PL61216B1 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: 15.IX.1965 Niemiecka Republika Demokratyczna Opublikowano: 20.X.1970 61216 KI. 22 g, 3/74 MKP C 09 d, 3/74 UKD Wlasciciel patentu: VEB Filmfabrik Wolfen, Wolfen (Niemiecka Repu¬ blika Demokratyczna) Lakier fotopolhneryzacyjny Wynalazek dotyczy lakieru fotopolimeryzacyjne- go o duzej odpornosci wobec srodków zracych i rozpuszczalników, jak kwasy, lugi i ciecze orga¬ niczne.Lakiery fotopolimeryzacyjne, które znajduja za¬ stosowanie szczególnie przy wytwarzaniu klisz dru¬ karskich, elementów pólprzewodnikowych, obwo¬ dów drukowanych, masek do trawienia i powlok ochronnych, skladaja sie zwykle ze zwiazku swiatloczulego, zawierajacego podwójne wiazania etylenowe, z sensybilizatora (uczulacza), jak rów¬ niez ze stabilizatora termicznego oraz ze spoiwa lub zmiekczacza. Jako zwiazki swiatloczule sto¬ suje sie zwlaszcza estry kwasu akrylowego z gli¬ kolami polietylenowymi, estry albo acetale poli¬ alkoholu winylowego, które w grupach kwasowych lub acetalowych zawieraja podwójne wiazania etylenowe, jak równiez monomery nienasyconych weglowodorów. Znane sa równiez jako zwiazki swiatloczule pochodne polialkoholu winylowego, w których grupy OH sa czesciowo zestryfikowa- ne za pomoca nienasyconych kwasów^ czesciowo zestryfikowane za pomoca nasyconych grup alifa¬ tycznych. Przy uzyc"u tego rodzaju lakierów okazuje sie jednak, ze zwiazki z grupami estro¬ wymi lub acetalowymi wykazuja niedostateczna odpornosc wotoec srodków trawiacych, a powloki oparte na monomerowych nienasyconych weglo¬ wodorach wykazuja w wiekszosci przypadków 10 zbyt mala 'wytrzymalosc na obciazenia mecha¬ niczne.Celem wynalazku jest znalezienie takiego la¬ kieru fotopoLimeryzacyjnegol który, przy takiej samej wrazliwosci na dzialanie swiatla jak w przypadku dotychczas znanych lakierów fotopo- limeryzacyjnych wykazywalby wysoka zdolnosc rozpuszczania i duza odpornosc wobec srodków trawiacych i rozpuszczalników.Zgodnie z wynalazkiem problem ten rozwia¬ zuje sie "w ten sposób, ze lakier fotopolimeryza- cyjny sklada sie zasadniczo z- czesciowo zetery- fikowanego polialkoholu winylowego, zawieraja¬ cego co najmniej 20% molowych ugrupowania o wzorze, przedstawionym na zalaczonym rysunku, w którym R oznacza ewentualnie podstawiony rodnik aryIowy albo atom wodoru, n oznacza liczbe calkowita równa 2—6, i w którym pozo¬ stale grupy wodorotlenowe sa ewentualnie prze¬ prowadzone w pochodne estrowe i/albo aceta- lowe o nasyconych luib nienasyconych weglowo¬ dorowych rodnikach lancuchowych. Mozna takze przeprowadzac grupy 'wodorotlenowe w aryloal- kilowe pochodne estrowe i/lub %acetalowe.W ten sposób wedlug wynalazku powodujace usieciowanie grupy funkcjonalne, t.zn. grupy ety¬ lenowo nienasycone, sa zwiazane z sieciowana makroczasteczka, tj.' polialkoholem winylowym, poprzez szczególnie odporny chemicznie mostek eterowy. 6121661216 3 v ¦" Jako etylenowo nienaiycorie grupy eterowe ko¬ rzystne sa grupy alkenylowe z izolowanym wia¬ zaniem podwójnym i 3^—10 atomami wregla albo grupy aryloalkenylowe ! o niepodstawionym lub podstawionym rodniku fenylowym i z 8—10 ato¬ mami wegla. W pochodnych estrowych i/albo aoetalówych mog% korzystnie wystepowac, np. reszty kwasu krotonowego, kwasu octowego, al¬ dehydu krotonowego, aldehydu akrylowego, kwa¬ su cynamonowego, kwasu benzoesowego,1 ptodstar wionego kwasu benzoesowego, kwasu p^nitróben- zoesowego, aldehydu benzoesowego lub aldehydu benzylowego. | Zwiazki te rozpuszcza' sie w rozpuszczalnikach organicznych i stosuje jako lakier. Roztwory te nie 'wymagaja stabilizatorów. Otrzymane w ten sposób powloki lakiernicze maja wysoka swiatlo- czulosc i latwo sie rozpuszczaja. Sa one uczula¬ ne na dzialanie swiatla w zwykly sposób za pomoca barwników. Lakier wedlug wynalazku przewyzsza dotychczas znane lakiery- fotopolime- ryzacyjne pod wzgledem odpornosci na srodki trawiace, a szczególnie na zwiazki fluoru. Powlo¬ ki z tego lakieru mozna, utwardzac termicznie w znany sposób.Nienasycone etery polialkoholu winylowego zawierajace co najmniej 20% nienasyconych grup eterowych mozna otrzymac wedlug znanych me¬ tod, na przyklad przez kopolimeryzacje odpo¬ wiednich monomerów albo przez zeteryfikowame polialkoholu winylowego w cieklym amoniaku i ewentualne nastepne przeprowadzenie w estry i/albo acetale.Przyklad I. Eter poliwinyloallilowy. z za¬ wartoscia okolo 30% grup allilowych otrzymuje sie przez zeteryfikowanie polialkoholu winylowe¬ go o ciezarze czasteczkowym 35.000—40.000 w cieklym amoniaku. Okolo 3%-owy roztwór tego eteru w lodowatym kwasie octowym nanosi sie na plytke szklana. Po wysuszeniu plytke na¬ swietla sie (wysokocisnieniowa lampa rteciowa, model HBO 200, odleglosc 20 cm, 10 minut) za maska metalowa i wywoluje sie powloke przez 3 do 5 minut w lodowatym 'kwasie octowym.Taka plytka juz bez utwardzania powloki jest trwala przez okolo 5 minut Wobec 33%-oweg0 wodnego roztworu fluorku amonu. Po utwardze¬ niu termicznym przez 45 minut w temperaturze 180°C zyskuje sie trwalosc wobec 33%-owego roz¬ tworu wodnego fluorku amonu wieksza niz 15 mi¬ nut. Wobec stezonych kwasów solnego i azotowe¬ go plytka pozostaje odporna przez wiele godzin.Przyklad II. 100 czesci wagowych eteru po- liwinyloallilowego zawierajacego okolo 30% grup 10 allilowych otrzymanego z polialkoholu winylo¬ wego o ciezarze czasteczkowym 20.000 do 25.000, (eter otrzymany jak w przykladzie I), oraz 5 cze¬ sci wagowych ketonu Michlera rozpuszcza sie w etanolu, uzyskujac roztwór 2%-owy. Roztwór ten nanosi sie na. plytke szklana. Powloka juz po 1-minutowym naswietlaniu, przy pozostalych warunkach takich samych, jak w przykladzie I, latwo sie wywoluje. ... i ¦ Przyklad HI. Z eteru poliwinyloeynamylo- wego o srednim stopniu polimeryzacji zawiera¬ jacego okolo 20% grup cynamylowych sporzadza sie 3%-owy roztwór w i lodowatym kwasie octo- 15 wym. Roztwór ten nanosi sie na utleniona plyt¬ ke krzemowa. Plytke suszy sie i naswietla 7 mi¬ nut za maska metalowa. Nastepnie wywoluje sie powloke na plytce przez 5 minut w lodowatym kwasie octowym- i hartuje termicznie. Tak 20 otrzymana powloka jest odporna przez co naj¬ mniej 35 minut wobec 33%-owego roztworu wod¬ nego fluorku amonu.Przyklad IW Sporzadza sie zwiazek o za- 25 .wartosci 30% molowych grup allilowych i 30% molowych grup benzoilowych w drodze zetery- fikowania i nastepnego zestryfikowania polialko¬ holu winylowego o srednim stopniu polimeryza¬ cji. Otrzymany zwiazek rozpuszcza sie w miesza- 30 ninie 3 czesci cykloheksanonu i 1 czesci toluenu i nanosi sie jako 3%-owy roztwór na powierz¬ chniowo utleniona plytke krzemowa. Plytke su¬ szy sie i naswietla za maska metalowa jak w przykladzie I. Plytka po wywolaniu w tej samej • 35 samej mieszaninie cykloheksanonu i toluenu jest odporna bez dalszej obróbki przez co najmniej 10 minut na dzialanie 33%-owego wodnego roz¬ tworu fluorku amonu i przez kilka godzin na dzialanie stezonego kwasu solnego lub azotowe¬ go. 40 45 50 55 PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Lakier fotopolimeryzacyjny oparty na czescio¬ wo ^eteryfikowanym polialkoholu winylowym, znamienny tym, ze sklada sie zasadniczo z cze¬ sciowo zeteryfikoWanego polialkoholu winylowe¬ go, zawierajacego co najmniej 20% molowych ugrupowania o wzorze, przedstawionym na za¬ laczonym rysunku, w którym R oznacza ewen¬ tualnie podstawiony rodnik arylowy albo atom wddoru, n oznacza liczbe calkowita równa 2—6, i w którym pozostale grupy hydroksylowe sa ewentualnie przeprowadzone w pochodne estro¬ we i/albo acetalowe o nasyconych lub nienasyco¬ nych weglowodorowych rodnikach lancuchowych.KI. 22 g, 3'74 61216 MKP C 09 d. 3 74 H ¦CHe—C cnH2n-2^ wzop PL PL