PL444960A1 - Urządzenie do pozycjonowania magnetronowych źródeł plazmy w komorze próżniowej PVD - Google Patents

Urządzenie do pozycjonowania magnetronowych źródeł plazmy w komorze próżniowej PVD

Info

Publication number
PL444960A1
PL444960A1 PL444960A PL44496023A PL444960A1 PL 444960 A1 PL444960 A1 PL 444960A1 PL 444960 A PL444960 A PL 444960A PL 44496023 A PL44496023 A PL 44496023A PL 444960 A1 PL444960 A1 PL 444960A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
door
chamber
pvd
vacuum
positioning
Prior art date
Application number
PL444960A
Other languages
English (en)
Inventor
Jerzy Smolik
Łukasz Łożyński
Tomasz Samborski
Andrzej Zbrowski
Stanisław Kozioł
Rafał Brudnias
Original Assignee
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji filed Critical Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji
Priority to PL444960A priority Critical patent/PL444960A1/pl
Publication of PL444960A1 publication Critical patent/PL444960A1/pl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Urządzenie do pozycjonowania magnetronowych źródeł plazmy umieszczone w komorze próżniowej PVD (1) w jakiej elementy pokrywane (2) w technologii PVD są umieszczone na obrotowym uchwycie osadzonym w komorze (1) (nie są przedmiotem zgłoszenia) w jakim drzwi komory próżniowej PVD (1) zostały zastąpione drzwiami o zwiększonej głębokości (3), o głębokości 300 mm, rozumianej jako odległość od płaszczyzny przylegania drzwi do korpusu komory (1) do tylnej ściany (4) drzwi o zwiększonej głębokości (3), drzwi o zwiększonej głębokości (3) są zawieszone na zawiasach na komorze (1) i w pozycji zamkniętej przylegają szczelnie do komory PVD, tylna ściana (4) drzwi (3) zamocowana próżnioszczelnie na drzwiach (3) posiada szczelnie zamocowane dwa przepusty liniowe (12) posiadające wewnątrz ślizgowe uszczelnienia próżniowe i tuleje prowadzące, w których to przepustach umieszczone są suwliwie dwa gładkie pręty walcowe (8), które na zewnątrz drzwi (3) połączone są sztywno płytą z nakrętką (11), a wewnątrz drzwi (po stronie próżniowej) płytą nośną (7).
PL444960A 2023-05-23 2023-05-23 Urządzenie do pozycjonowania magnetronowych źródeł plazmy w komorze próżniowej PVD PL444960A1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL444960A PL444960A1 (pl) 2023-05-23 2023-05-23 Urządzenie do pozycjonowania magnetronowych źródeł plazmy w komorze próżniowej PVD

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL444960A PL444960A1 (pl) 2023-05-23 2023-05-23 Urządzenie do pozycjonowania magnetronowych źródeł plazmy w komorze próżniowej PVD

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL444960A1 true PL444960A1 (pl) 2024-11-25

Family

ID=93608986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL444960A PL444960A1 (pl) 2023-05-23 2023-05-23 Urządzenie do pozycjonowania magnetronowych źródeł plazmy w komorze próżniowej PVD

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL444960A1 (pl)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3163675B2 (ja) * 1991-09-20 2001-05-08 神鋼電機株式会社 機械式インターフェース装置
CN205556760U (zh) * 2016-03-21 2016-09-07 上海福宜真空设备有限公司 一种升降转动定位装置
CN210287478U (zh) * 2019-05-23 2020-04-10 常州市爱华真空设备有限公司 一种便于拆分清洗的镀膜机

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3163675B2 (ja) * 1991-09-20 2001-05-08 神鋼電機株式会社 機械式インターフェース装置
CN205556760U (zh) * 2016-03-21 2016-09-07 上海福宜真空设备有限公司 一种升降转动定位装置
CN210287478U (zh) * 2019-05-23 2020-04-10 常州市爱华真空设备有限公司 一种便于拆分清洗的镀膜机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN203411602U (zh) 用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备
US9771647B1 (en) Cathode assemblies and sputtering systems
JP6231399B2 (ja) 処理装置
TW200802549A (en) Vertical plasma processing apparatus for semiconductor process
TW200629360A (en) Apparatus for processing substrate
JPH05504373A (ja) 広面コーティング用の円筒状回転マグネトロン
PL444960A1 (pl) Urządzenie do pozycjonowania magnetronowych źródeł plazmy w komorze próżniowej PVD
US5538609A (en) Cathodic sputtering system
RU2014142802A (ru) Аппарат для нанесения покрытия на формные пластины для металлографической печати
JP2008069402A (ja) スパッタリング装置及びスパッタリング方法
CN207958501U (zh) 立式周向循环连续式类金刚石涂层设备
ATE395447T1 (de) Zerstäubungskatode für beschichtungsprozesse
CN110863178B (zh) 一种镀膜均匀的镀膜装置
CN202643826U (zh) 一种闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备
JP6567885B2 (ja) 管腔内ポリマー堆積装置及び方法
CN219010448U (zh) 立式pvd双面沉积硅片装载装置
JP5688468B2 (ja) 薄膜形成方法および薄膜形成装置ならびに被膜を形成した被処理物、金型および工具
US3487000A (en) Sputtering apparatus
CN106350777B (zh) 一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射装置
CN102653857A (zh) 闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备
CN211445886U (zh) 一种离子溅射装置
KR102679062B1 (ko) 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법
CN218932273U (zh) 一种多弧离子镀蒸发源磁场移动装置
CN219449847U (zh) 一种具有柱状电弧镀膜源的卧式真空镀膜器
TW200618028A (en) Bellows liner for an ion beam implanter