PL55908B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL55908B1
PL55908B1 PL120226A PL12022667A PL55908B1 PL 55908 B1 PL55908 B1 PL 55908B1 PL 120226 A PL120226 A PL 120226A PL 12022667 A PL12022667 A PL 12022667A PL 55908 B1 PL55908 B1 PL 55908B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
thickness
diode
junction
area
germanium
Prior art date
Application number
PL120226A
Other languages
English (en)
Inventor
inz. Jerzy Pultorak dr
Original Assignee
Polska Akademia Nauk
Filing date
Publication date
Application filed by Polska Akademia Nauk filed Critical Polska Akademia Nauk
Publication of PL55908B1 publication Critical patent/PL55908B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 15. X. 1968 55908 KI. 21 g, 11/02 MKP H 01 1 t/OO *- lllLIOTEKAl utffc a*h Pu*H iii mmm Twórca wynalazku: dr inz. Jerzy Pultorak Wlasciciel patentu: Polska Akademia Nauk (Instytut Technologii Elektronowej), Warszawa (Polska) Germanowa dioda warstwowa o kwadratowej zaleznosci pradu przewodzenia od napiecia Przedmiotem wynalazku jest germanowa dioda warstwowa o kwadratowej zaleznosci pradu prze¬ wodzenia od napiecia.Znane i stosowane dotychczas przyrzady pól¬ przewodnikowe o kwadratowej zaleznosci pradu przewodzenia od napiecia nie sa oparte na dzialaniu zlacza p-n. Kwadratowa zaleznosc pradu od na¬ piecia uzyskuje sie w przyrzadach, w których przeplyw pradu ograniczony jest ladunkiem prze¬ strzennym, przy czym zaleznosc ta jest sluszna tylko w pewnym zakresie charakterystyki.Wynalazek stawia sobie za cel opracowanie przy¬ rzadu pólprzewodnikowego opartego na dzialaniu zlacza p-n, w którym zaleznosc pradu przewodze¬ nia w funkcji kwadratu napiecia obejmuje co naj¬ mniej dwie dekady pradowe.Cel ten wedlug wynalazku osiagnieto przez wy¬ konanie diody z germanu o dwóch zlaczach p-n i 1-h, w której grubosc obszaru bazy musi byc wieksza od dlugosci dyfuzyjnej nosników mniej¬ szosciowych w tym obszarze, a kontakt bazy sta¬ nowi zlacze 1-h, przy czym grubosc obszaru „h" jest wieksza od odpowiadajacej mu dlugosci dy¬ fuzyjnej nosników mniejszosciowych.Germanowa dioda wedlug wynalazku zostanie objasniona blizej na podstawie rysunku.Dioda sklada sie z dwóch zlacz p-n i 1-h, przy czym zlacze 1-h spelnia role kontaktu bazy b. Gru¬ bosc W obszaru bazy b jest wieksza od dlugosci dyfuzyjnej nosników mniej szoscowych w tym 10 15 20 25 30 2 obszarze, natomiast grubosc obszaru „h" zlacza 1-h jest wieksza od odpowiadajacej mu dlugosci dyfuzyjnej nosników mniejszosciowych. Poniewaz zawsze istnieje rozrzut parametrów diody, wyni¬ kajacy z rozrzutu parametrów pólprzewodnika i innych stosowanych materialów, mozna dokonac korekty charakterystyki diod przez zmiane srednic 0 i 0Jh zlacz p-n i 1-h na drodze trawienia elek¬ trolitycznego tych zlacz. PL

Claims (1)

Zastrzezenia patentowe Germanowa dioda warstwowa o kwadratowej zaleznosci pradu przewodzenia od napiecia, za¬ wierajaca dwa zlacza p-n i
1. -h, znamienna tym, ze grubosc (W) obszaru bazy (b) jest wieksza ód dlugosci dyfuzyjnej nosników mniejszoscio¬ wych w tym obszarze, a grubosc obszaru „h" zlacza (1-h) spelniajacego role kontaktu bazy jest wieksza od odpowiadajacej mu odleglosci dyfu¬ zyjnej nosników mniejszosciowych. Germanowa dioda wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze korekcja charakterystyki pradowo-napie- ciowej uzyskiwana jest przez zmiane srednic zlacz (p-n) i (1-h). 55908KI. 21 g, 11/02 55908 MKP H 01 1 Krak 1, zam. 310 VIII. 68 400 PL
PL120226A 1967-04-26 PL55908B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL55908B1 true PL55908B1 (pl) 1968-08-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102357920B1 (ko) 전계 효과에 의해 도펀트들을 이온화하기 위한 p-n 접합 광전 소자
US10103227B2 (en) Method for manufacturing a power semiconductor device
US3018423A (en) Semiconductor device
Zhang et al. Effect of series and shunt resistance on organic-inorganic hybrid solar cells performance
US9306113B2 (en) Silicon light emitting device utilising reach-through effects
US10418506B2 (en) Light-emitting device with integrated light sensor
GB1479898A (en) Semiconductor devices comprising electroluminescent diode
PL55908B1 (pl)
US4117505A (en) Thyristor with heat sensitive switching characteristics
WO2019004988A1 (ru) Термоэлектрический генератор
Munakata On the voltage induced by an electron beam in a bulk semiconductor crystal
KR102712906B1 (ko) 비대칭 과도 전압 억제기 장치 및 형성 방법
Marchant et al. Poly (3-hexylthiophene)-zinc oxide rectifying junctions
WO2020197525A1 (ru) Полупроводниковый термоэлектрический генератор
US3215908A (en) Quantum mechanical tunneling semiconductor device
Abramyan et al. Effect of liquid dielectrics on the efficiency of silicon solar cells
US3642544A (en) Method of fabricating solid-state devices
US4107731A (en) Silicon doped with cadmium to reduce lifetime
PL48976B1 (pl)
GB1240510A (en) Improved thyristor
US3092733A (en) Four zone transistor having integral diode formed on base remote from transistor
PL57102B1 (pl)
RU2168799C1 (ru) Полупроводниковый выпрямительный диод (варианты)
US3440497A (en) Semiconductor negative resistance electroluminescent diode
EA037133B1 (ru) Термоэлектрический генератор