PL44302B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL44302B1 PL44302B1 PL44302A PL4430260A PL44302B1 PL 44302 B1 PL44302 B1 PL 44302B1 PL 44302 A PL44302 A PL 44302A PL 4430260 A PL4430260 A PL 4430260A PL 44302 B1 PL44302 B1 PL 44302B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- printing
- polyamide
- dried
- plates
- solution
- Prior art date
Links
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 6
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 claims description 3
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Natural products CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 2
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
Opublikowano dnia 27 lutego 1961 r. jy £ V **.**. O. Crr-rr- POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 44302 KI. 57 d, 5/01 Zjednoczenie Przemyslu Graficznego (Centralne Laboratorium Poligraficzne)*) Warszawa, Polska Sposób wytwarzania form drukarskich do druku wypuklego Patent trwa od dnia 9 kwietnia 1960 r.Dotychczas formy drukarskie do druku wy¬ puklego, tak zwane klisze chemigraficzne sa wykonywane z metalu, przewaznie z cynku.Otrzymuje sie je przez pokrywanie powierzchni plyty cynkowej warstwa roztworu zwiazku wielkoczasteczkowego, na przyklad zelatyny, dekstryny, alkoholu poliwinylowego, uczulone¬ go na dzialanie swiatla dodatkiem sensibiliza- tora, na przyklad dwuchromianu amonu. Tak przygotowana plyte naswietla sie poprzez ne¬ gatyw rastrowy, w wyniku czego w warstwie pokrywajacej cynk powstaje obraz utajony.Nastepnie plyte poddaje sie wywolywaniu wo¬ da, która wymywa koloid w miejscach nie na¬ swietlonych, odslaniajac powierzchnie * metalu.Po poddaniu plyty procesowi zagarbowania i wypalenia cynk w miejscach nie drukuja¬ cych, to jest nie pokrytych koloidem, trawi sie *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze wspól¬ twórcami wynalazku sa inz. Jan Dorocinski, inz.Adaim Wolski, inz. Wladyslaw Czternastek i inz.Teodor Polasik. roztworem kwasu azotowego. Wytrawienie na zadana glebokosc uzyskuje sie dopiero po sze¬ sciu kolejnych operacjach trawienia. Nie moz¬ na tu ograniczyc sie do jednej, dlugotrwalej operacji trawienia, gdyz nastapiloby wtedy tak zwane podtrawienie punktu. Kazde z szesciu kolejnych trawien poprzedzone jest pokrywa¬ niem plyty farba drukarska, zapyleniem jej ka¬ lafonia, tak zwanym skurzeniem, wtopieniem, zasypaniem asfaltem i ponownym skurzeniem i stopieniem. W ten sposób, aby otrzymac klisze chemigraficzna nalezy przeprowadzic szesc tra¬ wien, z których kazde wymaga osmiu operacji, co daje razem 48 operacji oraz 8 operacji zwia¬ zanych z kopiowaniem.Nalezy dodac, ze znane formy drukarskie z róznych tworzyw otrzymywane sa w soosób posredni, to znaczy najpierw wykonuje sie nor¬ malna klisze cynkowa, nastepnie obraz nanie¬ siony na te klisze przetlacza sie na matryce z tworzywa termoutwardzalnego, w wyniku czego uzyskuje sie obraz negatywny, po czym obraz z matrycy przetlacza sie ponownie nawlasciwa klisze, drukarska z twerzywa termo¬ plastycznego.Znane sposoby wytwarzania form drukar¬ skich do dr^ku wypuklej* sa wiec skompliko¬ wane, "uciazliwe i cbugotrwale, a przy tym wy¬ trzymalosc w druku tak przygotowanych form jest niewielka, gdyz ulegaja one szybko sciera¬ niu.Wynalazek pozwala na usuniecie tych wad przez zastosowanie jako tworzywa do wyrobu form drukarskich do druku wypuklego nie me¬ talu, lecz poliamidów, zwlaszcza kopolimerów poliamidu 66 z poliamidem 6 lub polimerów zmodyfikowanych^ jak równiez przez zastapie¬ nie operacji kopiowania i wielokrotnego tra¬ wienia przez jedna tylko operacje wywolania w glab, dzieki której uzyskuje sie od razu obraz punktowy odpowiedniej glebokosci.Zgodnie z wynalazkiem forme do druku wy¬ puklego wytwarza sie w ten sposób, ze plyte lub folie z poliamidu, zwlaszcza z kopolimerów poliamidu 66 z poliamidem 6 lub z polimerów modyfikowanych, uczula sie przez zanurzenie na krótki czas, przewaznie od jednej do kilku¬ nastu minut, w roztworze zwiazku sensibilizu- jacego, na przyklad w roztworze dwuchromia¬ nu metali alkalicznych lub amonu, zwiazków zelaza lub organicznych zwiazków dwuazonio- wycn, nastepnie suszy i naswietla przes nega¬ tyw rastrowy oraz wywoluje rozpuszczalnikiem organicznym, na przyklad alkoholem etylowym lub metylowym, który wymywa poliamid z miejsc nie naswietlonych. Po wysuszeniu ply¬ ta gotowa jest do druku.Stezenie zwiazków sensibilizujacych moze sie wahac w dosc szerokich granicach, na przy¬ klad od 1 do 20% wagowych. Czas naswietlania przez negatyw rastrowy zalezy od rodzaju i si¬ ly zródla swiatla i przy uzyciu lampy lukowej wynosi okolo 8 minut Suszenie przebiega do¬ statecznie szybko w zwykej temperaturze.Przygotowanie formy drukarskiej sposobem wedlug wynalazku trwa wielokrotnie krócej, niz w przypadku sposobów znanych, same zas formy poliamidowa dzieki malej scieralnosci, sa znacznie bardziej trwale w druku w porów¬ naniu z formami metalowymi. - PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania form drukarskich do druku wypuklego, znamienny tym, ze plyte lub folie z poliamidów, zwlaszcza z kopolimerów poliamidu 66 z poliamidem 6 iulb z polimerów modyfikowanych, uczula sde na dzialanie swia¬ tla przez zanurzenie na okres od 1 do 20 minut w roztworze zwiazku sensibilizujacego, na przy¬ klad w roztworze dwuchromianu metali alka¬ licznych lub amonu, zwiazków zelaza, wzgled¬ nie organicznych zwiazków dwuazoniowych, po czym suszy sie i naswietla poprzez negatyw rastrowy, a nastepnie wywoluje rozpuszczalni¬ kiem organicznym, na przyklad alkoholem ety¬ lowym lub metylowym i suszy. Zjednoczenie Przemyslu Graficznego (Centralne Laboratorium Poligraficzne) Zastepca: mgr inz. Jerzy Hanke rzecznik patentowy 25. RSW „Prasa", Kielce. PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL44302B1 true PL44302B1 (pl) | 1961-02-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2902412C2 (de) | Photopolymerisierbares elastomeres Gemisch | |
| DE2327513C3 (de) | Lichtempfindliches gegebenenfalls auf einen Schichtträger aufgebrachtes Gemisch | |
| GB1514109A (en) | Method of making resist mask on a substrate | |
| US4202697A (en) | Production of etch-resist colloid and material suitable therefor | |
| DE2123702A1 (de) | Lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial | |
| DE1108079B (de) | Vorsensibilisierte, positiv arbeitende Flachdruckfolie | |
| DE1079949B (de) | Lichtempfindliche Kopierschicht | |
| EP0919867A3 (de) | Chemisch verstärkter Resist für die Elektronenstrahllithographie | |
| DE1572207B1 (de) | Photographisches vor der Entwicklung Kontrollbilder lieferndes Aufzeichnungsmaterial | |
| DE2125457A1 (de) | Photopolymerisierbare Kunststoffmasse | |
| DE2852787A1 (de) | Verfahren zur ausbildung eines bildes | |
| US3060022A (en) | Image transfer process | |
| DE3144499A1 (de) | Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial | |
| DE1522497A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Druckformen | |
| DE2723613C2 (pl) | ||
| DE1171263B (de) | Abziehfilm zur Verwendung bei der Herstellung von Tiefdruckformen | |
| ATE221676T1 (de) | Lichtempfindliches farbphotographisches silberhalogenidmaterial und verfahren zur erzeugung eines farbbildes | |
| PL44302B1 (pl) | ||
| DE19603436A1 (de) | Wasserlösliche lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zur Bildung von schwarzen Matrixmustern unter Verwendung derselben | |
| DE2106574A1 (de) | Lichtempfindliches Laminat | |
| US2548565A (en) | Method of making relief printing plates | |
| JPS5965840A (ja) | 着色画像の形成方法およびこれに使用するための着色画像形成用感光材料 | |
| DE2448821C2 (de) | Verfahren zum Übertragen einer thermoplastischen photopolymerisierbaren Schicht und Schichtübertragungsmaterial | |
| DE1597784A1 (de) | Druckplatte mit photoaktiver Schicht | |
| KR960001894A (ko) | 레지스트 패턴의 형성방법과 그 방법에 쓰이는 산성 수용성 재료 조성물 |