PL64447B3 - - Google Patents

Description

Przedmiotem niniejszego wynalazku jest taka mody¬ fikacja rozwiazania wedlug patentu nr 50962, która po¬ zwala na usuniecie z omawianej cieczy wody pozostalej po operacji separacji warstw, a w wyniku miedzy inny¬ mi da znaczne zmniejszenie ilosci osadów powstajacych w reaktorach utleniania.Stwierdzono, ze cel ten mozna osiagnac jezeli pod¬ grzana w skruberze ciecz, od której oddzielono w roz¬ dzielaczu warstwe wodna skieruje sie do urzadzenia, w którym przeplywa ona w przeciwpradzie z goracymi ga¬ zami odlotowymi z procesu utleniania, kierowanymi do skrubera. W wyniku tego odparowuje zawarta w cieczy woda. Osuszona w ten sposób ciecz wprowadza sie do reaktora utleniania.Korzystnym jest aby ciecz przed wprowadzeniem jej do urzadzenia osuszajacego podgrzac dodatkowo w prze¬ ponowym wyymienniku ciepla.Sposób wedlug wynalazku objasniony jest nizej z po¬ wolaniem sie na rysunek.Do reaktora utleniania 5 (lub baterii reaktorów) wpro¬ wadzane sa u dolu gazy zawierajace tlen (g), odprowa¬ dzany jest produkt utleniania (h). Gazy przechodza przez znajdujaca sie w reaktorze utleniana ciecz i wy¬ chodza z reaktora u góry (b). Nastepnie gazy przecho¬ dz aprzez skruber 4, w przeciwpradzie z ciecza (e) wprowadzana z podgrzewacza 3 do górnej czesci skrube- 6444764447 ra 4. Ciecz ta zawiera rozpuszczona wode i ewentualnie dodatkowe ilosci wody w postaci emulsji. Gazy ze skru- bera 4 przechodza do dolnej czesci skrubera 1, w któ¬ rym przechodza w przeciwpradzie z chlodna ciecza (a) wprowadzana do górnej czesci skrubera 1. Schlodzone gazy (k) uchodza z górnej czesci skrubera 1. Podgrzana ciecz (c) przechodzi do separatora 2, w którym oddziela sie warstwe wodna (d).Warstwa górna, organiczna kierowana jest poprzez podgrzewacz 3 do skrubera 4. Ciecz ta podgrzana w skruberze 1 i podgrzewaczu 3, w skruberze 4 spotyka sie ona z goracymi gazami wychodzacymi z reaktora 5, w których zawartosc pary wodnej jest znacznie mniejsza od zawartosci w stanie nasycenia w danej temperaturze.W skruberze 4 odparowuje wiec woda zawarta w cie¬ czy, wychodzacej z separatora 2 i ciecz wchodzaca do reaktora z dolnej czesci skrubera 4 zawiera juz jedynie slady wody.Przedstawiony na rysunku uklad moze byc w rózny sposób rozwiazany aparaturowo. Na przyklad zamiast osobnego skrubera 4 w reaktorze 5 moze byc umiesz¬ czona w górnej czesci warstwa wypelnienia przez która przechodza w przeciwpradzie gazy i ciecz. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 5 1. Sposób schladzania gazów poreakcyjnych z pro¬ cesów utleniania zwiazków organicznych w fazie ciek¬ lej gazami zawierajacymi tlen wedlug patentu nr 50962, znamienny tym, ze podgrzana ciecz, od której oddzielo- 10 no w rozdzielaczu warstwe wodna, kieruje sie do dodat¬ kowego urzadzenia, w którym przeplywa ona w prze¬ ciwpradzie z goracymi gazami odlotowymi z procesu utleniania kierowanymi do skrubera, w wyniku czego odparowuje zawarta w tej cieczy woda, po czym osu- 15 szona w ten sposób ciecz wprowadza sie do reaktora utleniania.
2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze ciecz podgrzewana bezprzeponowo podgrzewa sie dodatkowo w przeponowym wymienniku ciepla przed wprowadze- 20 niem jej do urzadzenia, w którym nastepuje osuszenie jej. WDA-l. Zam. 2190. Naklad 250 egz. PL