Claims (10)
1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania nowych eterów zasadowych o ogólnym wzorze 1, w któiym R oznacza rodnik alkilowy o co najwyzej 4 atomach wegla, Rx oznacza nizszy rodnik alkilowy, rodnik allilowy lub benzylowy, R2 oznacza rodnik alkenylowy, aralkenyiowy, chlorowcoalkenylowy, alkinylowy-cykloalkilowy lub cykloalkilidenometylowy, aR3 oznacza atom wodoru lub rodnik metylowy, oraz ich soli addycyjnych z kwasami, zna m,i e nny tym, ze zasadowy eter o ogólnym wzorze 2, w któiym R i R3 maja wyzej podane znaczenie, aR< oznacza nizszy rodnik alkilowy, rodnik allilowy lub benzylowy,'poddaje sie reakcji z chlorowcozwiazkiem o ogólnym wzorze 3, w którym Ra ma wyzej podane znaczenie, a Hal oznacza atom chlorowca, i otrzymana zasade ewentualnie przeprowadza sie w sól addycyjna z kwasem lub z otrzymanej soli uwalnia sie zasade.1. Claims 1. A process for the preparation of new basic ethers of the general formula, in which R is an alkyl radical of at most 4 carbon atoms, Rx is a lower alkyl radical, allyl or benzyl radical, R2 is an alkenyl, aralkenyl, haloalkenyl, alkynyl radical -cycloalkyl or cycloalkylidenemethyl, aR3 represents a hydrogen atom or a methyl radical, and their acid addition salts, such as the basic ether of the general formula II, in which R and R3 are as defined above, and R <is the lower radical an alkyl, allyl or benzyl radical, is reacted with a halogen compound of the general formula, in which Ra is as defined above and Hal is a halogen atom, and the base obtained is optionally converted into an acid addition salt or the salt obtained is liberated .
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze reakcje prowadzi sie w obecnosci srodków wiazacych kwas i w podwyzszonej temperaturze, 3.2. The method according to claim 3. The process of claim 1, characterized in that the reactions are carried out in the presence of acid-binding agents and at elevated temperature, 3.
3. Sposób wytwarzania nowych eterów zasadowych o ogólnym wzorze 1, w którym R oznacza rodnik alkilowy o co najwyzej 4 atomach wegla.3. A process for the preparation of new basic ethers of general formula I, in which R is an alkyl radical of at most 4 carbon atoms.
4. R* oznacza atom wodoru, Ra oznacza rodnik alkenylowy, aralkenyiowy, chlorowcoalkenylowy, alkinylowy, cykloalkilowy lub cykloalkilidenometylowy, aR3 oznacza atom wodoru lub rodnik metylowy, oraz ich soli addycyjnych z kwasami, z n,a m4,e »n,y tym, ze zasadowy eter o ogólnym wzorze 2 w,obecnosci zasady lub sól metalu alkalicznego z zasadowym eterem o wzorze 2, przy czym we wzorze 2 symbole R s,Ra maja wyzej podane znaczenia, aR| oznacza rodnik acylowy, poddaje sie reakcji z chlorowcozwiazkiem o wzorze 3, w którym Ra ma wyzej podane znaczenie, a Hal oznacza atom chlorowca, po czym w otrzymanym zwiazku odszczepia sie hydrolityesnie rodnik acylowy i otizymana zasade ewentualnie przeprowadza sie w sól addycyjna z kwasem lub z otrzymanej soli uwalnia sie zasade.86 974 7 4v Sposób wedlug zastrz, 3, z n a m,i,e n n y tym, ze sól metalu alkalicznego z zasadowym eterem o wmtu 2, wytworzona na drodze reakcji zasadowego eteru o wzorze 2, w którym R, R3 i R\ maja znaczenie podane w zastrz 3. z wodorkiem metalu alkalicznego, stosuje sie w srodowisku aprotonowego rozpuszczalnika, korzystnie w srodowisku szesciometyiotrójamidu kwasu fosforowego.4. R * is a hydrogen atom, Ra is an alkenyl, aralkenyi, haloalkenyl, alkynyl, cycloalkyl or cycloalkylidenemethyl radical, and R3 is a hydrogen atom or a methyl radical, and their acid addition salts, Zn, and m4, e, n, and y. with a basic ether of general formula II in the presence of a base or an alkali metal salt with a basic ether of formula II, wherein in formula II the symbols R s, Ra have the meanings given above, aR | represents an acyl radical, is reacted with a halogen compound of formula III, in which Ra is as defined above and Hal is a halogen atom, then the acyl radical is hydrolytically cleaved in the obtained compound and the base obtained is optionally converted into an acid addition salt or with of the obtained salt is released by the principle of the method according to claim 3, characterized in that the alkali metal salt with a basic ether of mtu 2 is prepared by reaction of a basic ether of formula 2, wherein R, R 3 and R 1 is as defined in claim 3 with an alkali metal hydride, is used in an aprotic solvent environment, preferably in the environment of phosphoric acid hexamethiotriamide.
5. Se Sposób wedlug zastrz. 3, z n a m i e n n y t y m, ze jako substrat stosuje sie zwiazek o wzorze 2, w którym R\ oznacza grupe trójfluoroacetyiowa, a grupe te odszczepia sie na drodze hydrolizy alkalicznej,5. The method according to claim 3, with n a m and e n n y m, that a compound of formula 2 is used as a substrate, in which R \ is a trifluoroacetyl group, and this group is cleaved by alkaline hydrolysis,
6. , Sposób wytwarzania nowych eterów zasadowych o ogólnym wzorze 1, w którym R oznacza rodnik alkilowy o co najwyzej 4 atomach wegla, Ri oznacza rodnik alkilowy, rodnik allilowy lub benzylowy, R2 oznacza rodnik alkenylowy, aralkenylowy, chlorowcoalkenylowy, alkinylowy, cykloalkilowy lub cyklcalkilometylowy, a R3 oznacza atom wodoru lub rodnik metylowy, oraz ich soli addycyjnych z kwasami, znamienny tym, ze zasadowy eter o ogólnym wzorze 2 w obecnosci zasady lub sól metalu alkalicznego z zasadowym eterem o wzorze 2, przy czym we wzorze 2 symbole Ri R3 maja. wyzej podane znaczenie, a R'1 oznacza rodnik acylowy, poddaje sie reakcji z chlorowcozwiazkiem o wzorze 3, w którym R2 ma wyzej podane znaczenie, a Hal oznacza atom chlorowca, po czym w otrzymanym zwiazku odszczepia sie hydrolitycznie rodnik acylowy, w powstajacej przy tym, drugorzedowej grupie aminowej atom wodoru wymienia sie na rodnik alkilowy, allilowy lub benzylowy i otrzymana zasade ewentualnie przeprowadza sie w sól addycyjna z kwasem lub z otrzymanej soli uwalnia sie zasade.6., A method for the preparation of new basic ethers of the general formula I, in which R is an alkyl radical of at most 4 carbon atoms, Ri is an alkyl, allyl or benzyl radical, R2 is an alkenyl, aralkenyl, haloalkenyl, alkynyl, cycloalkyl or cycloalkylmethyl radical and R3 represents a hydrogen atom or a methyl radical and acid addition salts thereof, characterized in that a basic ether of general formula II in the presence of a base or an alkali metal salt with a basic ether of formula II, and the symbols Ri R3 in formula II are . The meaning given above, and R'1 is an acyl radical, is reacted with a halogen compound of formula 3, in which R2 is as defined above, and Hal is a halogen atom, and then the acyl radical is hydrolytically cleaved in the resulting compound in the resulting , the secondary amino group, the hydrogen atom is replaced with an alkyl, allyl or benzyl radical and the base obtained is optionally converted into an acid addition salt or the base obtained is liberated from the salt obtained.
7. Sposób wedlug zastrz, 6, z n a m i,e n n,y tym, ze sól metalu alkalicznego z zasadowym eterem o wzorze 2, wytworzona na drodze reakcji zasadowego eteru o wzorze 2, w którym R, R3 i R*i, maja znaczenie podane w zastrz. 6, z wodorkiem metalu alkalicznego, stosuje sie w srodowisku aprotonowego rozpuszczalnika, korzystnie w srodowisku szesciometylotrójamidu kwasu fosforowego.The process according to claim 6, in the form of an alkali metal salt with a basic ether of formula 2, prepared by reaction of a basic ether of formula 2, wherein R, R 3 and R * i have the meaning given in claim 6, with an alkali metal hydride, is used in an aprotic solvent environment, preferably in an environment of hexamethyl phosphoric triamide.
8. # Sposób wedlug zastrz.,6, znamienny tym, ze jako substrat stosuje sie zwiazek o wzorze 2, w którym R*i oznacza grupe trójfluoroacetyiowa, a grupe te odszczepia sie na drodze hydrolizy alkalicznej.8. The method according to claim 6, characterized in that the substrate is a compound of formula 2, wherein R * i represents a trifluoroacetic group, and this group is cleaved by alkaline hydrolysis.
9. Sposób wytwarzania nowych eterów zasadowych o ogólnym wzorze 1, w którym R oznacza rodnik alkilowy o co najwyzej 4 atomach wegla, Rx oznacza rodnik allilowy, Ra oznacza rodnik winylowy, aR3 oznacza atom wodoru lub rodnik metylowy, oraz ich soli addycyjnych z kwasami, znamienny tym, ze zasadowy eter o ogólnym wzorze 2, w którym R i R& maja podane znaczenie, a R\ oznacza atom wodoru, poddaje sie reakcji z chlorozwiazkiem o wzorze 3, w którym R2 oznacza grupe winylowa, a Hal oznacza atom chlorowca i otrzymana zasade ewentualnie przeprowadza sie w sól addycyjna z kwasem lub z otrzymanej soli uwalnia sie zasade.9. A process for the preparation of new basic ethers of general formula I, in which R is an alkyl radical of at most 4 carbon atoms, Rx is an allyl radical, Ra is a vinyl radical, and R3 is a hydrogen atom or a methyl radical, and acid addition salts thereof, characterized by the basic ether of formula II, in which R and R < 1 > are as defined, and R1 is hydrogen, is reacted with a halogen of formula III in which R2 is vinyl and Hal is halogen, and the resultant the base is optionally converted into an acid addition salt or the base is liberated from the salt obtained.
10. Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze reakcje prowadzi sie w obecnosci srodków wiazacych kwas i w podwyzszonej temperaturze.86 974 R, "3 R, Os /CH-CHj-N^ •OR CH2-Rz Wzór R3 R' XH-CH2-< // ^ xc // \S \0R Wzór 2 Hal-CH2-R2 Bteói-J ¦NH, + Hal-CO-Rj-* -NH.CQ.R4 + - N .CORi CH2-R2 + Hal-CH2-Ra — -NH.CHZR2 + R4.CQ0H Schemat Prac. Poi;y;df. u*; ! rU i--.akf«cj "''O-HO PL10. The method according to p. 9. A process according to claim 9, characterized in that the reactions are carried out in the presence of acid binding agents and at an elevated temperature. 86 974 R, "3 R, Os / CH-CHj-N ^ • OR CH2-Rz Formula R3 R 'XH-CH2- <// ^ xc // \ S \ 0R Formula 2 Hal-CH2-R2 Bteói-J ¦NH, + Hal-CO-Rj- * -NH.CQ.R4 + - N .CORi CH2-R2 + Hal-CH2-Ra - -NH.CHZR2 + R4.CQ0H Scheme Work. Poi; y; df. U *;! RU i -. Akf «cj" '' O-HO PL