CN207958501U - 立式周向循环连续式类金刚石涂层设备 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 139
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 126
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 82
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 53
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 32
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 8
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 6
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 238000009987 spinning Methods 0.000 claims description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 3
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 2
- 210000004210 tooth component Anatomy 0.000 claims description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 27
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 8
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 208000002925 dental caries Diseases 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
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Abstract
本实用新型涉及一种立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，包括主腔室、进料腔室及进料口开合系统、类金刚石涂层工艺子腔室及类金刚石涂层工艺组件、转架系统、腔室升降系统、真空系统及真空管道，真空系统将主腔室、进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室通过各自独立的真空管道进行真空处理，进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，类金刚石涂层工艺组件侧向安装于各类金刚石涂层工艺子腔室，并通过可收缩的波纹管道连接于真空室外。转架系统包括转盘、双转盘转动机构、转盘转动机构驱动转盘公转或定点自转，将工件在进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室之间传递及镀膜，实现周向快速连续式类金刚石涂层制备。
Description
技术领域
本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种立式周向循环连续式类金刚石涂层设备。
背景技术
类金刚石薄膜(Diamond-like carbon film)由于具有许多优异的物理、化学性能，如高硬度、低摩擦系数、优良的耐磨性、高介电常数、高击穿电压、宽带隙、化学惰性和生物相容性等。经过多年的发展，DLC薄膜在很多领域的应用也已进入实用和工业化生产阶段。
现有技术中的类金刚石涂层制备装置主要为单体式镀膜机，单体式镀膜机通常是有一个真空腔体及抽气系统组成，真空镀膜工艺模块装载在腔体不同位置上，在达到所需真空度时，按顺序启用所需真空镀膜工艺模块，来实现材料表面的加工，单一腔体导致产品进出料时需要开关门，不能对产品进行连续生产，这会大大降低生产效率，增大人工成本，而且生产的不连续性造成实际生产中的产品差异性增大，一定程度上会影响产品质量。同时单体式镀膜转架在腔体内公转，转架往往比较大，等离子体在整个镀膜空间的分布极其不均匀，真正镀膜时间短，镀膜等待时间过长，严重影响产品质量，镀膜效率低。
而自动连续式真空镀膜设备是多个独立的镀膜腔的真空镀膜装置，具有连续不间断生产、工艺稳定、生产节拍短的特点，目前大量应用于工业生产。连续式真空镀膜设备可以大大提高生产的自动化程度，提高生产效率，提高良品率。
但是连续式真空镀膜设备结构复杂，多个独立的镀膜腔需要配置多个高真空泵组，大量闸门的使用，增加了生产成本、生产时间、生产空间，复杂的设备增加了待镀工件传动的难度，多个腔体的存在也使增加了生产过程中故障维修的难度和成本，连续式镀膜设备的高门槛大大提高了企业的使用成本；此外，现有的连续式真空镀膜设备对于一些多面、异形的产品(如铣刀、汽车耐磨关键零部件)设计能够实现自转的特种镀膜设备时，受真空门阀高成本及大型翻板阀或插板阀难加工、传动过程的复杂、生产成本的限制，很难设计生产出能够实用的量产机。目前尚未有连续式类金刚石涂层设备。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种在一个真空腔内实现对产品连续式镀膜生产的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备。
为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：包括主腔室、进料腔室及进料口开合系统、类金刚石涂层工艺子腔室及类金刚石涂层工艺组件、可定点自转的转架系统、真空系统及真空管道，真空系统将主腔室、进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室通过各自独立的真空管道进行真空处理，进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室的真空管道通过波纹管连接于主腔室及真空系统，进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室通过气动升降机构驱动进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室升降，将进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，类金刚石涂层工艺组件侧向安装于各类金刚石涂层工艺子腔室，并通过可收缩的波纹管道连接于真空室外,类金刚石涂层工艺组件依次为离子清洗模块、过渡涂层模块、沉积类金刚石涂层模块,转架系统包括转盘、双转盘转动机构、转盘转动机构驱动转盘公转或定点自转，将待镀工件在进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室之间传递及定点自转镀膜。
本发明进一步设置为：转盘转动机构驱动转盘水平转动设置于主腔室内，所述的进料腔室及两个以上类金刚石涂层工艺子腔室位于转盘上方并沿转盘周向等距排布，所述的进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室底部设置有朝向转盘的密封口，所述的气动升降机构驱动进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室升降，所述的进料腔室与转盘接触时将密封口封闭，并构成进料腔室，所述的类金刚石涂层工艺子腔室与转盘接触时将密封口封闭，并构成类金刚石涂层工艺腔室，所述的转盘上方用于放置待镀工件，并将待镀工件在进料腔室及各类金刚石涂层工艺腔室之间传递，所述的进料口开合系统设置有将待镀工件从外界直接放入进料腔室的联通密封机构，所述的类金刚石涂层工艺组件可拆卸的安装于类金刚石涂层工艺子腔室且各类金刚石涂层工艺组件的功能不同，所述的进料腔室设置有独立的真空管道连接于真空系统，将进料腔室真空处理或恢复大气压,所述的类金刚石涂层工艺子腔室设置有独立的真空管道连接于真空系统，形成稳定类金刚石涂层工艺腔室工作气压的工艺真空系统。
本发明进一步设置为：所述的联通密封机构包括基部、伸缩波纹管及联通口，所述的进料腔室设置有联通口，所述的基部为环形构件并贯穿于主腔室的腔室壁，所述的基部位于腔室外侧的端部设置有密封门板，所述的伸缩波纹管一端固定于基部位于腔室内侧的端部，另一端与联通口相对应，所述的基部设置有驱动伸缩波纹管与联通口相对应的端部密封贴合联通口或远离联通口的伸缩机构。
本发明进一步设置为：所述的真空系统包括真空波纹管及放气波纹管，所述的真空波纹管一端延伸至进料腔室并与进料腔室联通，另一端延伸至主腔室壁并设置有调节口，所述的调节口设置有外接抽气系统，所述的外接抽气系统对进料腔室进行真空处理，所述的放气波纹管一端延伸至进料腔室并与进料腔室联通，另一端延伸至主腔室壁并设置有放气口，所述的放气口设置有放气机构。
本发明进一步设置为：所述的转盘分别与进料腔室及各类金刚石涂层工艺腔室对应设置有安装待镀工件且具有自转功能的挂具组件。
本发明进一步设置为：各所述的挂具组件底部设置有与转盘转动配合的转轴，所述的主腔室设置有与转盘同轴转动的自转齿盘及驱动自转齿盘转动的自转电机，各所述的转轴外周设置有与自转齿盘相啮合的齿形部件。
本发明进一步设置为：所述的类金刚石涂层工艺组件依次为离子清洗模块、过渡涂层模块、类金刚石涂层模块。
本发明进一步设置为：所述的过渡涂层模块包括磁控溅射模块、多弧离子镀模块及其他沉积金属及金属化合物的物理气相沉积模块。
本发明进一步设置为：所述的类金刚石涂层模块包括等离子辅助化学气相沉积(PECVD)碳粒子模块及弧光电子流激发等离子体活化的等离子增强化学气相沉积 (PACVD)模块及其他高能离化沉积的碳粒子源。
与现有技术相比，具有如下实质性区别和显著性进步：
1)在一台单腔真空设备中可以连续不间断类金刚石涂层镀膜加工。
2)设备简单，没有使用闸门控制真空，降低了机械加工难度，降低了设备成本及维护成本。
3)设备通过转盘的公转来实现类金刚石涂层工艺腔室的更换，大大缩短了生产节拍时间、操作简单，提高了生产效率。
4)设备镀膜组件可换性强，可对待镀工件进行多种工艺的加工。
5)设备真空维持方式简单，可在同一节拍中实现不同工艺的同时使用。
6)设备通过自转齿盘配合自转电机的自转传动，可以实现挂具组件的自转，从而实现异形、多面的产品的连续化生产。
总之，本发明所提供的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，不仅可在一个真空室内实现工件涂层的连续不间断生产，对同一批次工件进行多种工艺的复合加工而且可以实现多面、异形产品的连续式生产；单腔连续式设备的简单实用化，可以大大降低设备的成本，提高生产效率，降低生产成本。
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步描述。
附图说明
图1为本发明具体实施方式的结构示意图；
图2为图1中A的放大图；
图3为图1中B的放大图；
图4为本发明具体实施方式中主腔室的结构示意图；
图5为本发明具体实施方式中上顶板的俯视图；
图6为本发明具体实施方式中气动升降机构的结构示意图；
图7为本发明具体实施方式中进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室的结构示意图；
图8为本发明具体实施方式中自转齿盘及公转齿盘的传动示意图；
图9为本发明具体实施方式的起始进料循环示意图；
图10为本发明具体实施方式的循环进料工作示意图。
具体实施方式
为便于描述，本发明中，对真空装置真空的获得与恢复大气进行简要阐述。
真空装置是用结构金属碳钢、不锈钢等焊接装配而成，为获得所需要的真空度，需要对真空装置装载抽气系统，一般抽气系统分为两部分：粗抽系统、精抽系统，粗抽系统一般包括大抽速的机械泵、罗茨泵、由气缸及电磁阀控制的前级阀组成，精抽系统包括一套或多套高真空抽气泵及高真空泵的前级泵组；真空获得的过程是：启动粗抽系统的泵组及前级阀对真空装置进行抽气，待达到一定真空度时，使用精抽系统对真空装置进行进一步的抽气，直至达到所需要的本底真空；真空装置的恢复大气过程就是启动设备上装配的放气阀，通入空气或保护气，使得真空装置恢复到标准大气压。
本发明中用到的真空系统的粗抽系统部分没有画出，外接抽气系统的精抽系统(分子泵)及进料腔室的粗抽系统、多组类金刚石涂层工艺子腔室共用的粗抽系统没有画出，为使得该发明能够高效优质的产出，下列说明中高真空抽气泵配置了分子泵及低温泵。
如图1所示，本发明公开了一种立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，包括主腔室1、进料腔室5及进料口开合系统12、类金刚石涂层工艺子腔室6及类金刚石涂层工艺组件3、可定点自转的转架系统4、真空系统2及真空管道53，真空系统2将主腔室1、进料腔室5及类金刚石涂层工艺子腔室6通过各自独立的真空管道13进行真空处理，进料腔室 5及类金刚石涂层工艺子腔室6的真空管道通过波纹管53连接于主腔室及真空系统5，进料腔室5及类金刚石涂层工艺子腔室6通过气动升降机构52驱动进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室升降，将进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，类金刚石涂层工艺组件3侧向安装于各类金刚石涂层工艺子腔室6，并通过可收缩的波纹管道58连接于真空室外。类金刚石涂层工艺组件3为磁控溅射模块、多弧离子镀模块、离子清洗模块、离子辅助化学气相沉积模块及化学气相沉积模块的其中一种，实现不同的镀膜功能。转架系统包括转盘4、双转盘转动机构41、转盘转动机构驱动转盘公转或定点自转，将待镀工件在进料腔室5及类金刚石涂层工艺腔室6之间传递及定点自转镀膜。
转盘转动机构41驱动转盘4水平转动设置于主腔室11内，进料腔室5及两个以上类金刚石涂层工艺子腔室6位于转盘4上方并沿转盘4周向等距排布，进料腔室5及类金刚石涂层工艺子腔室6底部设置有朝向转盘4的密封口，气动升降机构52驱动进料腔室5及类金刚石涂层工艺子腔室6升降，进料腔室5与转盘4接触时将密封口封闭，并构成进料腔室 51，类金刚石涂层工艺子腔室6与转盘4接触时将密封口封闭，并构成类金刚石涂层工艺腔室61，转盘4上方用于放置待镀工件，并将待镀工件在进料腔室及各类金刚石涂层工艺腔室之间传递，进料口12设置有将待镀工件从外界直接放入进料腔室51的联通密封机构，类金刚石涂层工艺组件3可拆卸的安装于类金刚石涂层工艺子腔室6且各类金刚石涂层工艺组件3的功能不同，进料腔室5设置有将进料腔室51真空处理或恢复大气压的真空系统，类金刚石涂层工艺子腔室6设置有稳定类金刚石涂层工艺腔室61工作气压的工艺真空系统。
真空系统包括真空波纹管53及放气波纹管58，真空波纹管53一端延伸至进料腔室1并与进料腔室51联通，另一端延伸至主腔室1壁并设置有调节口13，调节口13设置有外接抽气系统，外接抽气系统对进料腔室进行真空处理，放气波纹管58一端延伸至进料腔室 5并与进料腔室51联通，另一端延伸至主腔室1壁并设置有放气口19，放气口19设置有放气机构，放气机构及外接抽气系统为现有外接构件，未在附图中表示不影响结构理解，工艺真空系统与真空系统的结构相同。
转盘4分别与进料腔室51及各类金刚石涂层工艺腔室61对应设置有安装待镀工件且具有自转功能的挂具组件41，增设挂具组件，使待镀工件能够稳定安装于转盘4，不会因转盘4的转动而移位，保证加工效果，挂具组件一般选用载物转夹杆。
类金刚石涂层工艺组件3依次为离子清洗模块、磁控溅射模块、离子辅助化学气相沉积类金刚石涂层模块，上述模块具为现有模块，与工艺腔室61组合实现不同的功能。其中：过渡涂层模块包括磁控溅射模块、多弧离子镀模块及其他沉积金属及金属化合物的物理气相沉积模块；类金刚石涂层模块包括等离子辅助化学气相沉积(PECVD)碳粒子模块及弧光电子流激发等离子体活化的等离子增强化学气相沉积(PACVD)模块及其他高能离化沉积的碳粒子源。
如图2所示，联通密封机构包括基部121、伸缩波纹管122及联通口54，进料腔室5设置有联通口54，基部121为环形构件并贯穿于主腔室1的腔室壁，基部121位于腔室外侧的端部设置有密封门板123，伸缩波纹管122一端固定于基部121位于腔室内侧的端部，另一端与联通口54相对应，基部121设置有驱动伸缩波纹管122与联通口54相对应的端部密封贴合联通口54或远离联通口54的伸缩机构，伸缩机构为安装于主腔室1的腔室壁的伸缩气缸123，伸缩波纹管122与联通口54相对应的端部外周设置有联动环1221，伸缩气缸 123与联动环1221联动设置以实现伸缩波纹管122端部的移动。
如图3和图8所示，各挂具组件41底部设置有与转盘4转动配合的转轴42，主腔室 1设置有与转盘4同轴转动的自转齿盘14及驱动自转齿盘转动的自转电机141，各转轴42 外周设置有与自转齿盘14相啮合的齿形部421，转盘转动机构41包括公转齿盘411、公转电机412、公转传动齿413及联动杆414，公转齿盘411与转盘4同轴并转动设置于底板 17，联动杆414穿设于公转齿盘411与转盘4之间构成两者的同步转动，公转电机412驱动公转传动齿413转动，公转传动齿413与公转齿盘411相啮合。
如图4至5所示，主腔室1由上顶板15、腹板16、底板17通过螺栓紧固形成一个主腔室11，在腹板16上组装焊接有位于进料口12的基部121，支撑底座18通过螺栓固定在底板17上，其中上顶板15上需组装焊接加工外接水电接口151、气缸轴安装位152、主分子泵153及真空腔室抽气口154。
如6所示，气动升降机构52优选升降气缸，升降气缸包括升降轴固定套521、升降轴522、轴密封固定套523、气缸固定套524、气缸固定座525，升降轴522通过升降轴固定套521装配在进料腔室5或类金刚石涂层工艺子腔室6上，升降轴522通过轴密封固定套 523相对主腔室11的上顶板15伸缩，升降气缸与升降轴522通过螺纹装配连接，升降气缸通过气缸固定套524及气缸固定座525固定在主腔室11的上顶板15上，升降气缸的升降来控制进料腔室5或类金刚石涂层工艺子腔室6的位置。
如图7所示，进料腔室5及类金刚石涂层工艺子腔室6由密封板55连为一体，同步上升下降，密封板55设置有安装用法兰56，类金刚石涂层工艺子腔室6的数量可按需设置，在本发明实施方式中优选三个，配合一个进料腔室5，以90°的夹角排布于转盘4上方，排布方式如图，进料腔室5还设置有用于安装子放气机构58的外接口57，进料腔室5 的外接口57还可外接其他机构，可外接的机构包括冷却水管路、加热装置、外接电接头、真空测量接口、真空放气阀接口中的一种或多种，各类金刚石涂层工艺子腔室6外侧分别设置有类金刚石涂层工艺组件3，进料腔室5外侧设置有联通口54。
如图9所示，根据生产工艺要求，更换各类金刚石涂层工艺腔室61的类金刚石涂层工艺组件3，装配完成后，控制升降气缸，调节进料腔室5和类金刚石涂层工艺子腔室6到上升位置，关闭联通密封机构的密封门板123，此时整个装置为一个真空室，分别按照操作流程启动装配在上顶板15的主真空系统2，即主分子泵153，启动调节口13的外接抽气系统，即低温泵及前级泵组，待整个主腔室11真空度达到一定的真空时，控制升降气缸，使得进料腔室5和类金刚石涂层工艺子腔室6与转盘贴合形成四个相互独立的真空小腔体，伸缩机构驱动伸缩波纹管12贴合联通口54，即进料腔室51和类金刚石涂层工艺腔室61，关闭顶板15和调节口13的各真空机构，打开在密封板55的放气口的放气机构，恢复大气压，打开密封门板123，将挂有产品A组的挂具放在位于进料腔室a101的载物转夹杆上，关闭密封门板123，重新启动调节口13的外接抽气系统，控制升降气缸，调节进料腔室5 和类金刚石涂层工艺子腔室6到上升位置，伸缩机构驱动伸缩波纹管122远离联通口54，启动转盘4转动，使挂有产品A组的挂具转到类金刚石涂层工艺腔室转到类金刚石涂层工艺腔室a102的位置后转盘停止转动，使挂有产品B的的挂具放在位于进料腔室a101的载物转夹杆上，重复上述动作，挂有产品A组的挂具会经过类金刚石涂层工艺腔室b103、类金刚石涂层工艺腔室c104、被各类金刚石涂层工艺腔室的不同功能的类金刚石涂层工艺组件3 逐步处理，最后从进料腔室a101被取出，完成所有加工，如图10所示，在连续式生产过程中，每个进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室同时同步加工，提高生产效率。
下面以立式周向循环连续式类金刚石涂层设备制备类金刚石涂层为例，对该立式周向循环连续式类金刚石涂层设备进行说明。
实施例一
如图9所示，立式周向循环连续式类金刚石涂层设备中的类金刚石涂层镀膜组件分别为工艺腔室a102为离子清洗模块，工艺腔室b103为过渡涂层模块，工艺腔室c104为类金刚石涂层模块。
本实施例中工艺腔室a102装配的为阳极层离子源，工艺腔室b103为磁控溅射金属铬阴极，工艺腔室c104为阳极层离子源。
下面对某一待镀工件A在立式周向循环连续式类金刚石涂层设备的工艺过程通过表1 进行说明，连续式生产过程如上述基本实施过程所述。
表1
实施例二
如图9所示，立式周向循环连续式类金刚石涂层设备中的类金刚石涂层镀膜组件分别为工艺腔室a102为离子清洗模块，工艺腔室b103为过渡涂层模块，工艺腔室c104为类金刚石涂层模块。
本实施例中工艺腔室a102装配的为阳极层离子源，工艺腔室b103为多弧离子铬阴极，工艺腔室c104为弧光电子流激发的多弧离子铬阴极装置。
说明：工艺腔室c104装配的弧光电子流激发的多弧离子铬阴极装置为多弧离子铬阴极装置并增加了一套悬浮电位的过滤纱网及一个水冷阳极。
下面对某一待镀工件A在立式周向循环连续式类金刚石涂层设备的工艺过程通过表2 进行说明，连续式生产过程如上述基本实施过程所述。
表2
Claims (9)
1.一种立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：包括主腔室、进料腔室及进料口开合系统、类金刚石涂层工艺子腔室及类金刚石涂层工艺组件、可定点自转的转架系统、真空系统及真空管道，真空系统将主腔室、进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室通过各自独立的真空管道进行真空处理，进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室的真空管道通过波纹管连接于主腔室及真空系统，进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室通过气动升降机构驱动进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室升降，将进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，类金刚石涂层工艺组件侧向安装于各类金刚石涂层工艺子腔室，并通过可收缩的波纹管道连接于真空室外,类金刚石涂层工艺组件依次为离子清洗模块、过渡涂层模块、沉积类金刚石涂层模块,转架系统包括转盘、双转盘转动机构、转盘转动机构驱动转盘公转或定点自转，将待镀工件在进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室之间传递及定点自转镀膜。
2.根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：转盘转动机构驱动转盘水平转动设置于主腔室内，所述的进料腔室及两个以上类金刚石涂层工艺子腔室位于转盘上方并沿转盘周向等距排布，所述的进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室底部设置有朝向转盘的密封口，所述的气动升降机构驱动进料腔室及类金刚石涂层工艺子腔室升降，所述的进料腔室与转盘接触时将密封口封闭，并构成进料腔室，所述的类金刚石涂层工艺子腔室与转盘接触时将密封口封闭，并构成类金刚石涂层工艺腔室，所述的转盘上方用于放置待镀工件，并将待镀工件在进料腔室及各类金刚石涂层工艺腔室之间传递，所述的进料口开合系统设置有将待镀工件从外界直接放入进料腔室的联通密封机构，所述的类金刚石涂层工艺组件可拆卸的安装于类金刚石涂层工艺子腔室且各类金刚石涂层工艺组件的功能不同，所述的进料腔室设置有独立的真空管道连接于真空系统，将进料腔室真空处理或恢复大气压,所述的类金刚石涂层工艺子腔室设置有独立的真空管道连接于真空系统，形成稳定类金刚石涂层工艺腔室工作气压的工艺真空系统。
3.根据权利要求书2所述的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：所述的联通密封机构包括基部、伸缩波纹管及联通口，所述的进料腔室设置有联通口，所述的基部为环形构件并贯穿于主腔室的腔室壁，所述的基部位于腔室外侧的端部设置有密封门板，所述的伸缩波纹管一端固定于基部位于腔室内侧的端部，另一端与联通口相对应，所述的基部设置有驱动伸缩波纹管与联通口相对应的端部密封贴合联通口或远离联通口的伸缩机构。
4.根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：所述的真空系统包括真空波纹管及放气波纹管，所述的真空波纹管一端延伸至进料腔室并与进料腔室联通，另一端延伸至主腔室壁并设置有调节口，所述的调节口设置有外接抽气系统，所述的外接抽气系统对进料腔室进行真空处理，所述的放气波纹管一端延伸至进料腔室并与进料腔室联通，另一端延伸至主腔室壁并设置有放气口，所述的放气口设置有放气机构。
5.根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：所述的转盘分别与进料腔室及各类金刚石涂层工艺腔室对应设置有安装待镀工件且具有自转功能的挂具组件。
6.根据权利要求书5所述的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：各所述的挂具组件底部设置有与转盘转动配合的转轴，所述的主腔室设置有与转盘同轴转动的自转齿盘及驱动自转齿盘转动的自转电机，各所述的转轴外周设置有与自转齿盘相啮合的齿形部件。
7.根据权利要求书1所述的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：所述的类金刚石涂层工艺组件依次为离子清洗模块、过渡涂层模块、类金刚石涂层模块。
8.根据权利要求书6所述的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：所述的过渡涂层模块包括磁控溅射模块、多弧离子镀模块及其他沉积金属及金属化合物的物理气相沉积模块。
9.根据权利要求书6所述的立式周向循环连续式类金刚石涂层设备，其特征在于：所述的类金刚石涂层模块包括等离子辅助化学气相沉积(PECVD)碳粒子模块及弧光电子流激发等离子体活化的等离子增强化学气相沉积(PACVD)模块及其他高能离化沉积的碳粒子源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201820034800.9U CN207958501U (zh) | 2018-01-09 | 2018-01-09 | 立式周向循环连续式类金刚石涂层设备 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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| CN207958501U true CN207958501U (zh) | 2018-10-12 |
Family
ID=63732658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201820034800.9U Expired - Fee Related CN207958501U (zh) | 2018-01-09 | 2018-01-09 | 立式周向循环连续式类金刚石涂层设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN207958501U (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110904429A (zh) * | 2019-12-04 | 2020-03-24 | 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 | 镀膜装置的镀膜系统 |
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| WO2022206386A1 (zh) * | 2021-04-01 | 2022-10-06 | 杭州星河材料科技有限公司 | 一种高通量热蒸发薄膜制备装置及其应用 |
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