PL445255A1 - Sposób wytwarzania wieloskładnikowej tarczy do rozpylania magnetronowego i zestaw narzędziowy do wytwarzania wieloskładnikowej tarczy oraz wieloskładnikowa tarcza magnetronowa i jej zastosowanie do wytwarzania powłoki ochronnej - Google Patents

Sposób wytwarzania wieloskładnikowej tarczy do rozpylania magnetronowego i zestaw narzędziowy do wytwarzania wieloskładnikowej tarczy oraz wieloskładnikowa tarcza magnetronowa i jej zastosowanie do wytwarzania powłoki ochronnej

Info

Publication number
PL445255A1
PL445255A1 PL445255A PL44525523A PL445255A1 PL 445255 A1 PL445255 A1 PL 445255A1 PL 445255 A PL445255 A PL 445255A PL 44525523 A PL44525523 A PL 44525523A PL 445255 A1 PL445255 A1 PL 445255A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
component
manufacturing
target
range
graphite
Prior art date
Application number
PL445255A
Other languages
English (en)
Inventor
Dariusz Garbiec
Maria Wiśniewska
Tomasz MOŚCICKI
Jerzy Smolik
Sławomir Polak
Original Assignee
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Poznański Instytut Technologiczny
Instytut Podstawowych Problemów Techniki Polskiej Akademii Nauk
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji
Politechnika Wrocławska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sieć Badawcza Łukasiewicz - Poznański Instytut Technologiczny, Instytut Podstawowych Problemów Techniki Polskiej Akademii Nauk, Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji, Politechnika Wrocławska filed Critical Sieć Badawcza Łukasiewicz - Poznański Instytut Technologiczny
Priority to PL445255A priority Critical patent/PL445255A1/pl
Priority to PCT/PL2023/000046 priority patent/WO2024263043A1/en
Priority to EP23789802.8A priority patent/EP4504992A1/en
Publication of PL445255A1 publication Critical patent/PL445255A1/pl

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12—Both compacting and sintering
    • B22F3/14—Both compacting and sintering simultaneously
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/3491—Manufacturing of targets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/003—Apparatus, e.g. furnaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10—Sintering only
    • B22F3/105—Sintering only by using electric current other than for infrared radiant energy, laser radiation or plasma ; by ultrasonic bonding
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
    • C04B35/5805—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on borides
    • C04B35/58064—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on borides based on refractory borides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/6261—Milling
    • C04B35/62615—High energy or reactive ball milling
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/64—Burning or sintering processes
    • C04B35/645—Pressure sintering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3485—Sputtering using pulsed power to the target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414—Targets
    • H01J37/3426—Material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3464—Operating strategies
    • H01J37/3467—Pulsed operation, e.g. HIPIMS
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10—Sintering only
    • B22F3/105—Sintering only by using electric current other than for infrared radiant energy, laser radiation or plasma ; by ultrasonic bonding
    • B22F2003/1051—Sintering only by using electric current other than for infrared radiant energy, laser radiation or plasma ; by ultrasonic bonding by electric discharge
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
    • B22F2998/10—Processes characterised by the sequence of their steps
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/38—Non-oxide ceramic constituents or additives
    • C04B2235/3804—Borides
    • C04B2235/3813—Refractory metal borides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
    • C04B2235/6562—Heating rate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
    • C04B2235/6567—Treatment time
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
    • C04B2235/6581—Total pressure below 1 atmosphere, e.g. vacuum
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/66—Specific sintering techniques, e.g. centrifugal sintering
    • C04B2235/666—Applying a current during sintering, e.g. plasma sintering [SPS], electrical resistance heating or pulse electric current sintering [PECS]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74—Physical characteristics
    • C04B2235/79—Non-stoichiometric products, e.g. perovskites (ABO3) with an A/B-ratio other than 1
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/94—Products characterised by their shape
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C1/00—Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/045—Alloys based on refractory metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C29/00—Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides
    • C22C29/14—Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on borides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

Przedmiotem zgłoszenia jest sposób wytwarzania wieloskładnikowej tarczy do rozpylania magnetronowego, który polega na tym, że proces technologiczny prowadzi się z wykorzystaniem materiałów proszkowych, których składniki dobiera się z proszków: wolframu (W), w ilości zawierającej się w przedziale od 69,9 do 84,6% mas., korzystnie 78,4% mas., boru (B) w ilości zawierającej się w przedziale od 13,5 do 24,3% mas., korzystnie 15,2% mas. i metalu przejściowego, korzystnie tytanu (Ti), w ilości zawierającej się w przedziale od 1,7 do 6,4% mas., korzystnie 6,4% mas., które miesza się w wysokoenergetycznym młynie kulowym w atmosferze gazu ochronnego, korzystnie argonu, a następnie uzyskaną mieszaninę proszków (5) zagęszcza się w skonstruowanym zestawie narzędziowym według wynalazku, umieszczonym w komorze próżniowej urządzenia do spiekania iskrowo-plazmowego (SPS), gdzie proces zagęszczania prowadzi się w temperaturze spiekania od 1600°C do 1800°C, korzystnie 1650°C, z szybkością nagrzewania od 10°C/min do 400°C/min, w czasie od 2 min do 30 min, pod ciśnieniem prasowania od 30 MPa do 50 MPa, korzystnie 32 MPa, w próżni większej niż 5x10-2 mbar, korzystnie 5x10-2 mbar, do otrzymania wieloskładnikowej kołowej tarczy magnetronowej o średnicy zawierającej się w przedziale od 80 mm do 100 mm, korzystnie 100 mm. Zgłoszenie obejmuje także zestaw narzędziowy do wytwarzania wieloskładnikowej tarczy magnetronowej w urządzeniu do spiekania iskrowo-plazmowego (SPS), który charakteryzuje się tym, że spiekalnicze narzędzia grafitowe zawierające cylindryczne stemple: dolny (1) i górny (2) tworzą z cylindryczną matrycą (3) komorę zasypową o wewnętrznej średnicy zawierającej się w przedziale od 80 do 100 mm, korzystnie 100 mm do umieszczenia mieszaniny proszków (5), ponadto całość zestawu narzędziowego ma w płaszczyźnie poziomej, centrycznie względem jego pionowej osi, kolejno ułożone elementy, gdzie: stempel dolny (1) na górnej powierzchni czołowej ma nałożoną górną przekładkę z kompozytu węglowego (ang. Carbon Fibre Reinforced Carbon, CFRC) (6) o grubości zawierającej się w przedziale od 5 do 10 mm, korzystnie 5 mm, na której osadzona jest kołowa górna przekładka grafitowa (8) o grubości zawierającej się w przedziale od 5 do 10 mm, korzystnie 5 mm, a na niej położona jest kołowa górna folia grafitowa (10) przylegająca od dołu do mieszaniny proszku (5), przykrytego od góry kołową dolną folią grafitową (11), na której kolejno umieszczone są: kołowa dolna przekładka grafitowa (9) o grubości, korzystnie 5 mm, a na niej dolna przekładka z kompozytu węglowego (CFRC) (7) o grubości korzystnie 5 mm, która styka się z dolną powierzchnią czołową górnego stempla (2), przy czym do dolnej powierzchni czołowej dolnego stempla (1) i górnej powierzchni czołowej górnego stempla (2) przylegają powierzchniami czołowymi o takich samych zewnętrznych średnicach umiejscowione współosiowo stożkowe elementy przejściowe: dolny (12) i górny (13) dopasowujące nominalną średnicę elektrod w urządzeniu SPS do nominalnej średnicy zewnętrznej stempli: dolnego (12) i górnego (13), a dodatkowo na zewnętrznych powierzchniach czołowych stożkowych elementów przejściowych (12 i 13) osiowo usytuowane są płyty z kompozytu węglowego (CFRC): dolna (14) i górna (15) o grubości zawierającej się w przedziale od 5 do 10 mm, korzystnie 10 mm, ponadto w osi pionowej zestawu narzędziowego wykonany jest centryczny otwór technologiczny przechodzący przez górną (6) i dolną (7) przekładkę z kompozytu węglowego (CFRC), dolny (1) i górny (2) stempel, dolny (12) i górny (13) stożkowy element przejściowy oraz dolną (14) i górną (15) płytę z kompozytu węglowego (CFRC), umożliwiający stały pomiar temperatury procesu zagęszczania mieszaniny proszków za pomocą pirometru, z kolei wewnętrzna powierzchnia matrycy (3) pokryta jest folią grafitową (16), natomiast dla całkowitej izolacji termicznej zewnętrzna powierzchnia matrycy (3) jest pokryta filcem grafitowym (4). Przedmiotem zgłoszenia jest też wieloskładnikowa tarcza magnetronowa oraz zastosowanie wieloskładnikowej tarczy magnetronowej.
PL445255A 2023-06-17 2023-06-17 Sposób wytwarzania wieloskładnikowej tarczy do rozpylania magnetronowego i zestaw narzędziowy do wytwarzania wieloskładnikowej tarczy oraz wieloskładnikowa tarcza magnetronowa i jej zastosowanie do wytwarzania powłoki ochronnej PL445255A1 (pl)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL445255A PL445255A1 (pl) 2023-06-17 2023-06-17 Sposób wytwarzania wieloskładnikowej tarczy do rozpylania magnetronowego i zestaw narzędziowy do wytwarzania wieloskładnikowej tarczy oraz wieloskładnikowa tarcza magnetronowa i jej zastosowanie do wytwarzania powłoki ochronnej
PCT/PL2023/000046 WO2024263043A1 (en) 2023-06-17 2023-08-31 A method for the manufacturing of a multi-component target for magnetron sputtering, a set of tools for the manufacturing of a multi-component target for magnetron sputtering, and the sputtering target with its application for the deposition of protective coating
EP23789802.8A EP4504992A1 (en) 2023-06-17 2023-08-31 A method for the manufacturing of a multi-component target for magnetron sputtering, a set of tools for the manufacturing of a multi-component target for magnetron sputtering, and the sputtering target with its application for the deposition of protective coating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL445255A PL445255A1 (pl) 2023-06-17 2023-06-17 Sposób wytwarzania wieloskładnikowej tarczy do rozpylania magnetronowego i zestaw narzędziowy do wytwarzania wieloskładnikowej tarczy oraz wieloskładnikowa tarcza magnetronowa i jej zastosowanie do wytwarzania powłoki ochronnej

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL445255A1 true PL445255A1 (pl) 2024-12-23

Family

ID=88412257

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL445255A PL445255A1 (pl) 2023-06-17 2023-06-17 Sposób wytwarzania wieloskładnikowej tarczy do rozpylania magnetronowego i zestaw narzędziowy do wytwarzania wieloskładnikowej tarczy oraz wieloskładnikowa tarcza magnetronowa i jej zastosowanie do wytwarzania powłoki ochronnej

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP4504992A1 (pl)
PL (1) PL445255A1 (pl)
WO (1) WO2024263043A1 (pl)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019183285A (ja) * 2014-10-28 2019-10-24 三井金属鉱業株式会社 円筒形セラミックススパッタリングターゲットならびにその製造装置および製造方法
CN114561569A (zh) * 2022-02-28 2022-05-31 东北大学 一种硼化钨钛基核屏蔽复合材料及其制备方法
US20220307109A1 (en) * 2020-07-15 2022-09-29 Millennitek, LLC Tungsten Tetraboride Tooling
JP2023013901A (ja) * 2021-07-15 2023-01-26 光洋應用材料科技股▲分▼有限公司 Ｆｅ－Ｐｔ－Ａｇ系ターゲット及びその製造方法
CN115725944A (zh) * 2022-12-05 2023-03-03 基迈克材料科技（苏州）有限公司 一种钨钛溅射靶材的制备方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PL211827B1 (pl) 2007-04-10 2012-06-29 Politechnika Wroclawska Sposób wytwarzania cienkich warstw TiO₂ i target tytanowy
JP2009215617A (ja) * 2008-03-11 2009-09-24 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd コバルト、クロム、および白金からなるマトリックス相と酸化物相とを含有するスパッタリングターゲット材およびその製造方法
FR2944295B1 (fr) 2009-04-10 2014-08-15 Saint Gobain Coating Solutions Cible a base de molybdene et procede d'elaboration par projection thermique d'une cible
PL221077B1 (pl) 2011-09-20 2016-02-29 Politechnika Wroclawska Sposób nanoszenia warstw w wielotargetowym układzie do rozpylania magnetronowego
PL219259B1 (pl) 2011-11-09 2015-04-30 Inst Tech Elektronowej Target do wytwarzania przezroczystych warstw półprzewodnikowych ZnIrSiO oraz sposób wytwarzania takiego targetu
PL236488B1 (pl) 2018-06-27 2021-01-25 Politechnika Warszawska Sposób wykonywania targetu oraz target
CN109234690B (zh) * 2018-11-23 2019-09-20 西安工业大学 一种含铝和硼元素的高熵合金靶材及其制备工艺
CN115731720A (zh) 2021-08-30 2023-03-03 逸驾智能科技有限公司 停车检测设备与方法
CN113735568A (zh) 2021-09-23 2021-12-03 南宁西桂微电子有限公司 一种ito陶瓷靶材的制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019183285A (ja) * 2014-10-28 2019-10-24 三井金属鉱業株式会社 円筒形セラミックススパッタリングターゲットならびにその製造装置および製造方法
US20220307109A1 (en) * 2020-07-15 2022-09-29 Millennitek, LLC Tungsten Tetraboride Tooling
JP2023013901A (ja) * 2021-07-15 2023-01-26 光洋應用材料科技股▲分▼有限公司 Ｆｅ－Ｐｔ－Ａｇ系ターゲット及びその製造方法
CN114561569A (zh) * 2022-02-28 2022-05-31 东北大学 一种硼化钨钛基核屏蔽复合材料及其制备方法
CN115725944A (zh) * 2022-12-05 2023-03-03 基迈克材料科技（苏州）有限公司 一种钨钛溅射靶材的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2024263043A1 (en) 2024-12-26
EP4504992A1 (en) 2025-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105428195B (zh) 等离子体处理装置用的部件和部件的制造方法
JP7307769B2 (ja) エッチング装置用リング状部品及びこれを用いた基板のエッチング方法
JP3155802U (ja) ウエハー載置装置
KR102622490B1 (ko) 도핑된 탄소층을 제조하기 위한 코팅원
KR20200032061A (ko) 식각장치용 링형부품 및 이를 이용한 기판의 식각방법
US4528120A (en) Refractory, electrically conductive, mixed materials containing boron nitride and process for their manufacture
JP2016003392A (ja) 傾斜機能金属セラミック複合材料、及びその製造方法
RU2561624C2 (ru) Мишень из диборида титана
Chang et al. Study of Ti-coated diamond grits prepared by spark plasma coating
Huang et al. Effect of Si3N4 content on microstructures and antioxidant properties of MoSi2/Si3N4 composite coatings on Mo substrate
PL445255A1 (pl) Sposób wytwarzania wieloskładnikowej tarczy do rozpylania magnetronowego i zestaw narzędziowy do wytwarzania wieloskładnikowej tarczy oraz wieloskładnikowa tarcza magnetronowa i jej zastosowanie do wytwarzania powłoki ochronnej
Wu et al. Fabrication and characteristics of plasma facing SiC/C functionally graded composite material
CN103882368A (zh) 一种制备二硅化钽涂层的方法
CN119035551B (zh) 一种控制板条型硬质合金烧结变形的装置及方法
CN115894033A (zh) 一种大尺寸氟化镁慢化体的制备方法
KR20210059216A (ko) Cfrp가공 툴용 텅스텐 카바이드계 소재 제조방법
TW202423575A (zh) 具有溫度梯度控制之燒結裝置
Okuni et al. Spark plasma sintering of tungsten/graphite joints with a SiC ceramic interlayer
RU183245U1 (ru) Пресс-форма
Akarachkin et al. Activation of mass transfer processes at spark plasma sintering of zirconium dioxide
Schembri et al. Understanding the Potential of U-FAST Sintering Process–An Overview
CN107557738A (zh) 一种高致密度高硬度的高纯硼靶的制造方法
Lu et al. Effects of Al2O3 content on densification, microstructure, mechanical properties and oxidation resistance of TaC-Al2O3 composites
Kitiwan et al. Densification and microstructure of monolithic TiN and TiB2 fabricated by spark plasma sintering
Chawla et al. Phase identification in reactively sintered molybdenum disilicide composites