PL44302B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL44302B1
PL44302B1 PL44302A PL4430260A PL44302B1 PL 44302 B1 PL44302 B1 PL 44302B1 PL 44302 A PL44302 A PL 44302A PL 4430260 A PL4430260 A PL 4430260A PL 44302 B1 PL44302 B1 PL 44302B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
printing
polyamide
dried
plates
solution
Prior art date
Application number
PL44302A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL44302B1 publication Critical patent/PL44302B1/pl

Links

Description

Opublikowano dnia 27 lutego 1961 r. jy £ V **.**. O. Crr-rr- POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 44302 KI. 57 d, 5/01 Zjednoczenie Przemyslu Graficznego (Centralne Laboratorium Poligraficzne)*) Warszawa, Polska Sposób wytwarzania form drukarskich do druku wypuklego Patent trwa od dnia 9 kwietnia 1960 r.Dotychczas formy drukarskie do druku wy¬ puklego, tak zwane klisze chemigraficzne sa wykonywane z metalu, przewaznie z cynku.Otrzymuje sie je przez pokrywanie powierzchni plyty cynkowej warstwa roztworu zwiazku wielkoczasteczkowego, na przyklad zelatyny, dekstryny, alkoholu poliwinylowego, uczulone¬ go na dzialanie swiatla dodatkiem sensibiliza- tora, na przyklad dwuchromianu amonu. Tak przygotowana plyte naswietla sie poprzez ne¬ gatyw rastrowy, w wyniku czego w warstwie pokrywajacej cynk powstaje obraz utajony.Nastepnie plyte poddaje sie wywolywaniu wo¬ da, która wymywa koloid w miejscach nie na¬ swietlonych, odslaniajac powierzchnie * metalu.Po poddaniu plyty procesowi zagarbowania i wypalenia cynk w miejscach nie drukuja¬ cych, to jest nie pokrytych koloidem, trawi sie *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze wspól¬ twórcami wynalazku sa inz. Jan Dorocinski, inz.Adaim Wolski, inz. Wladyslaw Czternastek i inz.Teodor Polasik. roztworem kwasu azotowego. Wytrawienie na zadana glebokosc uzyskuje sie dopiero po sze¬ sciu kolejnych operacjach trawienia. Nie moz¬ na tu ograniczyc sie do jednej, dlugotrwalej operacji trawienia, gdyz nastapiloby wtedy tak zwane podtrawienie punktu. Kazde z szesciu kolejnych trawien poprzedzone jest pokrywa¬ niem plyty farba drukarska, zapyleniem jej ka¬ lafonia, tak zwanym skurzeniem, wtopieniem, zasypaniem asfaltem i ponownym skurzeniem i stopieniem. W ten sposób, aby otrzymac klisze chemigraficzna nalezy przeprowadzic szesc tra¬ wien, z których kazde wymaga osmiu operacji, co daje razem 48 operacji oraz 8 operacji zwia¬ zanych z kopiowaniem.Nalezy dodac, ze znane formy drukarskie z róznych tworzyw otrzymywane sa w soosób posredni, to znaczy najpierw wykonuje sie nor¬ malna klisze cynkowa, nastepnie obraz nanie¬ siony na te klisze przetlacza sie na matryce z tworzywa termoutwardzalnego, w wyniku czego uzyskuje sie obraz negatywny, po czym obraz z matrycy przetlacza sie ponownie nawlasciwa klisze, drukarska z twerzywa termo¬ plastycznego.Znane sposoby wytwarzania form drukar¬ skich do dr^ku wypuklej* sa wiec skompliko¬ wane, "uciazliwe i cbugotrwale, a przy tym wy¬ trzymalosc w druku tak przygotowanych form jest niewielka, gdyz ulegaja one szybko sciera¬ niu.Wynalazek pozwala na usuniecie tych wad przez zastosowanie jako tworzywa do wyrobu form drukarskich do druku wypuklego nie me¬ talu, lecz poliamidów, zwlaszcza kopolimerów poliamidu 66 z poliamidem 6 lub polimerów zmodyfikowanych^ jak równiez przez zastapie¬ nie operacji kopiowania i wielokrotnego tra¬ wienia przez jedna tylko operacje wywolania w glab, dzieki której uzyskuje sie od razu obraz punktowy odpowiedniej glebokosci.Zgodnie z wynalazkiem forme do druku wy¬ puklego wytwarza sie w ten sposób, ze plyte lub folie z poliamidu, zwlaszcza z kopolimerów poliamidu 66 z poliamidem 6 lub z polimerów modyfikowanych, uczula sie przez zanurzenie na krótki czas, przewaznie od jednej do kilku¬ nastu minut, w roztworze zwiazku sensibilizu- jacego, na przyklad w roztworze dwuchromia¬ nu metali alkalicznych lub amonu, zwiazków zelaza lub organicznych zwiazków dwuazonio- wycn, nastepnie suszy i naswietla przes nega¬ tyw rastrowy oraz wywoluje rozpuszczalnikiem organicznym, na przyklad alkoholem etylowym lub metylowym, który wymywa poliamid z miejsc nie naswietlonych. Po wysuszeniu ply¬ ta gotowa jest do druku.Stezenie zwiazków sensibilizujacych moze sie wahac w dosc szerokich granicach, na przy¬ klad od 1 do 20% wagowych. Czas naswietlania przez negatyw rastrowy zalezy od rodzaju i si¬ ly zródla swiatla i przy uzyciu lampy lukowej wynosi okolo 8 minut Suszenie przebiega do¬ statecznie szybko w zwykej temperaturze.Przygotowanie formy drukarskiej sposobem wedlug wynalazku trwa wielokrotnie krócej, niz w przypadku sposobów znanych, same zas formy poliamidowa dzieki malej scieralnosci, sa znacznie bardziej trwale w druku w porów¬ naniu z formami metalowymi. - PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania form drukarskich do druku wypuklego, znamienny tym, ze plyte lub folie z poliamidów, zwlaszcza z kopolimerów poliamidu 66 z poliamidem 6 iulb z polimerów modyfikowanych, uczula sde na dzialanie swia¬ tla przez zanurzenie na okres od 1 do 20 minut w roztworze zwiazku sensibilizujacego, na przy¬ klad w roztworze dwuchromianu metali alka¬ licznych lub amonu, zwiazków zelaza, wzgled¬ nie organicznych zwiazków dwuazoniowych, po czym suszy sie i naswietla poprzez negatyw rastrowy, a nastepnie wywoluje rozpuszczalni¬ kiem organicznym, na przyklad alkoholem ety¬ lowym lub metylowym i suszy. Zjednoczenie Przemyslu Graficznego (Centralne Laboratorium Poligraficzne) Zastepca: mgr inz. Jerzy Hanke rzecznik patentowy 25. RSW „Prasa", Kielce. PL
PL44302A 1960-04-09 PL44302B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL44302B1 true PL44302B1 (pl) 1961-02-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2902412C2 (de) Photopolymerisierbares elastomeres Gemisch
DE2327513C3 (de) Lichtempfindliches gegebenenfalls auf einen Schichtträger aufgebrachtes Gemisch
GB1514109A (en) Method of making resist mask on a substrate
US4202697A (en) Production of etch-resist colloid and material suitable therefor
DE2123702A1 (de) Lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial
DE1108079B (de) Vorsensibilisierte, positiv arbeitende Flachdruckfolie
DE1079949B (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
EP0919867A3 (de) Chemisch verstärkter Resist für die Elektronenstrahllithographie
DE1572207B1 (de) Photographisches vor der Entwicklung Kontrollbilder lieferndes Aufzeichnungsmaterial
DE2125457A1 (de) Photopolymerisierbare Kunststoffmasse
DE2852787A1 (de) Verfahren zur ausbildung eines bildes
US3060022A (en) Image transfer process
DE3144499A1 (de) Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE1522497A1 (de) Verfahren zum Herstellen von Druckformen
DE2723613C2 (pl)
DE1171263B (de) Abziehfilm zur Verwendung bei der Herstellung von Tiefdruckformen
ATE221676T1 (de) Lichtempfindliches farbphotographisches silberhalogenidmaterial und verfahren zur erzeugung eines farbbildes
PL44302B1 (pl)
DE19603436A1 (de) Wasserlösliche lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zur Bildung von schwarzen Matrixmustern unter Verwendung derselben
DE2106574A1 (de) Lichtempfindliches Laminat
US2548565A (en) Method of making relief printing plates
JPS5965840A (ja) 着色画像の形成方法およびこれに使用するための着色画像形成用感光材料
DE2448821C2 (de) Verfahren zum Übertragen einer thermoplastischen photopolymerisierbaren Schicht und Schichtübertragungsmaterial
DE1597784A1 (de) Druckplatte mit photoaktiver Schicht
KR960001894A (ko) 레지스트 패턴의 형성방법과 그 방법에 쓰이는 산성 수용성 재료 조성물