PL80595B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL80595B1 PL80595B1 PL13990770A PL13990770A PL80595B1 PL 80595 B1 PL80595 B1 PL 80595B1 PL 13990770 A PL13990770 A PL 13990770A PL 13990770 A PL13990770 A PL 13990770A PL 80595 B1 PL80595 B1 PL 80595B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- varnish
- nitro
- aromatic
- polynuclear aromatic
- polyvinyl alcohol
- Prior art date
Links
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 19
- -1 alkyl radicals Chemical class 0.000 claims description 10
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 claims description 6
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 claims description 6
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 6
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 5
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZPCYKZTOYXYNQ-UHFFFAOYSA-N 1-nitronaphthalene 2-nitronaphthalene Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=CC2=CC=CC=C2C=C1.[N+](=O)([O-])C1=CC=CC2=CC=CC=C12 HZPCYKZTOYXYNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940002520 2'-hydroxyacetophenone Drugs 0.000 description 1
- XFOHWECQTFIEIX-UHFFFAOYSA-N 2-nitrofluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3CC2=C1 XFOHWECQTFIEIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N acenaphthene Chemical compound C1=CC(CC2)=C3C2=CC=CC3=C1 CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002009 allergenic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- 159000000032 aromatic acids Chemical class 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-M ethyl sulfate Chemical compound CCOS([O-])(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000013558 reference substance Substances 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
Uprawniony z patentu: VEB Filmfabrik Wolfen, Wolfen (Niemiecka Republika Demokratyczna) Lakier fotopolimeryzujacy Przedmiotem wynalazku jest fotopolimeryzujacy lakier, zawierajacy w zasadzie -mieszane estry polialkoholu winylowego z kwasem cynamonowym i kwasem nitrobenzoesowym, do wytwarzania ma¬ terialów fotochemicznych, form drukarskich i in¬ nych, ze znacznie podwyzszona swiatloczulosicia.Lakiery fotopolimeryzujace, których podstawo¬ wym skladnikiem 'sa estry polialkoholu winylowe¬ go, które zawieraja w grupach acylowych nienasy¬ cone etylenowo wiazania podwójne —C=C- juz od dawna znane. Znajduja sie one w handlu [miedzy innymi w postaci lakieru Kodak-Photo- -Resists i daja sie uczulac szczególnie przez doda¬ nie aromatycznych zwiazków nitrowych, przez ni¬ trowanie grupy acylowej zawierajacej etylenowo nienasycone wiazanie podwójne, za pomoca licz¬ nych barwników z grupy icyjanin, pochodnych trój- tfenylometanu i antracenu, jak równiez chinonów, jak metyloantrachinon i dwuammodwufienyloketo- ny, jak keton Michler^a. Ostatnio okazalo sie takze, ze polimery wielkoczasteczkowe, które zawieraja w ugrupowaniach aromatycznych zwiazane grupy nitrowe, mozna sieciowac równiez wówczas, jesli nie zawieraja etylenowo nienasyconych wiazan podwójnych —C=C—. Takze te substancje imozna w wiekszym lub niniejszym stopniu uczulac za po¬ moca wyzej wymienionych sensytbiliziatorów.Lakiery fotopolimeryzujace, których podstawo¬ wym skladnikiem sa mieszane estry polialkoholu (winylowego albo kopolimery winylowe z kwasem sa io 15 20 30 cynamonowym i z nitrowanym kwasem aromatycz¬ nym, jak opisano w opisie patentowym NRD nr 59.237, zachowuja sie niespodziewanie inaczej niz Uklady, które zawieraja wylacznie etylenowo nienasycone wiazania podwójne albo tylko grupy nitrowe zwiazane z ugrupowaniami aromatycznymi.W szczególnosci nie wymagaja one dodatku stabi¬ lizatora i odznaczaja isie iszczególnie dobra trwalos¬ cia podczas magazynowania, wysoka zdolnoscia rozdzielcza i dobra odpornoscia na trawienie. Poza tym jednie z wyzej wymienionych isensybilizatorów okazuja sie calkowicie nieskuteczne, zas inne, jak szczególnie czesto stosowany w praktyce keton Michler'a, doprowadzaja nawet do znacznego prze¬ dluzenia iczasu ekspozycji z jednoczesnym podwyz¬ szeniem ostrosci konturów i zdolnosci rozdzielczej.Z tego wynika, ze lakiery wedlug opisu patento¬ wego NRD nr 59.237 dzialaja wedlug mechanizmu, który rózni sie zarówno od mechanizmu lakierów z polialkoholem winylowym i kwasem cynamono- wym lub lakierów z kwasem tnitrocynamonowym, jak równiez od polimerów wedlug opisu patento¬ wego NRD nr 64.656, zawierajacych grupy nitrowe.Jednoczesna obecnosc w iczasteczoe /kwasu cyna¬ monowego i rodników nitroacyLowych nie stanowi zatem oczywiscie kombinacji dwóch monomerów w postaci kopolimeru, lecz przedstawia zasadniczo odmienny uklad fotopolimeryzujacy.Zadaniem wynalazku jest znalezienie sensybili- zatorów, które umozliwiaja znaczne skrócenie cza- 80 5953 su ekspozycji i przesuniecie absorpcji do dlugo¬ falowego zakresu w ukladzie fotopolinieryzujacym, utworzonyim z mieszanych estrów polialkoholu wi¬ nylowego z kwasem cynanionow3^m i nitrowanych kwasów aromatycznych, bez pogorszenia charak¬ terystycznych dla tego ukladu pozytywnych wlas¬ ciwosci, zwlaszcza trwalosci podczas magazynowa¬ nia i zdolnosci rozdzielczej.Celem wynalazku jest osiagniecie podwyzszenia wydajnosci i obnizenia kasztów produkcji przy za¬ stosowaniu lakierów opisanych w opisie patento¬ wym NRD nr 59.237 przez skrócenie czasu ekspo¬ zycji. Wedlug wynalazku zadanie to rozwiazano przez dodanie do lakierów tia- luib selenomonome- tynocyjanin, w szczególnosci o ogólnym wzorze przedstawionym na zalaczonym rysunku, w którym Y i Y' oznaczaja S luib Se, X- oznacza anion nie¬ organiczny, np. halogenkowy, Ri R' oznaczaja nie podstawione rodniki alkilowe o 1—5 atomach C, oraz Ar lub Ar' oznaczaja mono- lub oligocyklicz- ne uklady aromatyczne, albo korzystnie wielopiers¬ cieniowych zwiazków nilroaromatycznych lub ni- troheterocyiklicznych, po 0,1—10% wagowych, ófoli- iczonych w stosunku do zawartosci substancji stalej w roztworze lakieru. Jako zwiazki nitroaromatycz- ne luib niitroheteroaromatyczne stosuje sie pochodne nitrowe antracenu, acenaftenu, chinoliny, fluorenu, antronu, karbazolu, naftalenu, chryzenu, dwufeny¬ lu, benzymidazolu i benzoselenazolu np. 2-nitrofluo- renu lub 5-niitroacenaftenu. Dodatek samych tylko zwiazków nitroaromatycznych powoduje wzglednie niewielki wzrost swiatloczulosci, jednak po (dodaniu zwiazków nitroaromatycznych do lakieru wedlug opisu patentowego NRD nr 59.237 zawierajacego juz tia- albo selenoHmonometynocyJaniny wystepu¬ je dodatkowe podwyzszanie swiatloczulosci. Wszyst¬ kie sensybilizatory przesuwaja poza tym w silnym stopniu maksimum absorpcji roztworów lakierów w kierunku zakresu dlugofalowego, wskutek czego przy stosowaniu weglowych lamp lukowych wy¬ stepuje znaczne zmniejszenie potrzebnego czasu na¬ swietlania.Przyklad. We wszystkich ponizszych bada¬ niach stosuje sie podstawowy skladnik lakieru we¬ dlug opisu patentowego NRD nr 59.237, zawierajacy mieszane estry polialkoholu winylowego z kwasem cynamonowym i kwasem nitrobenzoesowym, w po¬ staci roztworu 8 czesci wagowych substancji stalej w mieszaninie 2 czesci objetosciowych chloroben- zenu i jednej czesci objetosciowej n-butanolu jako rozpuszczalnika. Roztwory lakieru wylewa sie w znany sposób na kaszerowane imiedzia plytki z two¬ rzywa sztucznego, eksponowane pod maska meta¬ lowa za pomoca wysokopreznej lampy rteciowej HBO 50, 'której swiatlo jest kolimowane za pomo¬ ca szklanej soczewki, i wywoluje sie wyzej wymie¬ niona mieszanine chlorobenzenu z n-butanolem.Przez porównanie czasów naswietlania, potrzeb¬ nych do powstania pierwszego reliefu o ostrych konturach, z nieuczulonym lakierem jako substan¬ cja porównawcza uzyskuje sie nizej podane wskaz¬ niki swiatloczulosci wzglednej. Wszystkie badane isansyibilizatory dodaje sie w ilosciach wagowych po 3% w stosunku do zawartosci stalej substancji w roztworze lakieru. Wlasciwosci nie uczulonego 59$ 4 lakieru oraz dzialania dwóch szczególnie czesto sto¬ sowanych w praktyce sensibilizatorów przedstawia tabela 1.Tabela 1 Nr zwiazku 1 2 Sensybilizator Keton Michler'a Benzen Czulosc wzgledna 1 0,8 0,9 Tabela 2 przedstawia wlasciwosci kilku zbada¬ nych aromatycznych zwiazków nitrowych.Tabela 2 Nr zwiazku 3 4 5 6 7 8 9 10 Sensybilizator 2-nitrofluoiren 5-nrtroacenaften 1-nitronaftalen 2-nitronaftalen 6-nitro-2-'hydroksyace- tofenon 6-nitrochinolina 2,4,7-trójnitrofluorenon N-acetylo-1-benzoilo- -3,7-dwunitrafenazyna Czulosc wzgledna 3,5 3,8 2,8 2,8 1,2. 1,2 3,3 5,1 W tabeli 3 podano dzialanie kilku tia- albo se- lenomonometynocyjanin.Tabela 3 1 Nr zwiazku 11 12 13 14 15 16 17 18 19 Sensybilizator Jodek bis-[3-etylobenzo- tiazolilo- (2) ]-imonomety- nocyjaniny Jodek 3,3'-dwuetylo-ben- zotiazolilo- (2) -benzosele- nozolilo- (2')Hmonomety- nocyjaniny Jodek bis-[3-etylo-benzo- selenozolilo- (2)]-monome- tynocyjaniny Bromek ibiiSn[3-etylonben- r zotiazolilo- (2) ]-monomety- nocyjaniny Etylosiarczan bis-[3-etylo- -5-metylobenzotiazolilo- -(2) ]-monometynocyjaniny Etylosiarczan bis-[3-etylo- -5-metoksybenzotiazoli:lo- -(2) ]-monometynocyjaniny Etylosiarczan bis-[3-etylo- -5,6-dwuimetylobenzotiazo- lilo- (2)]-:monometynoicyJa¬ niny Etylosiarczan bis-[3-etylo- -6,7-benzobenzotiazolilo- - (2) ]^monometynocyjaniny Etylosiarczan bis-[3-etylo- -benzotiazolilo- (2) ]-'mono¬ metynocyjaniny Czulosc wzgledna 3,0 2,8 2,0 3,1 2,4 2,0 1,9 1,5 3,4 |80 595 5 Tabela 4 pokazuje superproporcjonalny wzrost uczulenia w wyniku zastosowania kombinacji jed¬ nej tia- albo selenomonometynocyjaniny i jedne¬ go aromatycznego zwiazku nitrowego.Tabela 4 Kombinacja (Nr zwiazków) 16 i 3 17 i 3 11 i 4 19 i 3 12 i 3 19 i 4 12 i 4 Czulosc wzgledna 6,0 5,0 17,5 18,0 11,6 10,0 7,5 Jesli przez wlaczenie filtru NG 5 VEB Glasswerke Schott Jena stlumi sie w znacznym stopniu pro¬ mieniowanie (o wiekszej energii) wysokopreznej lampy rteciowej przy maksimum 365 nm, wówczas, jak wynika z tabeli 5, wzgledne swiatloczulosci w stosunku do nieuczulonego lakieru jeszcze bardziej Tabela 5 Kombinacja (Nr zwiazków) 12 i 3 19 i 4 11 i 4 Czulosc wzgledna 1 24 18 30 6 sie podwyzszaja. Ten fakt wskazuje na przesunie¬ cie maksimum absorpcji do zakresu dlugofalowe¬ go, spowodowane dodatkiem kombinacji sensybili- zaitorów. 5 W przypadku zastosowania weglowej lampy lu¬ kowej otrzymuje sie wzgledne czulosci rzedu 'kil¬ kuset ido 1000 jednostek. PL
Claims (2)
- Zastrzezenia patentowe 1. Lakier fotopoliimeryzujacy, zawierajacy miesza¬ ne estry polialkoholu winylowego z kwasem cy¬ namonowym i kwasem nitrobenzoasowyni, zna¬ mienny tym, ze zawiera co najmniej jedna tia- albo selenomonometynocyjanine, w szczególnosci o ogól¬ nym wzorze przedstawionym na zalaczonym ry¬ sunku, w którym Y i Y' oznaczaja S lub Se, R i R' oznaczaja korzystnie niepodstawiony rodnik alki¬ lowy o 1—5 atomach wegla, Ar i Ar' — sprzezone mono- albo oligocykliczne, ewentualnie podstawio¬ ne uklady aromatyczne oraz X~ — oznacza ko¬ rzystnie nieorganiczny anion, w szczególnosci anion halogenkowy, i/alibo co najmniej jeden korzystnie wielordzeniowy aromatyczny lub heterocykliczny zwiazek nitrowy w ilosciach po 0,1—10% wago¬ wych, obliczonych w stosunku do zawartosci sub¬ stancji stalej w roztworze lakieru.
- 2. Lakier fotopolimeryzujacy wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako wielordzeniowe aromatycz¬ ne albo heterocykliczne zwiazki nitrowe zawiera pochodne nitrowe antracenu, aoenaftenu, chinoliny, fluorenu, antronu, kanbazolu, naftalenu, chryzenu, dwufenylu, benzymidazolu i Ibenzoselenozolu. 15 20 2580 595 Y + ^J—o- N I R Y ! R ¦Ar' WZÓR PZG w Pab., zara. nr 1695-75, nakl. 110+20 egz. Cena 10 zl PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1309134 | 1969-04-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL80595B1 true PL80595B1 (pl) | 1975-08-30 |
Family
ID=5663845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL13990770A PL80595B1 (pl) | 1969-04-10 | 1970-04-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL80595B1 (pl) |
-
1970
- 1970-04-09 PL PL13990770A patent/PL80595B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2661043C2 (pl) | ||
| EP0021019B1 (de) | Lichtvernetzbare Copolymere, sie enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, seine Verwendung zur Herstellung photographischer Abbildungen und Verfahren zur Herstellung von photographischen Abbildungen | |
| US3778270A (en) | Photosensitive bis-diazonium salt compositions and elements | |
| EP0277915A2 (de) | Photoinitiatorengemische enthaltend ein Titanocen und ein 3-Ketocoumarin | |
| EP0321828B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
| JPH0289055A (ja) | 光重合可能な記録材料 | |
| US3061429A (en) | Diazo printing plates and method for the production thereof | |
| DE2809261C2 (de) | Durch Photonenbestrahlung vernetzbare Zusammensetzungen und deren Verwendung | |
| US4454219A (en) | Photosensitive resin composition comprised of a polymer obtained from an aliphatic amino group-containing monomer as a comonomer | |
| PL80595B1 (pl) | ||
| DE1572354A1 (de) | Verbessertes elektrophotographisches Material | |
| US3736139A (en) | Heat and light stabilization of photosensitive elements containing poly-halogenated hydrocarbons,n-vinylcarbazoles and difurfurylidene pentaerythritols | |
| EP0321826B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
| DE1180242B (de) | Photoleiterschichten fuer elektrophotographische Zwecke | |
| DE1447593A1 (de) | Lichtvernetzbare Schichten | |
| EP0256309B1 (de) | Verfahren zur Nachbehandlung von Reliefformen | |
| DE3743455A1 (de) | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial | |
| DE2306353A1 (de) | Lichtempfindliches material | |
| US3147119A (en) | Photopolymerization of vinyl monomers with metal oxides as catalysts | |
| US3467630A (en) | Method of producing light-sensitive photocrosslinkable polymers | |
| CA1050327A (en) | Maleic anhydride modified rosin as binder for photoresist composition | |
| JP2002220408A (ja) | 光重合性組成物及びカラーフィルター | |
| DE1282446B (de) | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
| DE1272121B (de) | Lichtvernetzbare Schicht | |
| AT219410B (de) | Verfahren zum Sensibilisieren von Photoleiterschichten |