PL59499B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL59499B1
PL59499B1 PL127509A PL12750968A PL59499B1 PL 59499 B1 PL59499 B1 PL 59499B1 PL 127509 A PL127509 A PL 127509A PL 12750968 A PL12750968 A PL 12750968A PL 59499 B1 PL59499 B1 PL 59499B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
chamber
drum
slot
base
knob
Prior art date
Application number
PL127509A
Other languages
English (en)
Inventor
Przysowa Stanislaw
Original Assignee
Przemyslowy Instytut Elektroniki
Filing date
Publication date
Application filed by Przemyslowy Instytut Elektroniki filed Critical Przemyslowy Instytut Elektroniki
Publication of PL59499B1 publication Critical patent/PL59499B1/pl

Links

Description

Wlasciciel patentu: Przemyslowy Instytut Elektroniki, Warszawa (Pol¬ ska) Przyrzad do wytwarzania cienkich warstw ' Przedmiotem wynalazku jest przyrzad do wytwa¬ rzania cienkich warstw w postaci blon z róznych substancji, na przyklad warstw substancji naklada¬ nych na katody lamp elektronowych.W technice wykonywania katod lamp elektrono¬ wych zachodzi potrzeba wytwarzania warstw o grubosci rzedu kilkunastu lub kilkudziesieciu mi¬ krometrów z substancji umozliwiajacych uzyska¬ nie obfitej emisji elektronów, przy czym warstwy tych substancji w postaci blon naklada sie na ele¬ menty katod lamp elektronowych róznymi sposo¬ bami, a najczesciej wykrawa sie z tych warstw od¬ powiednie ksztaltki, które nakleja sie na rdzenie katod lamp elektronowych.W celu uzyskania powtarzalnych parametrów produkowanych lamp elektronowych niezbedne jest wytwarzanie jednorodnych warstw o równomiernej * grubosci z mozliwie mala tolerancja grubosci, nie przekraczajaca kilku mikrometrów.Znane sa rózne przyrzady i urzadzenia do wy¬ twarzania cienkich warstw, jak na przyklad urza¬ dzenia do naparowywania w prózni odpowiednich substancji, urzadzenia do natryskiwania substancji pod cisnieniem lub przyrzady do nalewania roztwo¬ rów substancji w stanie cieklym, na odpowiednie podloza, na których po odparowaniu cieczy powsta¬ ja zadane cienkie warstwy.Urzadzenia do naparowywania w prózni i natrys¬ kiwania substancji na odpowiednie podloza lub bezposrednio na element katody sa skomplikowane 25 30 i kosztowne, a poza tym sa nieekonomiczne, gdyz powoduja duze straty substancji, z których wytwa¬ rza sie cienkie warstwy, poniewaz jedynie niewiel¬ ki procent uzytego materialu zostaje nalozony na rdzen katody, a reszta jest tracona.Urzadzenia do naparowywania i natryskiwania nie zawsze zapewniaja uzyskanie warstw o powta¬ rzalnej równomiernej grubosci z wymagana tole¬ rancja, bez wysepek i dziur, co powoduje dodatko¬ we straty w produkcji.Lepsze wyniki techniczne i ekonomiczne uzyskuje sie za pomoca przyrzadów i urzadzen do wylewania roztworów emitujacych substancji na podloza nie wchodzace w sklad lampy. Po odparowaniu cieczy zdejmuje sie z nich cienkie warstwy emisyjne w postaci blon, które mozna krajac i nalepiac na rdzen katodowy.Warstwy tego rodzaju wylewa sie za pomoca dro¬ gich i skomplikowanych automatów lub za pomo¬ ca przyrzadów zwykle w postaci lejków o kalibro¬ wanym otworze, dobranym odpowiednio do gestosci wyplywajacej cieczy, przystosowanym do wytwa¬ rzania warstwy o okreslonej grubosci, przy uzy¬ ciu cieczy o okreslonej gestosci, wskutek czego dla uzyskania warstw o róznych grubosciach oraz przy uzyciu cieczy rózniacych sie gestoscia nalezy sto¬ sowac rózne lejki, co jest niewygodne w produk¬ cji cienkich warstw.Celem wynalazku jest umozliwienie wylewania na sztywne podloze cieczy 'rózniacych sie miedzy 5940959409 4 soba gestoscia i wytwarzanie z róznych materia¬ lów, warstwy w postaci cienkich blonek o róznych, scisle okreslonych grubosciach, odznaczajacych sie duza jednorodnoscia i duza równomiernoscia gru¬ bosci..Cel ten osiagnieto przez opracowanie przyrzadu skladajacego stie z korpusu wykonanego w postaci plaskiej poziomo uniieszczonej plyty, zaopatrzonej na jednym brzegu w zbiornik cieczy umieszczony u1 góry nad korpusem i w znajdujaca sie ponizej 'v •¦ pbWrnika komore wykonana w ksztalcie walca, v ViiJózona poziomo, do górnej czesci której dopro¬ wadzone jest ujscie ze zbiornika, a w dolnej czes¬ ci "komory wzdluz tworzacej walca jest wykonana podluzna szczelihay a poza tym wewnatrz komory znajduje sie cienkoscienny beben otwarty od góry, a od dolu zaopatrzony w szczeline podobna do szczeliny wykonanej w komorze, przylegajacy do scianek komory i ulozony w -ten sposób, ze jeden brzeg szczeliny bebna pokrywa sie z jednym brze¬ giem szczeliny komory, przy czym beben jest obra¬ cany wewnatrz komory w ten sposób, ze szczeli¬ na wykonana w nim przesuwa slie wzgledem szcze¬ liny komory, wskutek czego uzyskuje sie regulacje szerokosci udjworaoneij w ten sposób szczeliny wy¬ lotowej.Do regulacji polozenia bebna wewnatrz komory korpusu, a zatem do regulacji szerokosci szczeliny wylotowej sluzy urzadzenie zlozone ze sruby po¬ ciagowej zakonczonej na jednym koncu gwintem, na którym osadzone jest pokretlo', a na drugim koncu zaopatrzonej w wystep o ksztalcie prosto¬ padloscianu, którego jedna scianka przylega do powierzchni korpusu i jest po niej prowadzona, przy czyim wystep jest zaopatrzony w bolec, na którym osadzony j»est przegubowo koniec ra¬ mienia dzwigni, którego drugi koniec jest sztywno przymocowany do bebna. Pokrecanie pokretlem na zewnatrz korpusu powoduje wkrecanie lub wykre¬ canie konca sruby w pokretlo, a w konsekwencji przesuwanie sie dolnego konca sruby w dól lub w góre, który pociaga za soba dolaczona do niego dzwignie i powoduje obrócenie sie bebna wewnatrz komory.Dlugosc dzwigni i glebokosc wkrecania sruby pociagowej w pokretlo sa tak dobrane, ze u- mozliwiaja obrócenie bebna o kat wystarczajacy do calkowitego zasloniecia szczeliny. Bebnowy spo¬ sób regulacji szczeliny umozliwia dokladne i trwa¬ le nastawienie szerokosci szczeliny wyciekowej wzdluz calej jej dlugosci. Wewnatrz bebna znajdu¬ je sie plywak, o który opiera sie igla zamykajaca doplyw cieczy ze zbiornika do wnetrza bebna po uniesieniu plywaka, a prócz tego korpus przyrzadu jest przymocowany dio podstawy osadzonej na rol¬ kach opierajacych sie o plyte podloza, unoszacych podstawe w pewniej odleglosci nad powierzchnia plyty podloza w ten sposób, ze odleglosc korpusu od podstawy jest regulowana, wskutek czego uzy¬ skuje sie regulacje odleglosci szczeliny wylotowej od plyty podloza.Budowe przyrzadu wyjasniono za pomoca zala¬ czonego rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przyrzad w przekroju wykonanym wzdluz lamanej linii A-A zaznaczonej na fig. 2, a fig. 2 ten sam przyrzad w widoku prespektywioznym.Do korpusu 1 przymocowany jest zbiornik 2, po¬ nizej którego znajduje sie komora 3 wykonana w 5 ksztalcie walca w 'korpusie 1, zaopatrzona u dolu w szczeline 4, otwarta z jednej strony, przez któ¬ ra do wnetrza komory 3 jest wsuniety beben 5 otwarty od góry i zaopatrzony u dolu w szczeline 6 o takich samych wymiarach jak szczelina 4 ko- io mory, ulozona nad szczelina 4 komory 3.Srednica zewnetrzna bebna jest dokladnie do¬ pasowana do wewnetrznej srednicy komory, wsku¬ tek czego beben cala zewnetrzna powierzchnia przylega do wewnetrznej powierzchni komory. Na 15 brzegu bebna do zewnetrznej jego powierzchni jest sztywno przymocowana dzwignia 7 umieszczona w wykroju korpusu usytuowanym pionowo, umozli¬ wiajacym przesuwanie dzwigni w kierunku pio¬ nowym oraz swobodne wysuwanie bebna z komo- 20 ry. Drugi koniec dzwigni 7 zaopatrzony jest w po¬ dluzny wykrój, w który wsuniety jest bolec 8 o srednicy dokladnie dopasowanej do szerokosci wykroju, osadzony w wystepie 9, o ksztalcie pro¬ stopadloscianu, stanowiacym zakonczenie pociago- 25 wej sruby 10. Drugi, gwintowany koniec pociago¬ wej sruby 10 jest wsuniety luzno w otwór 11 wy¬ konany w korpusie i wystepuje ponad korpus. Na ten koniec pociagowej sruby 10 nakrecone jest, gwintowane wewnatrz, pokretlo 12. Na pociagowa 80 srube 10 nalozona jest sprezyna 13 opierajaca sie jednym koncem o wystep 9 pociagowej sruby, a drugim o wewnetrzna powierzchnie korpusu 1, która naciska na wystep 9 i powoduje przyleganie brzegów pokretla 12 do zewnetrznej powierzchni 35 korpusu 1. Pokrecanie pokretlem 12 powoduje prze¬ suniecie wystepu 9 po powierzchni bocznej korpu¬ su i uniesienie bolca 8 w góre lub w dól. Na bolcu 8 jest osadzony zaopatrzony w podluzny wykrój, koniec dzwigni 7, która obraca beben 5. 40 Wewnatrz bebna 5 jest umieszczony plywak 14, o który opiera sie igla 15 zamykajaca otwór prze¬ plywowy prowadzacy ze zbiornika 2 do komory 3, ustalajaca poziom cieczy w bebnie. Otwór 16 wy¬ konany w korpusie .nad komora umozliwia wy- 45 równanie cisnienia powietrza wewnatrz bebna 5 z cisnieniem zewnetrznym, co ulatwia splywanie' cieczy ze zbiornika i wyplywanie przez szczeline.Korpus 1 jest umocowany na podstawie 17 za¬ opatrzonej' w rolki 18 umozliwiajace przesuwanie 50 przyrzadu nad podlozem. W podstawie 17 jest wy¬ konany otwór, w którym jest umocowany bolec 19 gwintowany na koncu, luzno przechodzacy przez otwór w korpusie 1 wystajacy ponad korpus. MieT dzy podstawa 17 i korpusem 1 jest umieszczona 55 sprezyna 20, odpychajaca korpus od podstawy, któ¬ ra unosi korpus 1 na niewielkiej wysokosci nad podstawa 17. Gwintowane wewnatrz pokretlo 21 nakrecone na gwintowany koniec bolca 19 wsku¬ tek nacisku sprezyny 20 opiera sie brzegiem o po- 60 wierzchnie korpusu 1, Obracanie pokretlem 21 po¬ woduje scisniecie lub rozprezenie sprezyny 20 i zmiane odleglosci miedzy korpusem 1 a podstawa 17, a zatem zmiane odleglosci szczeliny od podlo¬ za. 05 W celu wytworzenia cienkiej warstwy przyrzad 20 25 80 35 40 4559493 ustawia sie na dokladnie wypozdomowanej wspor¬ czej konstrukcji 22 zaopatrzonej na dwóch brze¬ gach w sciekowe rowki 23 oraz w mechanizm na¬ pedowy na przyklad w postaci malego silnika elek¬ trycznego napedzajacego obrotowy walek 24 umo¬ cowany pionowo przy brzegu wsporczej konstruk¬ cji 20 zaopatrzony w dolaczona do niego jednym koncem cienka linke, której drugi koniec jest do¬ laczony do zaczepu 25 wykonanego w tym celu w przyrzadzie. Z drugiej strony przyrzadu jest wy¬ konany taki sam zaczep 25, do którego jest dola¬ czona cienka linka, polaczona za pomoca ukladu posredniczacych krazków, nie uwidocznionych, z walkiem 24. Uklad napedowy jest tak zbudowany, ze obracanie walkiem w prawo lub w lewo powo¬ duje przesuniecie przyrzadu nad plyta 26 szklana lub metalowa umieszczona na wsporczej konstruk¬ cji 22 w ten sposób, ze brzegi plyty 26 leza w po¬ blizu sciekowych rowków 23.Rolki 18 poruszaja sie po torze na wsporczej konstrukcji 22, jednakze sa tak zbudowane, ze brzeg ich opiera sie o powierzchnie plyty 26 wsku¬ tek czego w przypadku nierównosci plyty odleglosc miedzy szczelina i plyta zostaje zachowana z du¬ za dokladnoscia.W celu wykonania warstwy przyrzad ustawia sie nad sciekowym rowkiem 23 i do zbiornika 2 wle¬ wa sie ciecz, która ma wytworzyc zadana warstwe.Ciecz przelewa sie do komory, a nastepnie wycie¬ ka przez szczeline do rowka 23, z którego splywa do pojemnika nie uwidocznionego na rysunku, umocowanego na koncu rowka. Wyciekanie cie¬ czy do rowka wskazuje, ze przyrzad jest przygo¬ towany do prawidlowej pracy, wówczas wlacza sie silnik, który przesuwa przyrzad nad plyta 26, wskutek czego zostaje na nia nalozona równomier¬ na warstwa cieczy. Przyrzad zostaje zatrzymany w takim polozeniu, ze szczelina znajduje sie nad drugim sciekowym rowkiem 23, do którego scieka nadmiar cieczy. Wówczas wymienia sie plyte i powtarza sie operacje, przesuwajac przyrzad w przeciwnym kierunku za pomoca drugiej linki na¬ pedowej.Zbiornik 2 moze byc przymocowany do korpusu 1 za pomoca wkretów lub zatrzasku sprezynuja¬ cego albo w inny sposób, umozliwiajacy latwe odejmowanie igo od korpusu. Podobnie beben 5 jest zabezpieczony w komorze 3 za pomoca za¬ trzasku umozliwiajacego latwe wysuniecie bebna 5 z komory 3. W tym przypadku koniec dzwigni 7 zaopatrzony w podluzny wykrój zostaje zsuniety z bolca 8 i dzwignia wraz z bebnem zostaje wy¬ sunieta na zewnatrz. Umozliwia to, po skonczonej pracy, umycie zbiornika i bebna oraz oczyszcze¬ nie przyrzadu i przygotowanie go do nastepnych prac. PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Przyrzad do wytwarzania cienkich warstw w postaci blon o grubosci kilkunastu lub kilkudzie¬ sieciu mikrometrów z mozliwie mala tolerancja grubosci, przeznaczonych do nakladania na rdze¬ nie katod lamp elektronowych znamienny tym, ze sklada sie z korpusu (1) wykonanego w postaci 5 plaskiej poziomo umieszczonej plyty, zaopatrzonej na jednym brzegu w zbiornik (2) cieczy, umiesz¬ czony u £Óry nad korpusem (1) i w znajdujaca sie ponizej zbiornika (2) komore (3) wykonana w ksztalcie walca, ulozona poziomo w korpusie, do ¦10 górnej czesci której doprowadzone jest ujscie ze zbiornika (2), a w dolnej czesci komory <3) wzdluz tworzacej walca jest wykonana podluzna szczeli¬ na (4) komory a pozatym wewnatrz komory (3) znajduje sie cienkoscienny beben (5) otwarty od 15 góry, a od dolu zaopatrzony w szczeline (6) bebna podobna do wykonanej w komorze (3) szczeliny (4) komory, przylegajacy do scianek komory i ulo¬ zony w ten sposób, ze jeden brzeg szczeliny (6) bebna (5) pokrywa sie z jednym brzegiem szczeli¬ no ny (4) komory (3), przy czym beben (5) jest obra¬ cany wewnatrz komory (3) w ten sposób, ze szcze¬ lina (6) bebna przesuwa sie wzgledem szczeliny (4) komory, wskutek czego uzyskuje sie regulacje sze¬ rokosci utworzonej w ten sposób szczeliny wylo- 2:, towej.
  2. 2. Przyrzad wedlug zastrz. 1 znamienny tym, ze do regulacji polozenia bebna <5) wewnatrz komo¬ ry (3) w korpusie (1) sluzy urzadzenie zlozone z pociagowej sruby (10) zakonczonej na jednym kon- 30 cu gwintem, na którym jest osadzone giwintowane wewnatrz pokretlo (12), a na drugim koncu zaopa¬ trzonej w wystep (9) o ksztalcie prostopadloscia¬ nu, którego jedna scianka przylega do powierzchni bocznej korpusu (1) i jest po niej prowadzona, 35 przy czym wystep jest zaopatrzony w bolec (8), na którym jest osadzony zaopatrzony w podluzny wy¬ krój koniec dzwigni (7), a drugi koniec dzwigni <7) jest sztywno przymocowany do powierzchni bebna, a ponadto na pociagowa srube (10) jest na- 4o lozona sprezyna (13) opierajaca sie jednym kon¬ cem o wystep (9) pociagowej sruby (10), a drugim koncem o wewnetrzna powierzchnie korpusu (1) i naciskajaca na wystep (9), co powoduje przyle¬ ganie brzegów pokretla (12) do zewnetrznej po- 45 wierzchni korpusu (1) i umozliwia za pomoca po¬ krecania pokretlem (12) uzyskanie plynnej regu¬ lacji szerokosci szczeliny wylotowej.
  3. 3. Przyrzad wedlug zastrz. 1 i 2 znamienny tym, 50 ze wewnatrz bebna (5) znajduje sie plywak (14), o który opiera sie igla (15) zamykajaca doplyw cieczy ze zbiornika (2) do wnetrza bebna (5) po uniesieniu plywaka, a prócz tego korpus (1) przy¬ rzadu jest przymocowany do podstawy (17) osa- 55 dzonej na rolkach (18) opierajacych sie o plyte (26) podloza, unoszacych podstawe w pewnej odleglos¬ ci nad powierzchnia plyty (26) podloza, w ten spo¬ sób, ze odleglosc korpusu (1) od podstawy (17) jest regulowana, wskutek czego uzyskuje sie regulacje 60 odleglosci szczeliny wylotowej od plyty (26) pod¬ loza.KI. 21 g, 13/08 59499 MKP H 01 j A-A Fig.i Fig.2 Zaklady Kartograficzne, Wroclaw, zam. C/1059, 290 PL
PL127509A 1968-06-14 PL59499B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL59499B1 true PL59499B1 (pl) 1969-12-29

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102010062937B4 (de) Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle
US5654041A (en) Method and device for lacquering or coating of a substrate by a capillary slot
US7107701B2 (en) Substrate drying method and apparatus
PL59499B1 (pl)
DE2401382A1 (de) Vorrichtung zur automatischen durchfuehrung einer duennschicht-chromatografie
DE10226478A1 (de) Rotationsverdampfer mit variabler Dosierung
US4528934A (en) Thin-film coating apparatus
JPS6215266B2 (pl)
US5185187A (en) Method and apparatus for dip coating a hollow cylindrical body
AU701991B2 (en) Process and device for lacquering or coating a substrate
DE2636472A1 (de) Vorrichtung zum lagern von fluessigkeiten
DE69831496T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum zentrifugalbeschichten von chemikalien
JP3663448B2 (ja) 毛管現象を用いる塗工装置
JP2005527393A (ja) ナノ結晶の第1の材料の層に第2の材料の層を付着させる方法及び装置
JPS63302977A (ja) 浸漬塗布方法
JP2736769B2 (ja) 塗布装置
JP4154628B2 (ja) 排水の容易な浸漬方法及び装置
CH653925A5 (de) Klebstoffbeschichtungsgeraet zur beschichtung von flaechigem material.
JPH02160074A (ja) 塗布装置の制御方法
DE102005025469B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen einer Materialschicht auf elektrische Komponenten
JP2521972B2 (ja) 浸漬塗布方法
DE19859864B4 (de) Vorrichtung zum unterseitigen Auftragen von Beschichtungsflüssigkeit auf ein ebenes Substrat
JP2532938Y2 (ja) 接着剤塗布装置
US2128123A (en) Bandage machine
JP2681468B2 (ja) 浸漬塗布法