PL60722B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL60722B1
PL60722B1 PL120519A PL12051967A PL60722B1 PL 60722 B1 PL60722 B1 PL 60722B1 PL 120519 A PL120519 A PL 120519A PL 12051967 A PL12051967 A PL 12051967A PL 60722 B1 PL60722 B1 PL 60722B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
copper
printing
bath
layer
forms
Prior art date
Application number
PL120519A
Other languages
English (en)
Inventor
inz. Wanda Jaros mgr
Original Assignee
Centralne Laboratorium Poligraficzne
Filing date
Publication date
Application filed by Centralne Laboratorium Poligraficzne filed Critical Centralne Laboratorium Poligraficzne
Publication of PL60722B1 publication Critical patent/PL60722B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 15.VIII.1970 60722 KI. 15 1, 9/00 MKP B 41 n, 1/04 UKD Twórca wynalazku: mgr inz. Wanda Jaros Wlasciciel patentu: Centralne Laboratorium Poligraficzne, Warszawa (Polska) Sposób otrzymywania form drukowych iBrzedmiotem wynalazku jest spos6b otrzymywa¬ nia iform dla jdruku wypuklego, plaskiego i wkUeslegoi.W przemysle poligrafLcznyrai prowadzi sie druk wiekszych nakladów jprzy uzyciu form metalo¬ wych, badz sporzadzonych :z matryc przez odwzor- cowanie ich powierzchni droga igalwanicznego na¬ noszenia metalu, badz form przygotowanych w po¬ staci tak (zwanych dwumetalowych \pfyt offsetowych wykonanych przez galwaniczne nanoszenie powlok metalowych na podloze innego metalu Lub wreszcie form drukowych majacych ksztalt cylindrów pokry¬ tych na powierzchni warstwa naniesionego galwa¬ nicznie metalu.Drukujaca powierzchnie form stanowi zazwyczaj warstwa miedzi o grubosci od 0,02 |do 0,4 milimetra.W niektórych technikach druku powierzchnie form przygotowanych Ido duzych nakladów lutwardza sie przez naniesienie na miedz droga galwaniczna cien¬ kiej warsitwy chromu lub niklu. Natomiast w dru¬ ku plaskim prowadzonym z diwumetailowych plyt offsetowych warstwa chromu luib niklu nalozona na podklad miedziowy w miejlscach niedriukujacych foirmy (jest nieodzowna, poniewaz jej obecnosc wy¬ nika z izasady tej techniki druku.W przemysle poligraficznym (galwaniczne nano¬ szenie warstw miedzi przy sporzadzaniu form dru¬ kowych odbywalo sie dotychczas z zastosowaniem kapieli elektrolitycznych zawierajacych siarczan miedzi ii1 kwas siarkowy. Gestosc katodowa prajdu 15 25 30 jaka mozna poslugiwac sie przy [stosowaniu tego rodzaju kapieli jest niewielka i nie' przekracza zazwyczaj 15 A/idcm2, dlatego Itez warstwy metalu w kapieli galwanicznej ijest dosc dlugi, co powaznie ogranicza mozliwosc wykony¬ wania form Idrukowych. IPonadlto duzym manka¬ mentem form idirukowych wykonanych przy uzyciu kapieli galwanicznych qpartych jna miedzibwych elektrolitach siarczanowych jest niewystarczajaca plastycznosc otrzymywanych powlok metalu oraz wystepujace w tmetalu fiormy niekorzystne napre¬ zenia wewnetrzne. iZnane sa równiez kapiele igjalwaniczne innych typów, (jak np. fluoiroiboranowe, fosforanowe, szcza- wianowe, nadchloranowe, jednakze ze wzgledu na wystepujace wady stosowane 'sa w praktyce bar¬ dzo rzadko. iKapiele fosforanowe wymagaja bardzo starannego nadzoru analitycznego a Istosowane ges¬ tosci katodowe pradu nie przekraczaja 5. A/dcm2.Kapiele fluorobtoiranowe wprawdzie pracuja przy gestosci pradu do i35 A/dcm2 sa [jednak tarujace, wymagaja szczelnych urzadzen ¦ wentylacyjnych i wanien o specjialLnej wykladzinie. Kapiele sziczia- wianowe i inadchloirowane sa malo trwale.Istota wynalazku jest otrzymywanie iform dru¬ kowych (przez nlalozenie warstwy miedzi elektro¬ litycznie z zastosowaniem elektrolitu opartego (na wodnym roztworze aminoisulfonianu [miedzi b wzo¬ rze Cu/SOs NH^. Kapiel do stosowania sposobu wedlug wynalazku jposiada istezenie aminosulfo- 6072260722 3 nianu iw granicach od 200 do 500 g/litr roztworu przy pH 11,0 do 2,2 i temperature nie przekraczajaca 70°C, przy czym w miare (wzrostu1 stezenia roztworu obniza sie jego pH. 'Kwasny odczyn kapieli uzys¬ kuje sie przez dodanie kwasu, najkorzystniej kwa¬ su ammosulfonowego.W.wyniku stosowania sposobu wedlug wynalaz- ku .uzyskuje sie iflormy drukowe z miedzi wysoce plastycznej o niskich naprezeniach wewnetrznych, kilkakrotnie nizszych od naprezen powstajacych w powlokach metalu otrzymywanych z kapieli galwanicznych zawierajacych siarczan miedzi i kwas siarkowy.Formy drukowe otrzymywane sposobem wedlug wynalazku sa barwy jasnorózowej i posiadaja drobnokiystaliczna strukture miedzi.Siposób wedlug wynalazku pozwala otrzymywac miedziowe formy drukowe z kapieli aminosiulfono- wych przy gestosciach katodowych pradu wy no¬ szacych do 50 A/dJcm2, przy czym obszar roboczy kapieli powieksza sie ze wzrostem stezenia amino- sulfonianu miedzi.Mozliwosc stosowania wysokich gestosci katodo¬ wych pradu pozwala na znaczne skrócenie czasu sporzadzania form w [porównaniu \l czasem nie¬ zbednym dla uzyskania warstwy metalu o takiej samej grubosci z konwencjonalnej kapieli siarcza¬ nowej, zwlaszcza, ze wydajnosc 'katodowa procesu jest bliska ilOO°/o oraz nie .zalezy od odczynu i ste¬ zenia kapieli. Wykonywanie form drukowych spo¬ sobem wedlug Wynalazku nie wymaga stosowania* dodatkowych urzajcUzen. Poszczególne operacje i kontrola procesu nie stwarzaja wiekszych trud¬ nosci.Przyklad otirzymywania galwanostereotypów.Powierzchnie matrycy pokrywa sie w znany spo¬ sób warstwa przewodzaca prajd elektryczny i za¬ nurza matryce w kapieli galwanicznej zawieraja¬ cej aminosiulifbnian miedzi w ilosci 250 ig/1 roztworu przy pH 2^0-^,2 uzyskanym przez dodanie do (ka¬ pieli kwasu aminosiulionowego, przy czym elek¬ trolityczne osadzanie metalu na matrycy prowadzi sie przy giestosici katodowej pradu 7 A/dcm2 w tem¬ peraturze 18^25°C z zastosowaniem anody wyko¬ nanej z miedzi elektrolitycznej z dodatkiem fosfo¬ ru. Czas wykonania formy o grubosci miedzi 0,4 mm wynosi okolo 0 igodz. Forme po zdjeciu z ma¬ trycy podlewa sie stopem w znany sposób dla uzyskania pozadanej wysokosci.Przyklad otrzymywania dwiumetalowych form offsetowych. 10 15 25 35 40 45 50 Plyte metalowa pokrywa sie wstepnie warstwa miedzi w alkalicznej kapieli cyjankowej, w znany sposób plucze i zanurza w kapieli galwanicznej zawierajacej aminosulfonian miedzi (w ilosci #50 g/l iroiztwoiru przy pH 1,4—Jl^S uzyskanym (przez do¬ danie do kapieli kwasu aminosulfonowego, pp czym prowadzi sie osadzanie warstwy miedzi na [plycie przy gestosci katodowej pradu 25 A/dcm2 w taem- peratuirze 120—!25°C z zastosowaniem anody wyko¬ nanej Iz miedzi elektrolitycznej z dodatkiem fos¬ foru. Czas nakladania miedzi na plyte przy grubo¬ sci warstwy 0,02 mm wynosi 3 mimuty.Plyte offsetowa po miedziowaniu plucze sie Kv wodzie i pokrywa warstwa chromu lub niklu, po czym nanosi warstwe kopiowa, naswietla przez dia¬ pozytyw i po wymyciu nieutwardzonej czesci war¬ stwy kopiowej iwytrawia sie warstwe chromu do odsloniecia miedzi w czesciach niedrukujacych for¬ my w znany siposób.Przyklad otrzymywania form dla druku wkle¬ slego.Cylinder rotograwiurowy pokryty w znany spo¬ sób dzielaca warsitwa srebra wprowadza sie do kapieli galwanicznej zawierajacej aminosulfonian miedzi w ilosci 4I0& g/l !rozitiworu pirzy pH 1,0—11,5 uzyskanym przez dodanie ido kapieli kwasu ami- nosulfonowego po czym prowadzi osadzanie ko¬ szulki drukowej przy gestosci katodowej pradu 40 A/dcm2 iw ^temperaturze 30—45° z .zastosowaniem anody wykonanej z miedzi elektrolitycznej z do¬ datkiem fosforu.Po wyjeciu cylindra z kapieli i oplukaniu dalsze operacje jlak polerowanie przenoszenie kopii na po¬ wierzchnie koszulki drukowej i trawienie dla otrzy¬ mania wlasciwej formy drukowej oraz chromo¬ wanie dla zwiekszenia trwalosci formy prowadzi sie w znany sposób.IV kapieli iglalwanicznej o podanym wyzej skla¬ dzie i przy wymienionych parametrach pracy pro¬ wadzic mozna równiez operacje pogrubienia cylin¬ drów miedzianych. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie pa t e n t o we Siposób otrzymywania form drukowych, przez elektrolityczne osadzanie wiarsftwy miedzi' na zada¬ nym podlozu, znatnieiiiiy tyrii, ze poddawane obrób¬ ce podloze zanurza sie w kapieli galwanicznej za¬ wierajacej arilinosulfoinian miedzi w ilosci od 200— 500 g/l rotworu\ przy czym proces osadzania /war¬ stwy miedzi oprowadzi sie w temperaturze do 70oC, przy ZG „Ruch" W-wa, zam. 568-10, nakl. 220 egz. PL PL
PL120519A 1967-05-12 PL60722B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL60722B1 true PL60722B1 (pl) 1970-06-25

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6602394B1 (en) Alkali zinc nickel bath
US2525942A (en) Electrodepositing bath and process
NO145009B (no) Fremgangsmaate til behandling av myse fra ysterier med henblikk paa ekstraksjon av sialinsyre
US3668081A (en) Production of electrolytic metal
Drela et al. Electrodeposition of chromium from Cr (III) electrolytes in the presence of formic acid
PL60722B1 (pl)
JPH10130878A (ja) 電解ニッケルめっき方法
CN101432467B (zh) 通过电流分布的变化控制电沉积的铜镀层的硬度
RO119838B1 (ro) Procedeu pentru placarea galvanică, cu cupru, a substraturilor
CN1055141C (zh) 电解退镀金属表面镍层和铜镍铬层的方法
NO156354B (no) Anordning ved stiger for systemreoler.
CN218175185U (zh) 一种电镀阳极挡板以及电镀设备
ES279178A1 (es) Procedimiento para la obtenciën electrolitica de reservas, sobre una superficie conductora
JP7621838B2 (ja) 電気ニッケルめっき液および電気ニッケルめっき方法
US20230160083A1 (en) Electrolyte and method for producing chromium layers
US3373092A (en) Electrodeposition of platinum group metals on titanium
JPH0375395A (ja) 金属表面の電解メッキ方法と該方法を実施するための電解槽
Pecherskii et al. The Kinetics of Secondary Electrode Processes on Ruthenium--Titanium Anodes in Chloride Solutions
SU796250A1 (ru) Способ электролитического осаждени СЕРЕбРА HA МЕТАлличЕСКиЕ издЕли
SU730889A1 (ru) Раствор дл электрохимического удалени медных покрытий
SU749949A1 (ru) Электролит дл удалени медных покрытий
JPS61110797A (ja) アルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理方法
RU1784494C (ru) Способ изготовлени трафаретной печатной формы
US3622474A (en) Electrodeposition of osmium
SU1165721A1 (ru) Раствор дл создани разделительного сло при гальванопластическом изготовлении изделий