PL46093B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano dnia 20 wrzesnia 1962 r.|BIBL0^kM L A ,iV...am POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 46093 Instytut Chemii Ogólnej *) Warszawa, Polska KI. 12 p, 1/01 Sposób usuwania zanieczyszczen z siarczanów zasad organicznych Patent trwa od dnia 19 lipca 1960 r.Zasady organiczne pirydynowe, chinolinowe itp., zawarte w cieklych surowcach organicz¬ nych, jak w olejach otrzymanych z rektyfikacji smól weglowych, wyodrebniane sa zazwyczaj przez ekstrakcje wodnymi roztworami kwasu siarkowego, a "nastepnie przez rozkladanie otrzy¬ manych siarczanów zasad organicznych za po¬ moca amoniaku lub lugu. Dla dobrego przebie¬ gu ekstrakcji stosuje sie pewien nadmiar kwa¬ su siarkowego w stosunku do ilosci stechiame- taycznej potrzebnej do zwiazania zasad.W otrzymanych kwasnych roztworach siar¬ czanów zasad obecne sa równiez pewne ilosci innych skladników wchodzacych w sklad ekstrahowanego oleju, jak weglowodory aroma¬ tyczne, substancje o charakterze kwasnym, jak fenol i jego homologi, zwiazki amfoteryczne.Po zobojetnieniu roztworu siarczanów zasad organicznych np. amoniakiem rozpuszczone w siarczanach substancji niezasadowe przechodza w przewazajacej czesci do wydzielonej warstwy zasad, stanowiac ich zanieczyszczenie, na ogól bardzo trudne do usuniecia.*) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze twórca wynalazku jest dr Stanislaw Malanowski.W celu usuniecia z roztworu siarczanów za¬ sad, zawartych w nim szkodliwych zanieczysz¬ czen stosuje sie zazwyczaj w przemysle kokso¬ chemicznym proces tak zwanego klarowania, polegajacy na przepuszczaniu pary wodnej przez ogrzany do wrzenia roztwór. Proces ten jest dlugotrwaly (trwa zazwyczaj 3—6 dni), uciazli¬ wy i wymaga znacznych ilosci ciepla. Sposób ten prowadzi poza tym tylko czesciowo do zado¬ walajacych rezultatów, poniewaz niektóre za¬ nieczyszczenia, jaj* np. inden, kumaron, indol, polimeryzuja w czasie dlugotrwalego ogrzewa¬ nia w obecnosci kwasu siarkowego i pozostaja na powierzchni siarczanów w postaci zywic.Równiez innych, a zwlaszcza wyzej wrzacych weglowodorów aromatycznych, jak naftalen i je¬ go homologi, nie mozna na tej drodze calkowicie usunac. Niedogodnoscia tego procesu jest poza tym czesciowy rozklad zasad, zwlaszcza chino- linowych, oraz koniecznosc stosowania znaczne¬ go nadmiaru kwasu siarkowego, w celu Unik¬ niecia strat zasad oddestylowujacych z para wodna na skutek rozkladu siarczanów.Oprócz klarowania para wodna znanj jest sposób oczyszczania siarczanów niskowrzacych zasad pirydynowych otrzymanych z fcenzoto su-rowego, wzglednie z lugów posytnikowych przez dwustopniowa saturacje amoniakiem (niemiecki opis patentowy nr 720 969). Proces ten polega na dodawaniu do roztworu siarczanów zasad takiej ^ilosci amoniaku, aby wydzielily sie naj¬ pierw wszystkie zanieczyszczenia, po c^ym kla¬ rowny roztwór siarczanów powtórnie zadaje sie amoniakiem w celu wydzielenia czystych zasad pirydynowych. J Metoda ta nie daje zadowalajacych rezulta^ tów, zwlaszcza w przypadku roztworów siar¬ czanów z olejów smolowych, gdyz obecne w nich skladniki niezasadowe, jak weglowodory aro¬ matyczne, zwlaszcza wyzej wrzace, oraz fenole, ro^iuszczaja sie w pewnym stopniu w roztworze siarczanów zasad organicznych i calkowite ich wydzielenie jedynie przez wprowadzenie amo¬ niaku jest niemozliwe.Stwierdzono, ze mozna uniknac • wymienio¬ nych wad, jezeli saturacje roztworów siarcza¬ nów zasad organicznych przeprowadzi sie za pomoca silnej zasady, zwlaszcza amoniaku przy zachowaniu takiego pH srodowiska, przy którym zanieczyszczenia zawarte w roztworze wykazuja minimum rozpuszczalnosci. Wedlug wynalazku, pierwszy etap procesu prowadzi sie przez za¬ danie roztworów siarczanów zasad organicz¬ nych amoniakiem lub inna mocna zasada do wartosci pH = 3—4. W warunkach tych od¬ dzielaja sie od roztworu nie tylko skladniki niezasadowe, lecz równiez obecne, zwlaszcza w roztworach siarczanów otrzymanych z wyzej wrzacych olejów smolowych, skladniki slabo za¬ sadowe, jak indol i jego pochodne. Po zobojet¬ nieniu otrzymanego roztworu amoniakiem, pro¬ wadzi sie nastepnie ekstrakcje zanieczyszczen za pomoca odpowiednio dobranego rozpuszczal¬ nika, nie mieszajacego sie z siarczanami i latwe¬ go do usuniecia. Jako rozpuszczalnik korzystnie stosuje sie niskowrzace weglowodory, benzen i tym podobne. W czasie wstepnego zobojetnia¬ nia roztworu siarczanów zasad organicznych moze wytworzyc sie emulsja zanieczyszczen w siarczanach. W takim przypadku w celu rozbi¬ cia emulsji nalezy roztwór ogrzac do tempera¬ tury 70—80° C, a potem oddzielic warstwe za¬ nieczyszczen. Nastepnie przeprowadza sie krótkotrwala destylacje z para wodna w celu usuniecia niewielkiej ilosci latwo lotnego roz¬ puszczalnika pozostalego w warstwie siarcza¬ nowej.Otrzymany w ten sposób roztwór siarczanów zasad organicznych, wolny od zanieczyszczen, poddaje sie nastepnie dalszemu wysyceniu amo- ZG „Ruch" W-wa, zam. niakiem lub dzialaniu innej silnej zasady do pH okolo 8,5 w celu wydzielenia wolnych zasad organicznych, które przerabia sie nastepnie jedy¬ nym ze znanych sposobów.Sposób wedlug wynalazku jest szczególnie korzystny przy oczyszczaniu zasad ehinolino- wych od substancji o charakterze slabo zasado¬ wym, które dotad znanymi metodami nie daja sie usunac. -„• Przyklad. Otrzymany w wyniku ekstrak¬ cji olejów smolowych siarczan zasad chinolino- wych, po dokladnym oddzieleniu go od olejów poddaje sie zobojetnieniu za pomoca amoniaku, az do osiagniecia pH = 3—4. Do tak zobojetnio¬ nego siarczanu dodaje sie benzenu w ilosci 10% objetosciowych siarczanu i poddaje dokladnemu wymieszaniu. Gdyby ipo wymieszaniu powstala emulsja oleju w siarczanach, ogrzewa sie ja do temperatury okolo 75° C. Po rozbiciu emulsji oddziela sie warstwe siarczanów od warstwy rozpuszczonych w benzenie zanieczyszczen. Na¬ stepnie usuwa sie pozostale resztki rozpuszczal¬ nika przeprowadzajac krótkotrwala destylacje z para wodna. Tak oczyszczone siarczany pod¬ daje sie zobojetnieniu do pH okolo 8,5 w celu wydzielenia zasad chinolinowych. PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób usuwania zanieczyszczen z roztworu siarczanów zasad organicznych przez dwu¬ stopniowa saturacje za pomoca zasad nie¬ organicznych, znamienny tym, ze zanieczysz¬ czony roztwór siarczanów zasad organicz¬ nych doprowadza sie za pomoca amoniaku lub innej mocnej zasady nieorganicznej do wartosci pH = 3—4, po czym po dodaniu rozpuszczalnika organicznego i wymieszaniu oddziela sie warstwe rozpuszczalnika wraz z zawartymi w niej zanieczyszczeniami, a po¬ zostaly roztwór w celu oddzielenia resztek rozpuszczalnika poddaje krótkotrwalej desty¬ lacji z para wodna, a nastepnie alkalizuje amoniakiem lub inna mocna zasada nieor¬ ganiczna do wartosci pH okolo 6,5 w celu wydzielenia czystych zasad organicznych.
2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik do usuniecia zanieczysz¬ czen stosuje sie benzen.
3. 3. Sposób wedlug zastrz, 1, 2, znamienny tym, ze roztwór po wstepnym traktowaniu zasada i po wymieszaniu go z rozpuszczalnikiem ogrzewa sie do temperatury 70—80° C w celu rozbicia powstalej emulsji. Instytuit Chemii Ogólnej 701-62 B5 — 100 eg*. PL