PL60451B1 - - Google Patents

Description

18.TX.1962 Niemiecka Republika Demokratyczna Opublikowano: 15.VII.1970 60451 KI. 39 a3, 7/08 MKP B 29 d, 7/08 UKD 678.027.5 Wlasciciel patentu: VEB Filmfabrik Wolfen, Wolfen (Niemiecka Republi¬ ka Demokratyczna) Sposób usuwania jednowarstwowego podkladu przy wytwarzaniu blon fotograficznych Przedmiotem wynalazku jest usuwanie z beto¬ nów lub tasm wylewarek podkladu skladajacego sie z warstwy zawierajacej powierzchniowo zhydroli- zowany ester celulozy przy wytwarzaniu blon foto¬ graficznych.W celu uzyskania nienagannej powierzchni blony wedlug powszechnie przyjetej dotychczas praktyki, oblewano powierzchnie bebnów lub tasm itranspor- terowych bez konca warstwa podkladowa, na której dopiero wytwarzano blone. Jesli blone wytwarza sie bez podkladu, to powierzchnia bebna lub tasmy transportera moze ulec uszkodzeniu pod wplywem czynników mechanicznych lulb chemicznych, co wplywa niekorzystnie na jakosc powierzchni blony.Znane sa sposoby wytwarzania takich warstw podkladowych z zelatyny, szkla wodnego, alkoholu poliwinylowego, estrów alginowych lub zwiazków metali nierozpuszczalnych i rozpuszczalnych w rozpuszczalnikach organicznych. W ogólnosci wada tak otrzymywanych warstw podkladowych jest to, ze nie maja one powierzchni o wysokim polysku.Znany jest równiez sposób, w którym warstwe pod¬ kladowa wytwanza sie z estrów celulozy, a miano¬ wicie z estrów wyzszych kwasów tlusziczowych, za¬ wierajacych co najmniej 10 atomów wegla w cza¬ steczce. Podklady te maja te wade, ze nie sa od¬ porne na dzialanie mieszaniny rozpuszczalników stosowanej przy wytwarzaniu blon, takich jak np. mieszaniny chlorku metylenu z butanolem lub z metanolem. 2 Wedlug innych znanych sposobów warstwe pod¬ kladowa do odlewu wytwarza sie z estru celulozy, w którym wolne jeszcze grupy wodorotlenowe celu¬ lozy usieciowuje sie za pomoca zwiazków, zawie- 5 rajacych reaktywne grupy hydroksymetyloeterowe.W tym przypadku podklad jest odporny na dziala¬ nie wymienionych wyzej rozpuszczalników stoso¬ wanych do wytwarzania blon, jednak sposób ten jest o tyle niekorzystny, ze powierzchnia podkladu 10 nie jest wystarczajaco gladka, a ponadto proces sieciowania wymaga zbyt wiele czasu.Podklady o idealnie gladkiej powierzchni otrzy¬ mywano juz w postaci warstw z ipowierzchniowo zhydrolizowanych estrów celulozy. Zdejmowanie 15 tych warstw z tasmy albo z bebna wylewarki bylo jednak wyjatkowo uciazliwie, gdyz nie byl znany sposób zmiekczenia i zdjecia takich powierzchnio¬ wo zhydrolizowanych warstw. Konieczne bylo dla¬ tego stosowanie dwóch lezacych jedna na drugiej 20 warstw o róznym skladzie, przy czym powierzchnio¬ wo zhydrolizowana jest tylko warstwa wierzchnia, która w celu odnowienia mozna oddzielic od warst¬ wy dolnej. Warstwa dolna nie jest zhydrolizowana, dlatego nie ma zadnych trudnosci przy jej zmiek- 25 czaniu i zdejmowaniu. Wada tego sposobu jest, ze wymaga wytwarzania wiecej niz jednej warstwy i jesli hydroliza nie nastepuje równomiernie i na powierzchni podkladu wystapia miejsca niejedno¬ rodne, wltedy rozpuszczalniki roztworu do wytwa- 30 rzania blon powoduja miejscowe pecznienie pod- 60451kladu. Zapobiega sie temu w ten sposób, ze sieciuje sie powierzchniowo zhydrolizowana warstwe celu¬ lozy przez reakcje z dwualdehydamii. Jednakze i w tyim przypadku konieczne jest stosowanie dwóch warstw, przy czym proces sieciowania zajmuje wiele czasu;- Podklad otrzymany z estrów celulozy mozna równiez hydrolizowac powierzchniowo za pomoca wodnych roztworów alkalicznych. W tym przypadku uzyskuje sie silniejsze przenikanie i zhydrolizowana warstwa jest stosunkowo gruba,- jednak konieczne jest równiez odlewanie wiecej niz jednej warstwy.Obecnie stwierdzono, ze podklady z pojedynczej warstwy powierzchniowo zhydroMzowanego estru celulozy mozna zmiekczyc i nastepnie usunac lat¬ wo stosujac obróbke organicznymi amidem kwaso¬ wym, korzystnie formamidem lulb organicznym jednopodstawionym lub dwupodstawionym przy azocie alifatycznym amiidem kwasowymi, np. dwu- metyloformamiidem, dwumetyloacetamidem lub for- manilidem. Szczególnie korzystne jest przeciwdzia¬ lanie lotnosci cieczy zmiekczajacej przez dodanie rozpuszczalnego w niej polimeru, np. poliakryloni- trylu, polioctanu winylu hub octanu celulozy.Nastepujace przyklady objasniaja wynalazek.Przyklad I. Roztworem 15 kg octanu celulozy zawierajacego 56'tye grup octanowych w 100 litrach acetonu oblano w ciagu 7 obrotów tasme transpor¬ terowa bez konca w temperaturze 40—50° C. Po wysuszeniu otrzymana powloke zhydrolizowano po¬ wierzchniowo przez kilkakrotne potraktowanie 10D/o-owym roztworem KOH w mieszaninie metano¬ lu i wody w stosunku 4 :1 w temperaturze poko¬ jowej. Otrzymany podklad nadawal sie do wytwa¬ rzania dowolnych blon, np. nosnika warstw emul¬ sji blony fotograficznej. W przypadku, gdy zacho¬ dzila potrzeba usuniecia warstwy podkladowej wskutek uszkodzenia jej powierzchni, polewano ja 20'Vo-owym roztworem octanu celulozy, zawieraja¬ cego 56 Vo grup octanowych, rozpuszczonego w dwumetyloformamidzie. Operacje te przeprowadzo¬ no w temperaturze 25° C w ciagu trzech kolejno nastepujacych po sobie obrotów tasmy. Ilosc uzyte¬ go roztworu wynosila 1,5—2,0 litrów/m2 powierzch¬ ni podkladu. Dumetyloformamid zmiekcza zarówno blonke powierzchniowo zhydrolizowanej celulozy jak i warstwy z niezihydroilizowanego estru celulo¬ zy. Po okolo dwugodzinnym dzialaniu roztworu, li¬ czac od momentu zakonczenia operacji polewania roztworem zmiekczajacym, podklad ulegl zmiekcze¬ niu w takim stopniu, ze dal sie latwo zdjac z tasmy transportera.Przyklad II. Roztworem 15 kg octanu celulo¬ zy, zawierajacego 56% grup octanowych, w 100 li¬ trach acetonu oblano beben wylewarki i wysuszo¬ no. Powierzchniowo zhydrolizowana warstwe pod¬ kladowa oblano w temperaturze 25° C 17°/o-0wyim roztworem poliakry- lonitrylu w dwumetyloformamidzie w ilosci 1,5— 2,0 litrów/m2 powierzchni podkladu i poddano pod- klad dzialaniu tego roztworu 'W ciagu dwóch go¬ dzin. Po tym okresie czasu podklad ulegl calkowi¬ temu zmiekczeniu i dal sie latwo zdjac z bebna.Przyklad III. Naniesiona na powierzchnie tas- 5 my bez konca wylewarki tasmowej i powierzchnio¬ wo zhydrolizowana warstwe podkladowa jak w przykladzie I, która wymagala odnowienia, oblano w ciagu trzech obrotów tasmy w temperaturze 25° C 20%-owym roztworem octanu celulozy, za- 10 wierajacego 56% grup octanowych, w dwumetylo- acetamidzie. Ilosc zuzytego roztworu wynosila 1,5- 2,0 liitrów/m2 powierzchni podkladu. Podklad pod¬ dano dzialaniu roztworu w ciagu dwóch godzin. Po tym okresie czasu podklad ulegl calkowitemu 15 zmiekczeniu i dal sie latwo zdjac z tasmy.Przyklad IV. Naniesiona na powierzchnie bebna wylewarki bebnowej, wysuszona i po¬ wierzchniowo zhydrolizowana warstwe podkladowa 2Q jak w przykladzie I, która wymagala odnowienia, oblano w temperaturze 25° C w ciagu trzech obro¬ tów bebna 20%-owym roztworem octanu celulozy, zawierajacego 56% grup octanowych, w N^metylo- formanilidzie. Ilosc naniesionego roztworu wyno¬ sila 1,5—2,0 litrów/m2 powierzchni podkladu. Pod¬ klad poddano dzialaniu tego roztworu w ciagu 6 godzin,.Po uplywie tego czasu podklad byl calko¬ wicie zmiekczony i dal sie latwo zdjac z powierzch¬ ni bebna. 30 Przyklad V. Naniesiona na tasme bez konca wylewarki tasmowej, wysuszona i powierzchniowo zhydrolizowana warstwe podkladowa, jak w przy¬ kladzie I, przeprowadzono siedmiokrotnie przez kapiel dwumetyloformamidowa. Czas dzialania for- 35 mamlidu wynosil 1 godzine. Po tej obróbce podklad pozostawiono na pewien czas w temperaturze po¬ kojowej, przy czym ulegl on czesciowo wysuszeniu i dal sie latwo zdjac z powierzchni tasmy. 40 PL PL

Claims (4)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób usuwania jednowarstwowego podkladu przy wytwarzaniu blon fotograficznych skladajace¬ go sie z powierzchniowo zhydrolizowanego estru celulozy, znamienny tym, ze podklad poddaje sie dzialaniu organicznego amidu kwasowego, po czym zdejmuje sie zmiekczona warstwe podkladu.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze 50 jako organiczny amid kwasowy stosuje sie forma¬ mid lulb jednopodstawiony albo dwupodstawiony przy azocie alifatyczny amid kwasowy.

3. Sposób wedlug zastrz. 1, i 2, znamienny tym, ze jako amid kwasowy stosuje sie dwumetylofor- 55 mamid, dwumetyloacetamid lub N-rnetyloformani- lid.

4. Sposób wedlug zastrz. 1—3, znamienny tym, ze stosuje sie organiczny amid kwasowy, zawierajacy rozpuszczalny w nim polimer. ZG „Ruch" W-wa, zam. 393-70, nakl. 240 egz. PL PL