PL39485B1 - - Google Patents

Description

1 3 Opublikowano dnia 12 lutego 1957 r.'¦ • -'¦'•"¦¦¦¦KM\*ga J POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 39485 KI. 12 e, 1/02 Zaklady Cynkoice Welnouutec*) W hMlJo%A% Katowice, Polska Urzqdzenie do przeprowadzania absorpcji gazów w cieczach Patent trwa od dnia 18 pazdziernika 1955 r.Stosowane w technice sposoby absorpcji w cie¬ czach gazów polegaja na prowadzeniu gazów nad powierzchnia cieczy, przepuszczaniu gazów i cie¬ czy przez wypelnione wieze, przepuszczeniu ga¬ zów przez warstwe cieczy lub na przepuszczeniu gazó,w przez przestrzen wypelniona drobnymi kropelkami cieczy absorbujacych.Poniewaz rozwiniecie jak najwiekszej po¬ wierzchni decyduje o szybkosci i stopniu ab¬ sorpcji, w praktyce stolsuje sie w nowych urza¬ dzeniach wieze wypelnione. Sa to wieze o sto¬ sunkowo duzych rozmiarach, zraszane u góry ciecza absorpcyjna, wykonane w zaleznosci od potrzeb z odpowiednio odpornego materialu.Wieksze jeszcze rozwiniecie powierzchni ab¬ sorpcji wykazuje ostatni sposób, polegajacy na przepuszczaniu gazów przez przestrzen napelnio¬ na kropelkami cieczy absorbujacej.W urzadzeniach pracujacych tym sposobem ciecz rozpylana jest przez dysze w kdmorze ab- *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze twórcami wynalazku sa inz, Marian Prazmowski, inz. mgr Stanislaw Brunne i Stanislaw Swierczynski. sorpcyjnej albo rozpryskiwana przez wirujace elementy, przez co tworzace sie krople posiadaja stosunkowo duze wymiary, to tez zachodzi ko¬ niecznosc budowy duzych i" skcknplikowanych aparatów, kosztownych w eksploatacji.Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do przeprowadzenia absorpcji gazów w cieczach, w którym mgla wytwarzana jest przez wtryski¬ wanie cieczy absorpcyjnej w przewezonym miej¬ scu dyszy, przez która przeplywa gaz. Dokon¬ czenie absorpcji nastepuje w pionowej komorze, . w której dodatkowo rozpyla sie w znany sposób ciecz absorpcyjna. W komorze tej nastepuje równoczesnie grawitacyjne oddzielenie kropel cieczy od fazy gazowej.Wtryskiwanie cieczy absorpcyjnej w przewe¬ zenie dyszy powoduje rozbicie cieczy na naj¬ drobniejsze kropelki, przez co wybitnie zwieksza sie powierzchnia absorpcji.Urzadzenie wedlug wynalazku, jest przedsta¬ wione na zalaczonych rysunkach, na których fig. 1 przedstawia widok z boku, fig. 2 widok z góry urzadzenia.Urzadzenie posiada dysze 1, w której przewe¬ zenie wtryskuje sie pod nieduzym cisnieniem ciecz absorpcyjna kilkoma otworami 3. Strumien gazu, plynacego ze znaczna szybkoscia porywa i rozpryskuje ciecz absorpcyjna na bardzo drob¬ ne kropelki, na których w czesci dyszy 1 za ot¬ worami 3 wtryskowymi nastepuje absorpcja. Gaz unoszacy zawiesine kropelek jest kierowany do pionowej komory 2. W komorze tej nastepuje dokonczenie absorpcji i jednoczesnie wylapywa* nie kropel.Gazy wpadaja do pionowej komory 2 stycznie i wirujac uchodza wylotem 6. W razie potrzeby sa dalej kierowane do ewentualnego odkrapla- cza lub kondensatora. Pionowa komora 2 posiada w dolnej czesci zespól dysz 4, którymi wtryskuje sie dodatkowo ilosci cieczy absorpcyjnej.W razie potrzeby zewnetrzna powierzchnie dy¬ szy 1 oraz pionowa komore 2 chlodzi sie woda splywajaca z korytka 7. Odplyw cieczy absorp¬ cyjnej z komory 2 nastepuje przez przewód od¬ plywowy 5.Urzadzenie wedlug wynalazku charakteryzuje sie duza intensywnoscia przebiegu absorpcji, ma¬ lymi wymiarami i tanioscia. PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do absorpcji gazu w cieczach, znamienne tym, ze sklada sie z poziomej dyszy (1), posiadajacej w przewezeniu ot¬ wory (3) do wtryskiwania cieczy absorpcyj¬ nej z pionowej komory (2) do której dysza (1) uchodzi stycznie, zaopatrzonej weWnatrz w zespól dysz (4), umieszczonych w dolnej czesci komory i sluzacych do rozpryskiwa¬ nia dodatkowych ilosci cieczy absorpcyjnej oraz w wylot (6) gazu i przewód odplywo¬ wy (5) cieczy.
2. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze dysza (i), komora (2) i dysze (4) sa wykonane ze stali weglistej lub kwasood- pornej, metali lekkich, szkla, olowiu lub materialów ceramicznych, weglowych i an- dezytowych lub tez z mas plastycznych. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1 i 2, znamienne tym, ze jest zaopatrzone w chlodzenie zew¬ netrzne. Zaklady Cynkowe Welndwiec Zastepca: Kolegium Rzeczników Patentowych f9.1 ~"~~~~~^ J T h *J H *] CT1 '1 "^B r r r t r p i- r r \*^~ l fig.2 Wzór jednoraz. CWD Ke, zam. 457/PL/Ke. Czsl. zam, 2899 8.12.66. 100 egz. Al pism. ki.
3. 3. B-757 PL