PL46818B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL46818B1 PL46818B1 PL46818A PL4681861A PL46818B1 PL 46818 B1 PL46818 B1 PL 46818B1 PL 46818 A PL46818 A PL 46818A PL 4681861 A PL4681861 A PL 4681861A PL 46818 B1 PL46818 B1 PL 46818B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- boron
- trichloride
- boron trichloride
- hydrogen
- pure
- Prior art date
Links
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical group B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 boron halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910000497 Amalgam Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
Description
Opublikowano dnia 20 kwietnia 1963 r.POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 46818 A%A)X^ Tadeusz Niemyski Warszawa, Polska Zofia Olempska Warszawa, Polska KI. internat. C 01 b Sposób otrzymywania boru o wysokiej czystosci Patent trwa od dnia 11 grudnia 1961 Przedmiotem wynalazku jest siposób otrzy¬ mywania boru o wysokiej czystosci.Z dotychczasowych siposobów otrzymywania boru znana jest redukcja tlenku boru przy uzyciu magnezu. Metoda ta jest bardzo dluga i uciazliwa ze wzgledu na koniecznosc nastep¬ nego oczyszczania otrzymanego boru od pozo¬ stalych skladników wyjsciowych oraz tlenku magnezu. Otrzymany bor posiada czystosc tech¬ niczna.Znane jest równiez otrzymywanie boru przez rozklad termiczny borowodorów. Metoda ta jest niewygodna ze wzgledu na duza wybuchowosc borowodorów w zetknieciu z powietrzem. Me¬ toda nie znalazla zastosowania w przemysle.Inny znany sposób polega na elektrolizie stopionych soli ze zwiazkami boru. Bor osa¬ dzajacy sie na elektrodach styka sie w wy¬ sokiej temperaturze z materialem elektrod i mieszanina surowców wyjsciowych, co po¬ woduje wprowadzanie zanieczyszczen w otrzy¬ mywanym produkcie.Poza tym znany jest rozklad termiczny halo¬ genków boru z ewentualnym udzialem wodoru w luku elektrycznym. Metoda droga i niewygod¬ na, przy czym otrzymuje sie bor zanieczyszczony materialem elektrod.Znana jest równiez inna metoda oparta na rozkladzie termicznym lub redukcji wodorem halogenków boru na ogrzewanych elektrycznie do temperatury 1100—1300°C drutach oporo¬ wych, wykonanych z molibdenu, wolframu, tytanu, tantalu lub grafitu. Otrzymany bor jest zanieczyszczony skladnikami drutu oporowego, poniewaz wszystkie z wymienionych pierwiast¬ ków tworza w temperaturze reakcji trwale zwiazki z borem. Wydajnosc tej metody ze wzgledu na niska temperature redukcji jest bardzo niska rzedu okolo 40°/o. Podwyzszenie temperatury powoduje zwiekszenie zawartosci zanieczyszczen.Sposób wedlug wynalazku polega na re¬ dukcji w temperaturze 1000 — 1250°C czystego trójchlorku boru oczyszczonym wodoremw ogrzewanej z zewnatrz rurze kwarcowej.Zaleta tego sposobu w stosunku do opisanej powyzej znanej metody redukcji trójchlorku boru wodorem i osadzenie boru na drutach oporowych jest mozliwosc uzyskania wysokiej czystosci produktu oraz duzej wydajnosci reak¬ cji (50 — 60%).Trójchlorek boru w stosunku do innych halo¬ genków ma te wyzszosc, ze posiada wieksza zawartosc boru, jest mniej toksyczny i daje sie uprzednio latwo oczyscic przez destylacje frakcjonowana.W sposobie wedlug wynalazku osadzajacy sie w rurze kwarcowej bor jest czesciowo w po¬ staci polikrystalicznej o czystosci 99,99%, czes¬ ciowo jako bezpostaciowy o czystosci 99,9999°/».Analiza spektralna obu frakcji wykazala, ze bor krystaliczny zawiera zanieczyszczenia w ilosci lO-2 °/o krzemu i 10-5 tomiast bor bezpostaciowy 10~4 Vo krzemu i 10-5 % magnezu. Ze wzgledu na duza róznice tempe¬ ratur topnienia miedzy borem (2350 °C) a mag¬ nezem (651°C) i krzemem (1415°C) mozna ewen¬ tualnie dalsze oczyszczanie boru przeprowadzic metodami fizycznymi, np. przez topienie i oczy¬ szczanie strefowe.Ten sposób oczyszczania nie daje rezultatu w przypadku metody redukcji trójchlorku na drutach oporowych poniewaz pierwiastki za¬ nieczyszczajace bor i ich zwiazki z borem ma¬ ja wysokie temperatury topnienia.Zgodnie z warunkami sposobu wg wynalaz¬ ku czysty trójchlorek boru otrzymuje sie z kwasu borowego, który miesza sie z we¬ glem i nastepnie spieka w wysokiej tempera¬ turze okolo 1000 °C a nastepnie dopiero pod¬ daje chlorowaniu. Nadmienia sie, ze opisana w literaturze metoda bezposredniego chlorowa¬ nia mieszaniny boraksu z weglem jest nieko¬ rzystna z uwagi na tworzace sie w reakcji duze ilosci chlorku sodu obnizajacego wydaj¬ nosc reakcji, natomiast znana metoda chloro¬ wania tlenku boru z weglem jest uciazliwa ze wzgledu na koniecznosc uprzedniego odwodnie¬ nia kwasu borowego, zmielenia tlenku boru, który jest zwiazkiem b. twardym oraz do¬ kladnego wymieszania jego z weglem, co przy tak znacznej róznicy ciezarów obydwu skladni¬ ków jest trudne do przeprowadzenia.Wstepne otrzymywanie spieku z kwasu bo¬ rowego i wegla daje dodatkowa korzysc, po¬ niewaz porowata struktura spieku uzyskana dzieki jednoczesnemu odwadnianiu i spiekaniu P.W.H. wzór jednoraz. zam. PL/Ke, Czst. z ulatwia nastepne chlorowanie. Proces chloro¬ wania prowadzi sie gazowym chlorem w za¬ kresie stosowanych temperatur tj. 600 — 1000°C, przy czym otrzymany trójchlorek boru wykrapla sie, a nastepnie oczyszcza przez de¬ stylacje frakcjonowana.Wedlug wynalazku oczyszczanie trójchlorku boru przez destylacje frakcjonowana prowadzi sie pod normalnym cisnieniem w pomieszczeniu 0 temperaturze ponizej 0°C. W tych warun¬ kach oddestylowuje ilosciowo najpierw ewen¬ tualnie znajdujacy sie chlor, nastepnie czysta frakcja trójchlorku boru, natomiast jako nie- oddestylowane pozostaja chlorki pierwiastków zanieczyszczajacych, jak na przyklad krzemu, magnezu, zelaza, glinu, tytanu, miedzi, wapnia.Otrzymany tym sposobem trójchlorek bonu, po¬ siada minimalne zanieczyszczenia w ilosci 10-4°/o krzemu i 10-5 */o magnezu.Nadmienia sie, ze znane metody oczyszczania trójchlorku boru otrzymanego przez chlorowa¬ nie polegaja na usuwaniu chloru za pomoca rteci lub amalgamatu miedzi a nastepnie sto¬ sowanie wielokrotnej destylacji prostej lub destylacji pod próznia. Sa to procesy klo¬ potliwe, malo wydajne i kosztowne. PL
Claims (2)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób otrzymywania boru o wysokiej czy¬ stosci przez redukcje trójchlorku boru za pomoca wodoru, znamienny tym, ze do reak¬ cji stosuje sie mieszanina czystego trój¬ chlorku boru i oczyszczonego wodoru, która przepuszcza sie przez ogrzewana z ze¬ wnatrz rure kwarcowa w zakresie tempera¬ tur 1000 — 1250°C, przy czym pierwiastko¬ wy bor osadza sie w rurze kwarcowej jako bezpostaciowy i polikrystaliczny.
- 2. Sposób wedlug zastrz, 1, znamienny tym, ze jako czysty trójchlorek boru stosuje sie trójchlorek otrzymany z kwasu borowego, przez zmieszanie z weglem i wstepne spie¬ kanie w temperaturze okolo 1000°C, a na¬ stepnie poddanie dzialaniu gazowego chloru, wykroplenie trójchlorku boru i w koncu oczyszczeniu przez destylacje frakcjonowana pod normalnym cisnieniem w temperaturze otoczenia ponizej 0°C. Tadeusz Niemyski Zofia Olempska Zastepca: mgr inz. Antoni Sentek rzecznik patentowy 1 513 18.11.63 100 egz. plsm. ki. III PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL46818B1 true PL46818B1 (pl) | 1963-04-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2429026C (en) | Intermetallic compounds | |
| Nevřiva et al. | On the determination of the CuO-BaCuO2 and CuO-YCuO2. 5 binary phase diagrams | |
| NO171778B (no) | Fremgangsmaate for raffinering av silisium | |
| AU2002215106A1 (en) | Intermetallic compounds | |
| Niemyski et al. | The preparation of pure boron for semiconductor investigations | |
| US3022233A (en) | Preparation of silicon | |
| JPH10158753A (ja) | 高純度マグネシウムの製造方法及び製造装置 | |
| US4563338A (en) | Selective chlorination method for mixtures of metallic oxides of natural or synthetic origin | |
| PL46818B1 (pl) | ||
| JPS6191335A (ja) | 白金族金属を回収する方法 | |
| JP6177173B2 (ja) | 高純度ホウ素及びその製造方法 | |
| RU2722753C1 (ru) | Электрохимический способ получения микродисперсных порошков гексаборидов металлов лантаноидной группы | |
| US2619406A (en) | Method for the solid phase production of a disilicide | |
| US2957754A (en) | Method of making metal borides | |
| JP2008520532A (ja) | 元素状ハロゲン化物の製造方法 | |
| US3407031A (en) | Process for the manufacture of inorganic chlorides | |
| Nicolau | High‐purity mercuric iodide | |
| Hilal et al. | Chlorination of monazite | |
| WO2000030974A1 (en) | Process for recycling spent pot liner | |
| RU2369561C1 (ru) | Способ выделения оксидов редкоземельных элементов из шлифотходов от производства постоянных магнитов | |
| Hirsch | The preparation and properties of metallic cerium | |
| US2414294A (en) | Production of pure tellurium | |
| Laubengayer et al. | Progress in the preparation and determination of the properties of boron | |
| JP6811361B1 (ja) | クロロシラン類の製造方法 | |
| RU2497755C1 (ru) | Способ получения комплексного хлорида скандия и щелочного металла |