Opublikowano: 10.VIII.1968 55754 KI. 21 c, 2/34 MKP ** m h UKD Twórca wynalazku: mgr inz. Bartlomiej Zelechowski Wlasciciel patentu: Instytut Tele- i Radiotechniczny, Warszawa (Polska) Sposób zmiany polozenia elementów w maskownicy, przeznaczonych do naparowywania na nie cienkich warstw substancji oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób zmiany polo¬ zenia elementów w maskownicy, przeznaczonych cc naparowywania na nie cienkich warstw sub¬ stancji o róznych konturach, jak równiez urza¬ dzenie do stosowania tego sposobu.W technice nanoszenia warstw cienkich czesto zachodzi potrzeba naparowywania na tym samym elemencie kilku warstw róznych substancji o róz¬ nych konturach. W tym celu, w czasie procesu naparlowywania nalezy przesunac element napa¬ rowywany z jednej maski na inna, która posiada odmienne kontury od poprzedniej.Do tego celu, znanej dotychczas aparaturze próz¬ niowej, stosuje sie skomplikowane urzadzenia prze¬ suwajace w czasie naparowywania elementy umie¬ szczone w maskownicy. Ponadto stonowanie takich urzadzen wymaga uzycia dodatkowych próznio- szczelnych przepustów obrotowych, które moga byc zródlami nieszczelnlosci aparatury prózniowej. Ste¬ rowanie mechaniczne z zewnatrz urzadzeniami zniajdujacymi sie w wysokiej prózni jest czesto zawodne. Oprócz tego, duza ilosc elementów me¬ chanicznych umieszczonych w wysokiej prózni wplywa ujemnie na uzyskanie i utrzymanie jej.Wynalazek stawia sobie za cel usuniecie wspom¬ nianych wyzej wad produkowanych urzadzen slu¬ zacych do zmiany polozenia elementów w wyso¬ kiej prózni, a ponadto stworzenie prostego i nie¬ zawodnego sposobu oraz urzadzenia do zmiany polozenia elementów w maskownicy. Szczególnie 10 15 20 chodzi o wprowadzenie automatycznej zmiany ma¬ sek w wysokiej prózni podczas nanoszenia cien¬ kich warstw na elementy znajdujace sie na ply¬ cie wirujacej. Bardzo istotnym jest to, ze spo¬ sób ten mozna stosowac nie wprowadzajac zad¬ nych zasadniczych zmian w ogólnie dostepnej aparaturze prózniowej przeznaczonej do nanosze¬ nia warstw cienkich.Wedlug wynalazku okazalo sie, ze zmiane po¬ lozenia elemntu naparowywanego w maskownicy mozna uzyskac wykorzystujac stopniowe zwiek¬ szanie sily odsrodkowej towarzyszacej zmianie predkosci obrotów plyty wirujacej, na której u- mieszczone sa maskownice. Wykorzystujac powyz¬ sza zasade skonstruowano równiez i urzadzenie polegajace na tym, ze posiada wzdluz maski po wewnetrznej stronie korpusu sanki, które sluza do prowadzenia elementu z polozenia I w polozenie II w czasie zwiekszania predkosci wirowania plyty oraz zabezpieczajac przed rysowaniem sie elementu z naniesionymi na nie warstwami.Wynalazek zostanie objasniony blizej na pod¬ stawie rysunku, na którym fig. 1 przedstawia ogólny widok plyty wirujacej z umieszczonymi na niej maskownicami, a fig. 2 przedstawia przekrój maskownicy wzdluz osi A-A. i Na plycie 8 sa umieszczone promieniowo ma¬ skownice. Kazda z maskownic sklada sie z ma¬ ski 4 z otworami 9, 10, które przymocowane sa 55 75455 754 do korpusu 5 za pomoca ramki 6 i srub 7. Na masee 4 umieszczony jest naparowywany element 3 wraz z obudowa 2. Obudowa 2 obciazajac element naparowywany zapewnia dobre przyleganie ele¬ mentu 3 do maski 4 onaz zapobiega przesuwaniu 5 sie go podczas wirowania plyty 8, gdy odbywa sie naparowywanie w jednym ze stabilnych polozen elementu 3.Po wewnetrznej stronie korpusu 5 sa wykonane sanki 1, które sluza do prowadzenia elementu 3 10 z polozenia I w polozenie II w czasie stopniowego zwiekszania predkosci wirowania plyty 8, zabez¬ pieczaja go one jednoczesnie przed rysowaniem sie i uszkodzeniem naparowanych juz na niego warstw.Sanki 1 blokuja tez element 3 w polozeniu II za- pewndiajac jednoznaczne jego usytuowanie w ma¬ skownicy. Mozliwe jest zwielokrotnienie zmiany polozen elementu 3, co mozna latwo uzyskac wy¬ konujac kilka par sanek 1 wzdluz promienia ply¬ ty 8. Predkosc wirowania plyty 8 bylaby wtedy kilka razy zmieniana. W takim wykonaniu na ele¬ ment 3 mozna nanosic kilka warstw róznych sub¬ stancji o róznych konturach. Maska 4 moze byc równiez bezposrednio przymocowywana do ply¬ ty 8, która spelnia wtedy nole korpusu 5.Urzadzenie dziala w nastepujacy sposób. Na¬ parowywany element 3 wraz z obudowa 2 umie¬ szcza sie na masce 4 w polozeniu I. Nastepnie plycie 8, na której zamocowana jest maskownica, nadaje sie ruch wirowy o takiej predkosci aby element 3 nie mial tendencji do zmiany polozenia.Po uzyskaniu w polozeniu I warstwy napar owa- 15 20 nej o zadanej grubosci i konturach zwieksza sie w predkosc wirowania plyty 8 tak aby element 3 pod wplywem zwiekszonej sily odsrodkowej prze¬ sunal sie z polozenia I w polozenie n nad maske posiadajaca otwór o innych konturach.Wykorzystujac sposób wedlug wynalazku mozna skonstruowac inne maskownice, które pozwola na latwa zmiane polozenia naparowywanych elemen¬ tów. PL