PL50696B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano: 25.11.1966 50696 KI. 21g, 12/01 MKP H 01 j UKD ftó Wspóltwórcy wynalazku: mgr inz. Konstanty Nesteruk, mgr Elzbieta Szumlas Wlasciciel patentu: Przemyslowy Instytut Elektroniki, Warszawa (Polska) Sposób wytwarzania pastylki stanowiacej generator rteci Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia pastylki stanowiacej generator rteci, który pod¬ czas produkcji lamp elektronowych lub innych urzadzen prózniowych wzglednie napelnianych ga¬ zem obojetnym, pozwala na wprowadzenie okreslo¬ nej ilosci rteci do wnetrza lampy.W niektórych lampach prózniowych jak tez w lampach gazowanych dla ulatwienia zaplonu sto¬ suje sie pary rteci. Dozowanie czystej rteci pod¬ czas produkcji tych lamp powoduje zwykle wiele trudnosci i jest niebezpeczne dla obslugi a przy tym nie pozwala na uzyskanie wlasciwych wyni¬ ków.Dla unikniecia tych niedogodnosci stosuje sie generatory rteci wprowadzane do wnetrza balo¬ nów lamp podczas produkcji. Generator rteci skla¬ da sie z metalowego pojemnika, w którym umie¬ szcza sie odpowiednio przygotowana pastylke ze sprasowanej mieszaniny tlenku rteci, metali ak¬ tywnych w stosunku do tlenu na przyklad cyrko¬ nu lub tytanu i metali przeciwdzialajacych zbyt szybkiemu przebiegowi reakcji wydzielania rteci jak na przyklad sproszkowane zelazo. W okreslo¬ nym momencie cyklu produkcji lampy, pojemniki nagrzewa sie w celu wywolania w nich reakcji chemicznej, w wyniku której tlenek rteci zostaje zredukowany a na skutek podwyzszonej tempera¬ tury wewnatrz balonu lampy wydzielaja sie pary rteci.Pastylki o znanym skladzie wykazuja stosunko- 10 30 wo mala wytrzymalosc mechaniczna wskutek cze¬ go zdarzaja sie przypadki pekniec i odpadniecia czesci pastylki przed podgrzaniem. Pozostalosci pastylki po wydzieleniu rteci wykazuja takze nie¬ wielka wytrzymalosc mechaniczna, jest ona przy¬ czyna rozsypywania sie tych pozostalosci, które podobnie jak i czesci pastylki wykruszone przed podgrzaniem zanieczyszczaja wnetrze lampy. Po¬ woduje to pewien procent odpadu lamp podczas produkcji.Inna niedogodnoscia tego sposobu jest szybki przebieg reakcji, wskutek czego nie zawsze calko¬ wita ilosc tlenu wydzielonego z tlenku rteci zosta¬ je' zwiazana i wolny tlen moze zatruwac katode lampy.Niektórzy producenci w miejsce cyrkonu stosu¬ ja tytan, który pozwala na lagodniejszy przebieg reakcji, jednakze wydajnosc pastylek jest wów¬ czas mniejsza a poza tym sposób ten nie zabez¬ piecza przed zanieczyszczeniem wnetrza lampy czastkami pastylki.Sposób wedlug wynalazku pozwala uniknac wszystkich tych niedogodnosci. Przez dobór skladu oraz cisnienia prasowania zapewniajacego wlasci¬ wa porowatosc pastylki, mimo zastosowania cyr¬ konu, uzyskuje sie lagodny przebieg reakcji a przy tym pastylka jest trwala i pozostalosci reakcji nie zanieczyszczaja wnetrza lampy.Sklad pastylki wedlug wynalazku i sposób jej przygotowania pozwalaja na przeprowadzenie pro- 506963 50696 po odcie- cesu generacji rtaci zarówno prZed jak cm lampy od kanalu prózniowego Jak wykazaly badania, zachowanie odpowiednich Proporcji skladników oraz zastosowania nfewS kiej ilosci aluminium w skladzie pastylki p0Zwai uzyskac stosunkowo duza wytrzymalosc melha mczna pastylki zarówno przed Jak" po wydzTeleniu Stwierdzono, ze optymalne warunki uzyskuie ,i» Przy zastosowaniu do wykonania pasty" k misza S (Hreof^ ZaWieraJaCeJ °k0l° ^/. tlenku rteci (HgO), okolo 32V. cyrkonu (Zr) i okolo «•/. sproszkowanego zelaza (Fe) oraz okolo 2»/. alum nrwlie:^011 (A1X Z tak d0braneS° » «Sl nie wynneszanego materialu prasuje sie. pastylki OOoTaSH^r P°d cisni-iem "od" oS 4000 kG/cm2 do okolo 6000 kG/cm* tak 37Phv ™ okoio io°/o do okolo 15«/0.Dodatek aluminium poza wplywem na wzrost w?dXal°SCi Ul3tWia Pr°Ces kowania i™ Tek r,rzaHm° M meChaniczna wytrzymalosc pasty¬ lek przed i po wydzieleniu rteci Pastylka wykonana tym sposobem wykazuje do- zlaTna tmtl0SC mechanic^ a porowaSc po¬ zwa a na spokojny przebieg procesu wydzielania rteci, Wskutek czego pary rteci stosunkowo powoli opuszczaja wnetrze pastylki nie naruszajac j^bu dowy a po wydzieleniu par rteci pastyL nadai pozostaje trwala. W ten sposób unika sjNanl SySrL™^iampy produktami r« pastylki zarówno przed jak i po oddaniu rteci Niezbyt gwaltowny przebieg procesu re^kcj za¬ pewnia praktycznie calkowite wiazanie tlenu odda¬ li sr r;k rteci podczas «*2££* 5S; w? zatem obawa zatrucia kat°dy.Wskutek tak dobranego skladu pastylki i poro¬ watosci mozna dopuscic wyzsza niz normalnie sto¬ sowana (400 °C) temperature odgazowania wyno- laZniear£° "^ 50°°C' C0 zaPewnia wydzie¬ lanie mniejszej uosci gazów szkodliwych w proce¬ sie generacjirteci. P 10 20 25 Pastylki wykonane sposobem wedlug wynalazku oT£ejS1Dr:-POJMnnikaCh 'danych * -Su o n skiej preznosci par w temperaturze generacji z zelaza platerowanego niklem. Dla latwego wy- Sh ofworów °W°lnie r02mie™ych niewiel- Przyklad wykonania pojemnika wraz z pastylka pokazano na rysunku. W miseczce 1 nmiL, Pastylke 2 . nastepnie nakXmLLTSka°n3: wujet]d7hk0nan0 °tWOry- P*tke 3^0^: Ipr yU/r^ miSeC2ki * W dOWOlny SP°S^ 1 k RZK zg"ewanie punktowe, zapraso- wanie brzegów miseczki lub w inny sposób.Tak wykonany generator rteci przymocowuje sie do konstrukcji wewnatrz balonu lampy i podda e sie odgazowaniu w temperaturze lezacej nieco po¬ wyzej 500 °C. po czym studzi sie do ti££t£ otoczenia a nastepnie, zgodnie z UceseTZ^L 2UST' P°dgrzewa sie w dowolny sposób na przyklad przy pomocy pradów wirowych w celu nasteDZnkTniKa PW°-U w^zle^ia rteci, któ v nastepnie przebiega samoczynnie na skutek wy¬ dzielania sie ciepla reakcji. 30 35 -10 PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania pastylki stanowiacej gene¬ rator rteci, przeznaczonej do wprowadzania par rteci wewnatrz balonu lampy prózniowej lub ga¬ zowanej znamienny tym, ze do wykonania pastyl¬ ko Sf *\mie?zanine- Protów zawierajaca okolo 25% tlenku rteci (HgO), okolo 32-/. cyrkonu (Zt) ! okolo «•/. zelaza (Fe) oraz okolo 2V„ alu¬ minium w platkach (Al), która prasuje sie w p ¦ 6000klkP?lrnTiem °d 400° kG/cm2 d0 *«* 6000 kG/cm*. w ten sposób azeby porowatosc wy- oko oT;/e:HPaSlylki ^ ZaWarta W *ranica* od okolo 10Vo do okolo 15°/o. ^^ /.//////// V^yyyyxVA^'X/ ^m ws\s\\\\\vss\v zaklady Kartograficzne, Wroclaw - Zam. 756. naklad 410 egz. PL