PL42334B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano dnia 5 pazdziernika 1959 r. ko ¦""Jt-r- PPLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 42334 KI. 42 g, 15/03 Polskie Nagrania Przedsiebiorstwo Panstwowe Warszawa, Polska Masa na plyty gramofonowe i sposób jej wytwarzania Patent trwa od dnia 31 stycznia 1959 r.Dotychczas stosowane masy na plyty dlugogra- jace posiadaja wiele wad- Jedne z nich o do¬ statecznej plastycznosci daja przy prasowaniu plyt nadmierna ilosc braków z powodu powsta¬ wania pecherzy i wzdec na powierzchni plyty, niedopracowania, wygiecia srodkowej czesci ply¬ ty od plaszczyzny podczas zdejmowania jej z for¬ my, wystepowania na kazdej plycie znacznych sil elektrostatycznych przyciagajacych kurz, co w nastepstwie podwyzsza poziom szumu podczas przegrywania plyty. Masy o niedostatecznej pla¬ stycznosci daja równiez powazna liczbe braków z powodu: licznych niedioprasowan, nie blyszcza¬ cych, brudnych i poplamionych powierzchni plyt, licznych szczerb na obrzezu plyty na skutek nadmiernej kruchosci tworzywa, róznej grubosci plyt na obrzezu spowodowanej twardoscia ma¬ sy. Ponadto plyty z tych mas posiadaja za mala *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze wspóltwór¬ cami wynalazku sa inz. Józef Gonera i mgr inz.Jan Koscielniak. odpornosc cieplna. Na skutek wymienionych wad prasowanie plyt duzych np. o srednicy 300 mm z obu powyzszych gatunków mas jest nieopla¬ calne, a niekiedy wrecz niemozliwe.Przedmiotem wynalazku jest masa na plyty gramofonowe dlugograjace o lepszych wlasno¬ sciach prasowniczych, o wystarczajacej odporno¬ sci cieplnej i wytrzymalosci mechanicznej, przy uzyciu której nie wystepuje deformacja plyty przy zdejmowaniu jej z formy, plyty nie elek¬ tryzuje sie, wobec czego poziom szumów jest mniejszy, a powierzchnia plyt jest czysta i blysz¬ czaca, co umozliwia prasowanie plyt o wyso¬ kich walorach artystycznych. Prasowanie plyt duzych z masy wedlug wynalazku np. o sred¬ nicy 300 mm jest latwe i bardzo oplacalne.Masa na plyty gramofonowe dlugograjace we¬ dlug wynalazku sklada sie z polichlorku, winy¬ lu, zmiekczacza, smaru, kompozycji skladajacej sie z poliamidu rozpuszczonego w nowolaku, barwnika oraz kopolimeru polichlorku z octa¬ nem winylu, przy czym zawartosc octanu winyluw kopolimerze wynosi od 15 do 25*/«.Odmiana masy na plyty gramofonowe dlugo¬ grajace wedlug wynalazku znamienna tym, ze zamiast kopolimeru dodaje sie do produkcji ma¬ sy kopolimerowej masy na plyty gramofonowe zawierajacej co najmniej 90°/o kopolimeru lub odpady technologiczne z masy zawierajacej co , najmniej 90% kopolimeru.Sposób wytwarzania masy na plyty dlugogra- jace wedlug wynalazku, w której zamiast kopo¬ limeru dodaje sie mase na plyty gramofonowe lub odpady technologiczne z masy zawierajacej kopolimer, polega na tym, ze mieszanine sklado¬ wa riiasy najpierw uplastycznia sie w ciagu 4—6 min, miedzy walcami, a nastepnie bezposrednio miedzy walce dodaje sie pokruszona mase zawie¬ rajaca kopolimer lub odpady % technologiczne z masy zawierajacej kopolimer.Przyklad 1. Masa na plyty gramofonowe dlugograjace sklada sie z nastepujacych sklad¬ ników: Polichlorek winylu 79,5 czesci wagowych Kompozycja z 80 czesci wagowych nowolaku i 20 czesci wagowych steeloiui 10 „ „ Palatinol AH 8,5 Kopolimer (octan winylu z polichlorkiem winylu) 10,0-50 „ „ Sadza 1 -2 ,, „ Wosk Montana 0,2-0,5 „ „ Stearynian olowiu 0,2-0,5 „ „ Przyklad 2. Masa na plyty dlugograjace sklada sie z nastepujacych skladników: Polichlorek winylu 79,0 czesci wagowych Kompozycja z 80 czesci wagowych nowolaku i 20 czesci wagowych steelonu 10,0 „ „ Polatinol AH 9,0 Sadza 1,0 „ „ Wosk Montana 0,2-0,5 „ Odpady technologiczne z masy zawierajacej co najmniej 90°/o kopo¬ limeru 10 - 50 „ „ PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Masa na plyty dlugograjace, znamienna tym, ze sklada sie z polichlorku winylu, zmiek- czacza, smaru, kompozycji skladajacej sie z poliamidu rozpuszczonego w nowolaku, barwnika, oraz kopolimeru polichlorku winy¬ lu z 'octanem winylu, przy czym zawartosc octanu winylu w kopolimerze wynosi od 15 do 25°/o.
2. 2. Odmiana masy na plyty gramofonowe wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze zamiast kopoli¬ meru dodaje sie do produkcji masy kopolime¬ rowej masy na plyty gramofonowe, zawie¬ rajacej co najmniej 90*/© kopolimeru lub od¬ pady technologiczne z masy zawierajacej co najmniej 90°/o kopolimeru. 3. Sposób wytwarzania masy wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze mieszanke walcuje sie w temp. od 140 do 160°C w ciagu od 10 do 12 min. przy szczelinie miedzy walcami wy¬ noszacej od 0,5 do 0,7 mm. 4. Sposób wytwarzania masy wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze mieszanine skladowa ma¬ sy najpierw uplastycznia sie w ciagu od 4 do 6 min. miedzy walcami, a nastepnie bezpo¬ srednio miedzy walce dodaje sie pokruszona mase zawierajaca kopolimer lub odpady tech¬ nologiczne z masy zawierajace kopolimer. Polskie Nagrania Przedsiebiorstwo Panstwowe. Wzór jednoraz. CWD, zam. PL/Ke, Czest. zam. 2358 5. 8. 59. 100 egz. Al plsm. ki.
3. 3. PL