PL407334A1 - Struktura homo-złącza p-n na bazie ZnO oraz sposób wykonania struktury homo-złącza p-n na bazie ZnO - Google Patents

Struktura homo-złącza p-n na bazie ZnO oraz sposób wykonania struktury homo-złącza p-n na bazie ZnO

Info

Publication number
PL407334A1
PL407334A1 PL407334A PL40733414A PL407334A1 PL 407334 A1 PL407334 A1 PL 407334A1 PL 407334 A PL407334 A PL 407334A PL 40733414 A PL40733414 A PL 40733414A PL 407334 A1 PL407334 A1 PL 407334A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
layer
zno
type
homo
temperature
Prior art date
Application number
PL407334A
Other languages
English (en)
Other versions
PL223727B1 (pl
Inventor
Dmytro Snigurenko
Tomasz Krajewski
Elżbieta Guziewicz
Original Assignee
Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk filed Critical Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Priority to PL407334A priority Critical patent/PL223727B1/pl
Publication of PL407334A1 publication Critical patent/PL407334A1/pl
Publication of PL223727B1 publication Critical patent/PL223727B1/pl

Links

Landscapes

  • Led Devices (AREA)

Abstract

Przedmiotem wynalazku jest struktura homo-złącza p-n na bazie tlenku cynku (ZnO) oraz sposób wykonania takiego złącza. Struktura ma na podłożu warstwę ZnO domieszkowaną azotem o p-typie przewodnictwa, domieszkowaną lub niedomieszkowaną warstwę ZnO o n-typie przewodnictwa oraz metaliczny kontakt elektryczny. Pomiędzy warstwą ZnO typu p a warstwą ZnO typu n znajduje się dielektryczna przekładka w postaci warstwy tlenku glinu, o grubości od 3 do 10 nm. Sposób wytwarzania struktury homo-złącza p-n polega na tym, że najpierw na nieprzewodzącym podłożu, korzystnie krzemowym, kwarcowym lub szklanym, w temperaturze 30-200°C, osadza się warstwę ZnO o grubości 50-700 nm, o jednym typie przewodnictwa, przy czym jeżeli jest to warstwa typu p to jest nią warstwa ZnO:N. Następnie na tej warstwie, za pomocą metody ALD, w temperaturze 90 - 130°C, osadza się warstwę Al2O3, o grubości od 3 do 10 nm. Z kolei na warstwie Al2O3 osadza się w temperaturze 30°C - 200°C warstwę ZnO o przeciwnym typie przewodnictwa i o grubości 50 - 700 nm. Otrzymaną strukturę wygrzewa w temperaturze 300 - 900°C, w atmosferze tlenu, w czasie od 2 do 10 min.
PL407334A 2014-02-27 2014-02-27 Struktura homo-złącza p-n na bazie ZnO oraz sposób wykonania struktury homo-złącza p-n na bazie ZnO PL223727B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL407334A PL223727B1 (pl) 2014-02-27 2014-02-27 Struktura homo-złącza p-n na bazie ZnO oraz sposób wykonania struktury homo-złącza p-n na bazie ZnO

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL407334A PL223727B1 (pl) 2014-02-27 2014-02-27 Struktura homo-złącza p-n na bazie ZnO oraz sposób wykonania struktury homo-złącza p-n na bazie ZnO

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL407334A1 true PL407334A1 (pl) 2015-08-31
PL223727B1 PL223727B1 (pl) 2016-10-31

Family

ID=53938574

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL407334A PL223727B1 (pl) 2014-02-27 2014-02-27 Struktura homo-złącza p-n na bazie ZnO oraz sposób wykonania struktury homo-złącza p-n na bazie ZnO

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL223727B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL223727B1 (pl) 2016-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SG10201911400WA (en) Substrate with electrically conductive film, substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device
ES2626911T3 (es) Luna con recubrimiento reflectante de radiación térmica
TW201612964A (en) Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method
EA033122B1 (ru) Способ получения подложки, покрытой набором, содержащим слой прозрачного проводящего оксида
EP4421886A3 (en) Method for manufacturing a solar cell
EP2922096A3 (en) Semiconductor device and manufacturing method for the same
EP3981023A4 (en) METHOD FOR TUNING ELECTRICAL PROPERTIES OF OXIDE SEMICONDUCTORS AND THE DEVELOPMENT OF HIGHLY CONDUCTIVE P-TYPE AND N-TYPE Ga²O³
TW201614852A (en) Solid-source diffused junction for fin-based electronics
CO2019007673A2 (es) Cristal que tiene recubrimiento de tco calentable
WO2016003523A3 (en) Polar elastomers for high performance electronic and optoelectronic devices
GB2514711A (en) Power semiconductor device and method for manufacturing thereof
MX2015014908A (es) Material de sustrato para cinta adhesiva aislante resistente a la alta temperatura.
WO2013011127A3 (de) Thermoelektrisches modul, verfahren zur herstellung eines thermoelektrischen moduls und verwendung eines metallischen glases oder eines gesinterten werkstoffes
BR112012019907A2 (pt) transistor, e, método para atuar um dispositivo semicondutor
MY178458A (en) Photovoltaic devices and methods for making the same
JP2015065424A5 (ja) 半導体装置の作製方法
MX374673B (es) Sustrato de vidrio proporcionado con tiras conductoras de cobre.
SG11201912503WA (en) Device substrate with high thermal conductivity and method of manufacturing the same
MX394206B (es) Acristalamiento equipado con un dispositivo eléctricamente conductor que posee una resistencia mejorada a las pruebas de ciclos de temperatura.
TW201613071A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
MX2017015275A (es) Sustrato proporcionado con una pila que tiene propiedades termicas con una capa terminal de metal y una capa pre-terminal oxidada.
PL412250A1 (pl) Struktura ogniwa fotowoltaicznego oraz sposób wykonania struktury ogniwa fotowoltaicznego
PL407334A1 (pl) Struktura homo-złącza p-n na bazie ZnO oraz sposób wykonania struktury homo-złącza p-n na bazie ZnO
PH12017500904A1 (en) Method for producing doped polycrystalline semiconductor layers
PL407336A1 (pl) Struktura ogniwa fotowoltaicznego oraz sposób wykonania struktury ogniwa fotowoltaicznego