PL59981B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL59981B1
PL59981B1 PL130859A PL13085968A PL59981B1 PL 59981 B1 PL59981 B1 PL 59981B1 PL 130859 A PL130859 A PL 130859A PL 13085968 A PL13085968 A PL 13085968A PL 59981 B1 PL59981 B1 PL 59981B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
cathode
oxygen
glass
tin
antimony
Prior art date
Application number
PL130859A
Other languages
English (en)
Inventor
Mieczyslaw Jachimowski dr
Edward Leja dr
Adam Czapla mgr
Original Assignee
Akademia Górniczohutnicza
Filing date
Publication date
Application filed by Akademia Górniczohutnicza filed Critical Akademia Górniczohutnicza
Publication of PL59981B1 publication Critical patent/PL59981B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 20. IV. 1970 59981 KI. 48 b, 15/00 W MKP € 2^e UKD 621. 793.12 Wspóltwórcy wynalazku: dr Mieczyslaw Jachimowski, dr Edward Leja, mgr Adam Czapla Wlasciciel patentu: Akademia Górniczo-Hutnicza (Katedra Fizyki), Kra¬ ków (Polska) Sposób nanoszenia oporowych warstw przepuszczajacych swiatlo, zwlaszcza na powierzchnie szklane i ceramiczne i Przedmiotem' wynalazku jest sposób nanoszenia oporowych warstw przepuszczajacych swiatlo, zwlaszcza na powierzchnie szklane i ceramiczne, znajdujacy zastosowanie w produkcji elektrod do komórek elektroluminescencyjnych, lamp analizu- 5 jacych obraz i do innych urzadzen elektro- optycznych.Znany dotychczas chemiczny sposób nanoszenia oporowych warstw przepuszczajacych swiatlo na podloze szklane lub ceramiczne polega na wdmu- io chiwaniu do przelotowego pieca grzewczego, z umieszczonym w nim elementem, na którym ma byc wytworzona warstwa, przepuszczajaca swia¬ tlo, rozpylonej mieszaniny, zlozonej z czterochlor¬ ku cyny i alkoholu rozpuszczonego w wodzie. W 15 temperaturze wnetrza pieca, wynoszacej okolo 450°C„ nastepuje osadzanie sie warstwy dwutlen¬ ku cyny na powierzchni elementu.Wada tej metody jest trudna kontrola przebie¬ gu procesu. Powstala warstwa jest na ogól nie- 20 jednorodna, ma rózna grubosc oraz niepowtarzal¬ ne parametry elektryczne i optyczne, a przepusz¬ czalnosc jej dla swiatla w obszarze widzialnym wynosi okolo 70%.Znany sposób reaktywnego katodowego nano- 25 szenia kadmowych warstw, przepuszczajacych swiatlo, na podloze szklane lub ceramiczne, pole¬ ga na doprowadzaniu do prózniowej komory ka¬ todowej mieszaniny argonu i tlenu. Przy ujem¬ nym napieciu katody, wynoszacym okolo 1500 V 30 i cisnieniu 10_1Tr nastepuje bombardowanie ka¬ tody jonami argonu, w wyniku czego z katody' wyzwalaja sie atomy kadmu. Atomy te, laczac sie z atomami tlenku, osadzaja sie na powierzchni usytuowanego na przeciw katody elementu, prze¬ znaczonego do pokrycia warstwa tlenku kadmu.Wada tego sposobu jest zóltawe zabarwienie uzy¬ skanych warstw, przy którym przepuszczalnosc swiatla w obszarze widzialnym wynosi okolo 70%.Warstwy te sa ponadto malo stabilne.Celem wynalazku jest umozliwienie nanoszenia, zwlaszcza na podloze szklane lub ceramiczne cien¬ kich oporowych warstw z dwutlenku cyny, prze¬ puszczajacych swiatlo.Cel ten zostal, osiagniety w sposobie nanoszenia oporowych warstw przepuszczajacych swiatlo, zwlaszcza na powierzchnie szklane i ceramiczne, wedlug wynalazku, który polega na reaktywnym, katodowym rozpylaniu metalicznej cyny, "zawie¬ rajacej domieszke antymonu. Proces przeprowadza sie w komorze prózniowej w atmosferze tlenu lub tlenu z argonem pod cisnieniem od 10_1Tr do 5 • 10"2Tr przy napieciu, wynoszacym od 1000 V do 1500 V. Element przeznaczony do pokrycia warstwa • dwutlenku cyny umieszcza sie na prze¬ ciw chlodzonej katody, wykonanej ze stopu cyny z antymonem i podgrzewa do temperatury okolo 250°C Sposób nanoszenia oporowych warstw przepusz¬ czajacych swiatlo, zwlaszcza na powierzchnie 59981599S1 szklane lub ceramiczne, wedlug wynalazku, prze¬ prowadza sie w komorze prózniowej, w której mocuje sie na kadlubie, wyposazonym w uklad chlodzenia, katode, wykonana ze stopu cyny z an¬ tymonem, zawierajacego 1—10% antymonu. Na przeciw katody umieszcza sie element, przezna¬ czony do pokrycia oporowa warstwa, przepuszcza¬ jaca swiatlo. Katode i scianki komory prózniowej, stanowiace anode, laczy sie z obwodem wysokie¬ go napiecia, wynoszacego od 1000 V do 1500 V.Nastepnie komore prózniowa laczy sie z jednej strony ze zbiornikiem tlenu lub tlenu z argonem, a z drugiej strony z pompa prózniowa, wytwa¬ rzajaca wewnatrz komory cisnienie od 10-1 Tr do 5 • lO-2 Tr. Przy napieciu U pradu, pomiedzy ka¬ toda a sciankami zbiornika, wynoszacym 1000 V lub 1500 V i przy cisnieniu p. wewnatrz próznio¬ wej komory równym 10"1 Tr lub 5 • 10~2 Tr, opór naniesionej warstwy przepuszczajacej swiatlo R [Q/B] oraz wspólczynnik temperaturowy opornosci Ar zaleza od procentowej zawartosci anty- RoAt monu w stopie cyna—antymon, z którego jest wy¬ konana katoda. Zaleznosc oporu warstwy R i. wspólczynnika temperaturowego opornosci a od procentowej zawartosci antymonu przedstawiono w ponizszym zestawieniu.Zaleta sposobu nanoszenia oporowych warstw przepuszczajacych swiatlo zwlaszcza na powierz¬ chnie szklane i ceramiczne wedlug wynalazku, jest duza przepuszczalnosc warstw dla swiatla w obszarze widzialnym, wynoszaca okolo 95%. Na¬ niesione warstwy sa odporne na dzialanie czyn¬ ników chemicznych i bardzo trudno scieralne. 10 15 20 25 30 U [V] 1000 1700 P [Tr] io-i 5.10-2 #Sb 1,8.10-1 1,8 5 11 1,8.10-1 1,8 5 11 4 Rq [a/B] 5-105 7 • IO3 5-102 1,2 • 102 3-105 6-103 2-102 90 L. " A* ro a lO"2 io-4 lO"5 ' io-2 io-5 io-5 io-6 gdzie B — pole przekroju poprzecznego warstwy. PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób nanoszenia oporowych warstw prze¬ puszczajacych swiatlo, zwlaszcza na powierz¬ chnie szklane i ceramiczne przez reaktywne katodowe rozpylanie, znamienny tym, ze od¬ bywa sie w atmosferze tlenu lub tlenu z argo¬ nem, pod cisnieniem od 10_1 Tr do 5 • IO-2 Tr,. przy napieciu wynoszacym od 1000 V do 1500 V, przy uzyciu katody, wyposazonej w uklad chlo¬ dzenia, przy czym element przeznaczony da pokrycia warstwa cyny, podgrzewa sie do tem¬ peratury okolo 250°C.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1 znamienny tym, ze ka¬ tode stanowi stop cyny z antymonem, zawiera¬ jacy 1—10% antymonu. PZG w Pab., zam. 198-70, nakl. 250 egz. PL
PL130859A 1968-12-27 PL59981B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL59981B1 true PL59981B1 (pl) 1970-02-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5171413A (en) Methods for manufacturing solid state ionic devices
FI112555B (fi) Elektroluminoiva laite, menetelmä sen valmistamiseksi ja elektroluminoivien laitteiden järjestelmä
US3419487A (en) Method of growing thin film semiconductors using an electron beam
CN105278198B (zh) 互补型无机全固态电致变色器件及其制备方法
KR101238926B1 (ko) 투명 도전막의 성막 방법 및 성막 장치
Kaneko et al. Physical properties of antimony‐doped tin oxide thick films
CN105821378B (zh) 一种铌掺杂二氧化锡透明导电膜及其制备方法
JPS599482B2 (ja) 耐空気性の結晶性窒化リチウム、その製造法およびそれより成るイオン導電体
KR20080071973A (ko) 스퍼터링에 의한 코팅 증착법
US20170069861A1 (en) Transparent Conducting Oxide As Top-Electrode In Perovskite Solar Cell By Non-Sputtering Process
CN101476111A (zh) 一种透明导电薄膜及其制备方法
US2177705A (en) Electric lamp
US4428810A (en) Method and apparatus for depositing conducting oxide on a substrate
KR20120028887A (ko) 광전 소자 및 그의 제조 방법
US2948635A (en) Phosphor evaporation method and apparatus
PL59981B1 (pl)
US3418229A (en) Method of forming films of compounds having at least two anions by cathode sputtering
US3219868A (en) Articles of fused silica
US3681222A (en) Method of producing luminescent screens by the electrophoretic process
US3074816A (en) Light-transmitting, electrically conducting element
Karim et al. Deposition of tin-doped indium oxide films by a modified reactive magnetron sputtering process
JP2628519B2 (ja) 電子電熱変換材料の製造方法および電子電熱変換材料
US3673006A (en) Method and apparatus for surface coating articles
CN100359340C (zh) 一种硫化钐全息记录光学薄膜的制备方法
CN104480441A (zh) 金属合金靶材制备含氢氧化锌铝透明导电薄膜的方法