jak grupa metylotio, etylotio, butylotio itp. Przykladami odpowiednich kwasów jak kwas acetylooctowy, chloropropionowy, cyjanooctanowy, metoksyoctowy i 3-metylo- propionowy. Ponadto stosuje sie ewentualnie kwasy aromatyczne zawierajacej jedna lub wiecej grup karboksylo- wych, takie jak kwas benzoesowy, alfa-naftoesowy, o-metylobenzoesowy, m-metylobenzoesowy, o-chlorobenzo- esowy, m-chlorobenzoesowy, o-nitrobenzoesowy, m-nitrobenzoesowy, p-hydroksybenzoesowy, o-aminobenzo- esowy, m-aminobenzoesowy, p-aminobenzoesowy, fenylooctowy, 2,4-dwuchlorofenyloksyoctowy, hydrocyna- monowy, 2-fenylomaslowy i ftalowy.Jako kwasy alicykliczne stosuje sie kwasy zawierajace w pierscieniu 3—6 atomów wegla, ewentualnie podstawione i zawierajace jedna lub wiecej grup karboksylowych, takie jak kwas cyklopropanokarboksylowy, cyklopentanokarboksylowy i cykloheksanokarboksylowy. Jako kwasy heterocykliczne stosuje sie np. kwasy zawierajace 1—3 sprzezone pierscienie, ewentualnie podstawione, zawierajace jedna lub wiecej grupy karboksylo¬ we oraz co najmniej 1—3 heteroatomy takie jak atom tlenu, siarki lub azotu, na przyklad kwas pikolinowy, nikotynowy, 3-indolilooctowy, furanokarboksylowy, 2-tiofenokarboksylowy, chinolinowy, (2-metyloindolilo-3)- -octowy, 5-chlorofuranokarboksylowy i 4-nitroni kotynowy.W sposobie wedlug wynylyzku jako kwas karboksylowy korzystnie stosuje sie kwas alifatyczny lub 'aromatyczny, zwlaszcza kwas zawierajacy jedno ugrupowanie fenylowe i niskoczasteczkowy kwas alifatyczny, taki jak niskoczasteczkowy niepodstawiony alifatyczny kwas jednokarboksylowy lub kwas benzoesowy, najko¬ rzystniej kwasoctowy. r W sposobie wedlug wynalazku stosuje sie ewentualnie mieszanine kwasów karboksylowych w dowolnych stosunkach. Korzystnie stosuje sie ten sam kwas jako rozpuszczalnik oraz czesc kwasowa otrzymywanego estru.Koncowy produkt estrowy ewentualnie sluzy równiez jako rozpuszczalnik. Ponadto stosuje sie kwasy karboksy¬ lowe dostepne na rynku, w postaci, na przyklad roztworów wodnych. Korzystnie stosuje sie jednak kwasy handlowe zawierajace maksymalnie 25% wody, zwlaszcza o zawartosci najwyzej 15% wody, takie jak 98% kwas octowy. Stosowane kwasy zawieraja ewentualnie rózne organiczne i nieorganiczne zanieczyszczenia znajdujace sie zwykle w róznych kwasach handlowych i wraz z tymi zanieczyszczeniami moznaje stosowac w sposobie wedlug 1 wynalazku lub tez zanieczyszczenia usuwa sie. Kwas taki jest ewentualnie kwasem obiegowym, zawierajacym zanieczyszczenia wprowadzane do obiegu z surowcami.Kation telluru metalicznego mozna wprowadzac w postaci pierwiastkowej i dodawac do strefy utleniania w postaci drobnego proszku lub tez w innej postaci, w której w roztworze, w warunkach utleniania uzyskuje sie przynajmniej czesc rozpuszczalnych jonów metalu. Jako zródla telluru stosuje sie na przyklad weglan, tlenek, wodorotlenek, bromek, chlorek, niskoczasteczkowy alkoholan, taki jak metanolan, fenolan lub karboksylan metalu, w którym jon karboksylowy jest taki sam lub rózny od anionu rozpuszczalnika. Korzystnie tellur wprowadza sie w postaci tlenku, wodorotlenku lub soli kwasu bedacego rozpuszczalnikiem, lecz zwlaszcza w postaci tlenku. Stosowane zwiazki telluru metalicznego, zawieraja zanieczyszczenia znajdujace sie zwykle w produktach handlowych i ewentualnie stosuje sie je bez oczyszczania.Jako niezawodne zródla bromu stosowane w sprzezeniu ze zwiazkiem telluru stosuje sie zwiazki, które w warunkach utleniania daja jony bromkowe w roztworze.Na przyklad stosuje sie Br2, kwas bromowodorowy, bromek telluru, bromek organiczny lub bromek metalu, w którym kation nie jest kationem metalu alkalicznego ani kationem metalu ziem alkalicznych. Jako bromki organiczne stosuje sie bromowe pochodne zwiazków zawierajacych wiazanie podwójne, poddawanych utlenianiu oraz pochodne produktów reakcji. Na przyklad podczas utleniania etylenu stosuje sie 1,2-dwubromo-89 267 3 etan, bromohydryne etylenowa, 2-bromoetylokarboksylan i inne pochodne etylenu zawierajace brom i obejmuja¬ ce wysokoczasteczkowe etery itp.Rózne reagenty stosowane w reakcji utleniania stosuje sie w szerokim zakresie stezen. Minimalne stezenia katalizatora zaleza od temperatury, czasu przebywania i rodzaju zwiazku bromu, wyrazone w procentach wagowych bromu w stosunku do calego roztworu i wynosza 0,1—30%, lub wiecej, korzystnie 0,1—20%, zwlaszcza 0,5—10%. Stezenie aktywnych kationów tellurowych, wyrazone jako funkcja w stosunku równowazni¬ ków kationu do równowaznika bromu zmienia sie i wynosi okolo 1 :0,01 — 1 :100, korzystnie 1 :0,2 — 1 :40, zwlaszcza 1 :1 1 : 20.Stosunek molowy tlenu do etylenu wprowadzanego do strefy utleniania nie jest najistotniejszy i dlatego prowadzi sie reakcje przy jakimkolwiek stosunku molowym wynoszacym 1 :1000 — 1 :0,001, pod warunkiem, ze stosunek ten nie powoduje powstania mieszaniny wybuchowej. Jako zródlo tlenu stosuje sie ewentualnie tlen gazowy lub mieszanine tlenu i gazu obojetnego, znajdujacego sie np. w powietrzu lub tez powietrze.W strefie utleniania utrzymuje sie temperature od okolo 50°C do temperatury wrzenia cieklej fazy mieszaniny reakcyjnej. Korzystnie temperatura reakcji wynosi okolo 90 do okolo 180°C. Cisnienie calkowite w strefie utleniania jest równe cisnieniu atmosferycznemu lub nizszemu i wynosi okolo 350 atn lub wyzsze korzystnie okolo 1,75 — okolo 70 atn. Calkowite cisnienie wynosi 3,5—70 atn, najkorzystniej 14—49 atn.Czas reakcji zalezy od stezenia reagentów i dlatego zmienia sie w szerokich granicach. Szybkosci przeplywu ustala sie tak, aby szybkosc tworzenia sie produktu, takiego jak dwuester glikolu wynosi 0,10 — 10,0 gramoczasteczek na litr na godzine.Kiedy osiaga sie stan ustalony, reakcje prowadzi sie z wykorzystaniem pozostajacego w fazie cieklej produktu zawierajacego 5 — 60% wagowych produktów estrowych glikolu, pozostajacych w fazie cieklej srodowiska reakcji, przy czym korzystnie stezenie wynosi 15 — 50% wagowych w stosunku do calkowitego ciezaru cieczy.Ewentualnie reakcje prowadzi sie w obecnosci obojetnego rozpuszczalnika. Jako odpowiedni rozpuszczal¬ nik stosuje sie benzen, III rzed.butylobenzen, III rzed.-butanol lub dwuoctan glikolu etylenowego tp. Jako rozpuszczalnik korzystnie stosuje sie kwas karboksylowy, który równoczesnie jest zródlem rodnika kwasowego w otrzymanym estrze.Reakcje prowadzi sie w jednym naczyniu reakcyjnym ewentualnie w 2 lub wiecej naczyniach reakcyjnych.Reakcje prowadzi sie w sposób periodyczny lub w sposób ciagly, przy czym w tym ostatnim przypadku produkty posrednie, takie jak bromek etylenu i/lub jednobromoetylenokarboksylan lub pochodne glikolu etylenowego, zawraca sie do ukladu uzyskujac dodatkowe ilosci estru glikolu etylenowego.Estry otrzymane z etylenu i róznych kwasów karboksyIowych sposobem wedlug wynalazku stosuje sie jako rozpuszczalniki i zmiekczacze. Na przyklad dwuoctan glikolu etylenowego stosuje sie jako rozpuszczalnik lub tez pólprodukt do otrzymywania glikolu etylenowego lub octanu winylu. Podobnie, dwubenzoesan glikolu etylenowego stosuje sie jako rozpuszczalnik lub jako pólprodukt do otrzymywania glikolu etylenowego i ben¬ zoesanu winylu. Ewentualnie kazdy dwukarboksylan glikolu etylenowego stosuje sie do otrzymania glikolu etylenowego na drodze hydrolizy znanymi sposobami.Ponizej podane przyklady ilustruja sposób wedlug wynalazku.Jezeli nie oznaczono inaczej podane w przykladach procenty sa procentami wagowymi.Przyklad I. Do reaktora z wykladzina szklana, zawierajacego 10 g kwasu octowego, dodaje sie metalu i chlorowca w ilosciach podanych w tablicy 1. Nastepnie cisnienie zwieksza sie do 7 atn z zastosowaniem sprezonego tlenu, a nastepnie do 14 atn z zastosowaniem etylenu.Mieszanine reakcyjna miesza sie, ogrzewajac wciagu 2 godzin do temperatury 160°C i utrzymujac pH 0,5-1,8. Dwuoctan glikolu etylenowego (EGDA) znajduje sie w wyplywajacym strumieniu, w ilosciach poda¬ nych w tablicy 1. Wyniki uzyskane w doswiadczeniu 6 pokazuja zalety lacznego stosowania telluru metalicznego i bromu.4 89 267 Numer doswiadczenia 1 2 3 4 . 5 6 7 8 9 Tabl Zwiazek zawierajacy metal (g) - - - 0,2 Te02 0,2 Te02 0,2 Te02 0,2 Te02 0,2 Te02 i ca I Chlorowco- zwiazek (g) 0,37 KBr 0,25 Br2 0,35 LiCI 0,935% HCI 0,37 KBr 0,548% HBr - 0,35 LiCI 0,935% HCI EGDA (%) 2/7 0,3 0 0 x 23,7 49,5 0,0 0,1 0,6 Jezeli stosuje sie wylacznie halogenek zawierajacy brom, uzyskuje sie male ilosci dwuoctanu glikolu etylenowego lub nie uzyskuje sie go w ogóle. W przypadku zastosowania zwiazku telluru nie otrzymuje sie zadanego, produktu. Stosujac mieszanine zwiazku telluru i bromku potasowego (doswiadczenie 5) otrzymuje sie pewne ilosci EGDA ale z porównania wyników doswiadczenie 5 i 6 widac wyrazna róznice w ilosci otrzymanego EGDA przy zastosowaniu polaczenia zwiazku telluru z bromem pochodzacym ze zwiazku z metalem alkalicznym i z innego zwiazku, na korzysc mieszaniny zwiazku telluru z bromem nie pochodzacym z soli metalu alkaliczne¬ go.Z doswiadczen wynika, ze zastosowanie polaczenia zwiazków telluru i bromu prowadzi do uzyskania niespodziewanie wysokich wydajnosci w porównaniu z zastosowaniem samych chlorowców lub telluru. W rzeczy¬ wistosci zastosowanie mieszaniny telluru z bromem prowadzi do uzyskania duzo wiekszych wydajnosci, niz w przypadku sumy pojedynczych efektów uzyskanych dla bromu i telluru zastosowanych oddzielnie, które w niektórych przypadkach sa 5—10 razy wieksze od tej sumy, ze mozna tu mówic o dzialaniu synergistycznym.Podobne wyniki uzyskuje sie prowadzac doswiadczenie 6 w temperaturze 80°C, 120°C 140°CJ[ub 200°C w ciagu odpowiednio 24, 16, 8 lub 1 lub tez 1/2godziny. v Przyklad II. Przyklad ten ilustruje wplyw pH i wskazuje na koniecznosc utrzymywania pH ponizej 2 poprzez dobór odpowiedniego zródla bromu do utleniania etylenu w obecnosci katalizatora tellurowego.We wszystkich doswiadczeniach stosowano tytanowy autoklaw o pojemnosci 1,5 I z mieszadlem, przysto¬ sowany do pracy ciaglej i zaopatrzony w przelew cieczy przy objetosci 1 litra. Do autoklawu wprowadza sie 450 g kwasu octowego, 20,5 g wody, 10,5 g dwutlenku telluru i 231 milimol i halogenku. Temperature w aparacie zwieksza sie stopniowo do 150°C, utrzymujac cisnienie 21 atn i przepuszczajac etylen z szybkoscia 60 litrów (warunkach standartowych) na godzine, tlen z szybkoscia 50 litrów (w warunkach standartowych) na godzine i etan z szybkoscia 210 litrów (w warunkach standartowych) na godzine.W tablicy II podano poczatkowe wartosci pH srodowiska reakcji oraz pH strumienia wyplywowego. Pomiar wartosci pH przeprowadzono sporzadzajac mieszanine 50 g wody destylowanej i 5 g próbki w zlewce o pojemnos¬ ci 100 ml. Po zmieszaniu calosci wciagu 15 minut w temperaturze 25°C mierzono pH za pomoca pehametru Photovolt Model 115 Electronic. Dla kazdego badanego halogenku prowadzono reakcje wciagu 2 godzin.Uzyskane ilosci dwuoctanu glikolu etylenowego w molach na litr na godzine podano w tablicy II.89 267 Tab I i ca II Numer doswiadczenia 1 2 3 4 Ol 6 7 8 9 Halogenek hbT KBr NaBr LiCI NaCI CaCI2 LiF BaF2 TeBr^) pH poczatkowe dla mieszaniny H2 0: próbka w stosunku 10:1. 0\5 1,5 1.5 1,6 1.5 1.6 1,5 1,5 1,4 pH koncowe dla mieszaniny H2 0 : próbka w stosunku 10:1 Ti 2,3 2,4 2,3 2,4 2,3 2,3 2.3 1,8 Ilosc utworzonego EGDA (mol) kit, godz. 1,50 0,57 0,78 0,00 0,00 0,00 0,00 0,00 1,44 * 264 milimoli uzytego bromku.W kazdym doswiadczeniu zawartosc dwuoctanu glikolu etylenowego w strumieniu wyplywajacym ozna¬ czono za pomoca chromatografii gazowej po usunieciu nieprzereagowanego etylenu. PL
Claims (3)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania estrów glikolu etylenowego i kwasów karboksylowych w reakcji etylenu z bromem albo halogenkiem zdolnym do wytwarzania jonów bromu oraz z kwasem karboksylowym w temperaturze 100—200°C pod zwiekszonym cisnieniem, w obecnosci tlenu i w obecnosci co najmniej, jednego zwiazku lub mieszaniny zwiazków metalu o zmiennej wartosciowosci, takiego jak Te, przy czym ilosc metalu o zmiennej wartosciowosci w stosunku do masy chlorowca wynosi 0,01—100, a chlorowiec stosuje sie w ilosci 0,01—30% wedlug patentu nr 81 199, znamienny t y m, ze reakcje prowadzi sie w srodowisku o pH wynoszacym mniej niz 2, utrzymywanym za pomoca bromu, wprowadzanego do srodka reakcji w postaci niezasadowego zródla bromu takiego jak brom, kwas bromowodorowy, bromek telluru lub zwiazki organiczne bromu oraz bromki metali, innych niz metale alkaliczne lub metale ziem alkalicznych.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1,znamienny tym, ze jako kwas karboksylowy stosuje sie niskoczastecz- kowy kwas karboksylowy, zawierajacy 2—6 atomów wegla.
- 3. Sposób wedlug zastrz. 1,znamienny tym, ze jako niskoczasteczkowy kwas karboksylowy stosuje sie kwas octowy. PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US3126270A | 1970-04-23 | 1970-04-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL89267B3 true PL89267B3 (pl) | 1976-11-30 |
Family
ID=21858484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1971147714A PL89267B3 (pl) | 1970-04-23 | 1971-04-22 |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3668239A (pl) |
| JP (1) | JPS5525175B1 (pl) |
| BE (2) | BE766001R (pl) |
| BR (1) | BR7102421D0 (pl) |
| CH (1) | CH533592A (pl) |
| DE (1) | DE2120004C3 (pl) |
| ES (2) | ES390526A2 (pl) |
| FR (2) | FR2092923B2 (pl) |
| GB (1) | GB1351242A (pl) |
| IE (1) | IE35149B1 (pl) |
| IT (2) | IT994014B (pl) |
| LU (1) | LU63021A1 (pl) |
| NL (1) | NL7105443A (pl) |
| NO (2) | NO134418C (pl) |
| PL (1) | PL89267B3 (pl) |
| RO (1) | RO58098A7 (pl) |
| SE (1) | SE383336B (pl) |
| ZA (1) | ZA712642B (pl) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3859368A (en) * | 1971-09-08 | 1975-01-07 | Halcon International Inc | Method of producing polyhydric compounds such as ethylene glycol by disproportionation of its monoacetate |
| US3968174A (en) * | 1971-09-08 | 1976-07-06 | Halcon International, Inc. | Method of producing polyhydric compounds |
| US3968175A (en) * | 1971-09-08 | 1976-07-06 | Halcon International, Inc. | Method of producing polyhydric compounds |
| US3907874A (en) * | 1972-08-09 | 1975-09-23 | Halcon International Inc | Vicinal glycol ester preparation process |
| US4045477A (en) * | 1975-07-17 | 1977-08-30 | Chem Systems Inc. | Acetoxylation process |
| DE2636669A1 (de) * | 1976-08-14 | 1978-02-23 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von glykolestern |
| US4159989A (en) * | 1977-05-02 | 1979-07-03 | Standard Oil Company (Indiana) | Process for preparing ethylene glycol diacylate |
| US4187153A (en) * | 1977-11-14 | 1980-02-05 | Halcon Research & Development Corporation | Production of alkylene glycols |
| DE2834540A1 (de) * | 1978-08-07 | 1980-02-21 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von carbonsaeureestern vicinaler glykole |
| US4258208A (en) * | 1979-07-23 | 1981-03-24 | Atlantic Richfield Company | Preparation of esters from organic bromo alkyl tellurium compounds |
| US4260814A (en) * | 1979-07-23 | 1981-04-07 | Atlantic Richfield Company | Preparation of esters by the thermal decomposition of a bis(2-bromoalkyl)tellurium dicarboxylate compound |
| US4224301A (en) * | 1979-08-20 | 1980-09-23 | Atlantic Richfield Company | Removal of tellurium from glycol ester solutions |
| US4271090A (en) * | 1979-10-29 | 1981-06-02 | Halcon Research And Development Corp. | Novel 2-bromoethyl tellurium bromides |
| US4238624A (en) * | 1979-11-02 | 1980-12-09 | The Dow Chemical Company | Process for making glycol esters |
| US4528396A (en) * | 1982-09-24 | 1985-07-09 | Texaco Inc. | Dicyclopentadiene derived ester compounds |
| GB9823853D0 (en) | 1998-10-30 | 1998-12-23 | Bp Chem Int Ltd | A process for making n-butyl esters from butadiene |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3479395A (en) * | 1966-05-02 | 1969-11-18 | Celanese Corp | Oxidation of olefins with tellurium compounds |
-
1970
- 1970-04-23 US US31262A patent/US3668239A/en not_active Expired - Lifetime
-
1971
- 1971-04-20 BE BE766001A patent/BE766001R/xx active
- 1971-04-20 BE BE766002A patent/BE766002R/xx active
- 1971-04-20 LU LU63021D patent/LU63021A1/xx unknown
- 1971-04-21 IE IE497/71A patent/IE35149B1/xx unknown
- 1971-04-22 RO RO66661A patent/RO58098A7/ro unknown
- 1971-04-22 NL NL7105443A patent/NL7105443A/xx unknown
- 1971-04-22 FR FR717114278A patent/FR2092923B2/fr not_active Expired
- 1971-04-22 IT IT49899/71A patent/IT994014B/it active
- 1971-04-22 FR FR717114279A patent/FR2092924B2/fr not_active Expired
- 1971-04-22 GB GB1081871*[A patent/GB1351242A/en not_active Expired
- 1971-04-22 CH CH587571A patent/CH533592A/fr not_active IP Right Cessation
- 1971-04-22 PL PL1971147714A patent/PL89267B3/pl unknown
- 1971-04-22 SE SE7105219A patent/SE383336B/xx unknown
- 1971-04-22 IT IT49900/71A patent/IT989584B/it active
- 1971-04-23 BR BR2421/71A patent/BR7102421D0/pt unknown
- 1971-04-23 JP JP2614571A patent/JPS5525175B1/ja active Pending
- 1971-04-23 ES ES390526A patent/ES390526A2/es not_active Expired
- 1971-04-23 NO NO1526/71A patent/NO134418C/no unknown
- 1971-04-23 DE DE2120004A patent/DE2120004C3/de not_active Expired
- 1971-04-23 ES ES390527A patent/ES390527A2/es not_active Expired
- 1971-04-23 ZA ZA712642A patent/ZA712642B/xx unknown
- 1971-04-23 NO NO1527/71A patent/NO133754C/no unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE766002R (fr) | 1971-10-20 |
| JPS5525175B1 (pl) | 1980-07-04 |
| DE2120004A1 (pl) | 1971-11-04 |
| SE383336B (sv) | 1976-03-08 |
| ES390527A2 (es) | 1974-08-16 |
| NO134418C (pl) | 1976-10-06 |
| IE35149L (en) | 1971-10-23 |
| FR2092923A2 (pl) | 1972-01-28 |
| NO134418B (pl) | 1976-06-28 |
| ZA712642B (en) | 1972-11-29 |
| ES390526A2 (es) | 1974-05-01 |
| NL7105443A (pl) | 1971-10-26 |
| DE2120004C3 (de) | 1975-06-05 |
| NO133754B (pl) | 1976-03-15 |
| BR7102421D0 (pt) | 1973-03-15 |
| CH533592A (fr) | 1973-02-15 |
| LU63021A1 (pl) | 1972-12-11 |
| FR2092923B2 (pl) | 1973-06-08 |
| US3668239A (en) | 1972-06-06 |
| RO58098A7 (pl) | 1975-07-15 |
| IE35149B1 (en) | 1975-11-26 |
| IT989584B (it) | 1975-06-10 |
| NO133754C (pl) | 1976-06-23 |
| IT994014B (it) | 1975-10-20 |
| FR2092924A2 (pl) | 1972-01-28 |
| DE2120004B2 (pl) | 1974-10-17 |
| FR2092924B2 (pl) | 1973-06-08 |
| BE766001R (fr) | 1971-10-20 |
| GB1351242A (en) | 1974-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL89267B3 (pl) | ||
| US4551566A (en) | Process for the production of alkylene glycols | |
| JPS6230179B2 (pl) | ||
| US3715389A (en) | Process for preparing glycol esters from olefinically unsaturated compounds | |
| EP0019483B1 (en) | Method of producing biphenyltetracarboxylic esters | |
| US4045477A (en) | Acetoxylation process | |
| EP0097978A1 (en) | A process for the co-production of carboxylic acids | |
| US4464303A (en) | Manufacture of higher aryl esters cross-reference to related applications | |
| US3715388A (en) | Process for preparing glycol esters from ethylene and propylene | |
| US4044041A (en) | Preparation of esters of unsaturated alcohols | |
| US3778468A (en) | Process for preparing ethylene glycol esters | |
| US4052442A (en) | Process for preparing glycol esters | |
| US4061868A (en) | Process for the manufacture of glycols and glycol nono-esters | |
| CA1079294A (en) | Process for producing alkylene glycol esters | |
| US4144396A (en) | Process for producing alkylene glycol esters | |
| US4316046A (en) | Process for the preparation of aryl carboxylates | |
| EP0070665A1 (en) | Process for oxidising phenol to P-benzoquinone | |
| US3459796A (en) | Production of acetic acid | |
| US4209650A (en) | Process for producing ethylene glycol | |
| JPS6112647A (ja) | カルボニル化合物の製造法 | |
| EP0330203B1 (en) | Catalytic process for preparing ethylene-tetracarboxylic esters | |
| SU441702A1 (ru) | Способ получени сложных эфиров этиленгликол | |
| JP4385879B2 (ja) | ビフェニル類の製造方法、及び製造用触媒 | |
| SU910595A1 (ru) | Способ получени пропиленгликол и его ацетатов | |
| EP0083914B1 (en) | Metal and acid catalysis in sorbic acid preparation |