PL56967B1 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: KI. 12 k, 1/26 MKP C 01 c U Opublikowano: 10.III. 1969 UKD 661. 523+ 661. 528. 622/623 Wspóltwórcy wynalazku: mgr inz. Stanislaw Aniol, dr inz. Stanislaw Bi- stron, mgr inz. Anatol Chomiakow, prof. dr inz. Stefan Pawlikowski, mgr inz. Stefan Szy- monik Wlasciciel patentu: Zaklady Azotowe im. Pawla Findera, Chorzów (Polska) Urzadzenie do otrzymywania stalego, obojetnego weglanu amonowego i Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do otrzymywania stalego obojetnego weglanu amo¬ nowego w postaci jednorodnego produktu dogod¬ nego pod wzgledem handlowym.We wszystkich dotychczas znanych i stosowa- 5 nych urzadzeniach staly obojetny weglan amo¬ nowy otrzymuje sie przez wspólreagowanie amo¬ niaku, dwutlenku wegla i wody, przy czym urza¬ dzenia te mozna sprowadzic do dwóch zasadni¬ czych typów. W urzadzeniach pierwszego typu i0 gazowy amoniak i dwutlenek wegla wprowadza sie do zamknietej przestrzeni reakcyjnej o chlo¬ dzonych przeponowo scianach, której wnetrze jest zraszane woda lub roztworem amoniaku.W urzadzeniach drugiego typu zaleca sie wpro- 15 wadzanie do przestrzeni reakcyjnej wszystkich orzech substratów to jest amoniaku, dwutlenku wegla i pary wodnej w postaci mieszaniny ga¬ zowej sporzadzonej w oddzielnym urzadzeniu i nastepnie ogrzanej w osobnym przegrzewaczu 20 do temperatury powyzej punktu zestalania sie weglanu amonowego. W wyniku kondensacji za¬ chodzacej na chlodzonych przeponowo powierzch¬ niach komory reakcyjnej uzyskuje sie produkt koncowy. Wada tego typu urzadzen jest trudnosc 25 odrywania od powierzchni komory reakcyjnej gotowego produktu. W celu wyeliminowania tych trudnosci stosuje sie reaktory zaopatrzone w ob¬ rotowe, gladkie elementy osadcze, chlodzone prze¬ ponowo woda, sluzace do osadzania produktu oraz 30 w skrobaki do ciaglego usuwania gromadzacego sie na tych elementach stalego produktu. Zasad¬ nicza wada powyzszego rozwiazania jest fakt iz uzyskuje sie weglan w postaci sypkiego, drobno- krjystalicznego i rozkladajacego sie bardzo szybko produktu.Stwierdzono, ze przez odpowiednie uksztalto¬ wanie elementów osadczych i okresowe usuwanie nagromadzonego na nich produktu mozna uzyskac lita warstwe weglanu amonowego w postaci ke¬ sów.Urzadzenie wedlug wynalazku sklada sie z zamknietego zbiornika wstepnego oraz z wlasci¬ wej komory reakcyjnej. Zbiornik wstepny zaopa¬ trzony jest na zewnatrz w plaszcz grzejny, a we¬ wnatrz posiada przewody doprowadzajace dwu¬ tlenek wegla i amoniak w postaci gazowej oraz wode w postaci cieklej, do przegrzewacza, w któ¬ rym nastepuje równoczesnie wymieszanie sub¬ stratów juz w postaci gazowej. Do zbiornika wstepnego amoniak i dwutlenek wegla wprowa¬ dza sie w stanie gazowym, a wode w postaci cieklej. Nastepnie wymieszane i przegrzane do temperatury powyzej punktu zestalania sie we¬ glanu amonowego reagenty, kondensuje sie w ko¬ morze reakcyjnej. Komora reakcyjna zaopatrzo¬ na jest w elementy osadcze, chlodzone od wew¬ natrz woda, wyksztalcone zbieznie~ku dolowi, ko¬ rzystnie w postaci klinów, stozków lub ostro¬ slupów. Elementy te sa polaczone z dzwignia 56967• 56967 umozliwiajaca nadanie im okresowego ruchu po¬ suwisto-zwrotnego w plaszczyznie pionowej w ce¬ lu zrzucenia produktu.- Urzadzenie wedlug wynalazku pokazane jest schematycznie na zalaczonych rysunkach. Fig. 1 przedstawia zbiornik 1 spelniajacy jednoczesnie role mieszalnika gazów, odparowywacza wody i przegrzewacza oraz reaktor 5 wyposazony w ele¬ menty osadcze 6. Do zbiornika 1 doprowadza sie dwutlenek wegla i amoniak przewodami 2 i 3 oraz wode przewodem 4. W zbiorniku 1 przepo¬ nowo ogrzewanym para grzejna nastepuje od¬ parowanie doprowadzonej wody oraz wymieszanie substratów. Tak przygotowana mieszanine prze¬ grzana do temperatury powyzej punktu roszenia pary wodnej i zestalania weglanu amonowego, kieruje sie do reaktora 5, w którym na gladkich, chlodzonych przeponowo, zewnetrznych powierz¬ chniach elementów osadczych 6 wyksztalconych w postaci zbieznych klinów, stozków lub ostro¬ slupów, narasta obojetny weglan amonowy w po¬ staci grubokrystalicznej, litej warstwy. Grubosc warstwy wykrystalizowanego produktu zalezy od czasu oraz intensywnosci prowadzenia procesu. Ele¬ menty osadcze 6 wprowadza sie okresowo w ruch za pomoca dzwigni nie uwidocznionej na rysunku.SiiZI CiZ?m nast^PuJe strzasanie osadzonego we¬ glanu, który opada na dno komory reakcyjnej 5.Wyprowadzenie produktu na zewnatrz komory reakcyjnej odbywa sie periodycznie po zakoncze¬ niu cyklu produkcyjnego przez otwory usytuowane w dnie komory lub w sposób ciagly w czasie pracy instalacji przy pomocy odpowiednich zna¬ nych hermetycznie dzialajacych urzadzen, na przyklad transportera slimakowego.Fig. 2 przedstawia sam element osadczy 1 a fig. 3 jego przekrój A-A. Elementy osadcze o 10 15 20 25 30 35 ksztalcie klinów zbieznych ku dolowi, sa od wew¬ natrz chlodzone woda. Dla polepszenia efektu chlodniczego posiadaja one przegrode 2 warunku¬ jaca wlasciwa cyrkulacje strumienia wody do¬ prowadzonego przewodem 3. Elementy osadcze zawieszone sa w sposób umozliwiajacy okresowe nadanie im ruchu posuwisto-zwrotnego w plasz¬ czyznie pionowej za pomoca odpowiedniej dzwig¬ ni nie uwidocznionej na rysunku. Ruch ten wy¬ woluje wspomniane odrywanie sie warstwy pro¬ duktu i jego zrzucenie na dno reaktora. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe . Urzadzenie do otrzymywania stalego, obojet¬ nego weglanu amonowego skladajace sie ze zbiornika wstepnego do przygotowania gazo¬ wych reagentów oraz reaktora wlasciwego zao¬ patrzonego w ruchome, gladkie elementy osad¬ cze chlodzone przeponowo woda, sluzace *do osadzania produktu, znamienne tym, ze posia¬ da w reaktorze elementy osadcze wyksztalcone zbieznie ku dolowi, korzystnie w postaci kli¬ nów, stozków lub ostroslupów polaczonych z dzwignia wprowadzajaca okresowo te elemen¬ ty w ruch posuwisto-zwrotny w plaszczyznie pionowej w celu zrzucenia nagromadzonego na nich produktu. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze zbiornik wstepny zaopatrzony jest na zewnatrz w plaszcz grzejny, a wewnatrz zawiera prze¬ wody doprowadzajace dwutlenek wegla i amo¬ niak w postaci gazowej oraz wode w postaci cieklej do przegrzewacza, w którym nastepuje równoczesnie wymieszanie substratów juz w postaci gazowej. Dokonano jedne] pop« aviK Fig- 4KI. 12 K, 1/26 56967 MKP C 01 c A Fig,

2. A-A PL