PL29612B1 - Sposób nadawania powierzchni aluminium lub stopów aluminiowych duzego wspólczynnika odbijania promieni. - Google Patents

Sposób nadawania powierzchni aluminium lub stopów aluminiowych duzego wspólczynnika odbijania promieni. Download PDF

Info

Publication number
PL29612B1
PL29612B1 PL29612A PL2961236A PL29612B1 PL 29612 B1 PL29612 B1 PL 29612B1 PL 29612 A PL29612 A PL 29612A PL 2961236 A PL2961236 A PL 2961236A PL 29612 B1 PL29612 B1 PL 29612B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
aluminum
solution
temperature
treatment
oxide coating
Prior art date
Application number
PL29612A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL29612B1 publication Critical patent/PL29612B1/pl

Links

Description

Wynalazek niniejszy dotyczy wytwa¬ rzania powierzchni aluminiowych o du¬ zym wspólczynniku odbijania promieni, a w szczególnosci powleczonych tlenkiem po¬ wierzchni aluminiowych o zwiekszonej zdolnosci odbijania promieni.Zastosowanie aluminium i stopów, któ¬ rych glównym skladnikiem jest alumi¬ nium, do celów, w których potrzebna jest jasna, odbijajaca powierzchnia o znacznej trwalosci, bylo utrudnione z powodu sklonnosci niezabezpieczonych powierzchni aluminiowych do utleniania sie w zetknie¬ ciu z powietrzem. Wskutek utleniania sie wytwarza sie na powierzchni aluminium* blonka mniej lub bardziej przezroczysta, która znacznie obniza zdolnosc odbijania promieni. Wskazano juz kilka metod obróbki aluminiowych powierzchni odbija¬ jacych w celu wytwarzania na nich sztucznych powlok tlenkowych o znacznej grubosci i znacznej przezroczystosci.Najodpowiedniejsza z tych metod jest elektrolityczne rozjasnianie, po którym nastepuje utlenianie anodowe powierzchni rozjasnionej. Pierwszy zabieg mozna wy¬ konywac w roztworze fluoroboranu. Utle¬ nianie anodowe mozna uskuteczniac w roz¬ tworze kwasu szczawiowego lub siarkowe¬ go. Porowatosc powloki tlenkowej mozna zmniejszyc za pomoca obróbki w goracej wodzie, ogrzanej prawie do punktu wrze-* nia. Niepozadana blonke powierzchniowa, mogaca powstac przy tych zabiegach, usu-wa sie mechanicznie. Elektrolitem rozjas¬ niajacym moze byc nie tylko roztwór flu- oroboranu, lecz kazdy elektrolit zawiera¬ jacy jako skladnik kwas fluorowodorowy albo jego zwiazki, a wiec np. mieszanina kwasu siarkowego i fluorowodorowego oraz mieszanina kwasu chromowego i fluo¬ rowodorowego.Przy przemyslowym zastosowaniu tych metod napotkano pewne trudnosci, ponie¬ waz na powierzchni aluminium powstaje cienka blonka ulegajaca zmatowieniu przez scieranie podczas pracy, a usuwanie takiej blonki z powierzchni pokrytej tlen¬ kiem stanowilo uciazliwa, kosztowna pra¬ ce.Podczas elektrolitycznej obróbki roz¬ jasniajacej na powierzchni aluminium po¬ wstaje blonka zasadniczo przezroczysta i czasami niewidoczna. W niektórych przy¬ padkach blonka ta staje sie slabo widocz¬ na, zwlaszcza w swietle odbitym. Blonka taka nie zmniejsza w znaczniejszym stop¬ niu zdolnosci odbijania powierzchni, na której zostala wytworzona. Jezeli po¬ wierzchnia jest scierana lub podlega obróbce, to matowieje, co jest wysoce nie¬ pozadane przy powierzchniach odbijaja¬ cych. Podczas nastepujacej potem obróbki anodowej, czyli powlekania tlenkiem, o ile blona taka nie zostala usunieta, dziala ona jako blona przepuszczalna i w poblizu niej powstaje na powierzchni metalu twarda powloka tlenkowa. Podczas obróbki po¬ wloki tlenkowej goraca woda w celu nada¬ nia jej nieprzepuszczalnosci sklonnosc do matowienia wzrasta wskutek dzialania go¬ racej wody na zewnetrzne czesci powloki.Otóz koniecznosc usuwania tej blony po¬ wierzchniowej powoduje wspomniane tru¬ dnosci wytwarzania dobrze odbijajacych powierzchni aluminiowych.Wedlug wynalazku usuwanie matuja¬ cej powloki z odbijajacych powierzchni aluminiowych, rozjasnionych chemicznie lub elektrolitycznie, zwlaszcza z po¬ wierzchni odbijajacych, które rozjasniono za pomoca obróbki anodowej w elektroli¬ cie zawierajacym jako skladnik kwas fluo¬ rowodorowy albo jego sól, uskutecznia sie przez chemiczne rozpuszczanie albo cze¬ sciowe obluznianie tej powloki. Takie roz¬ twory nagryzaja powloke tlenkowa na alu¬ minium, wobec czego stosowanie ich jest o- graniczone do usuwania blony z powierzch¬ ni samego aluminium, gdyz nie sa one od^ powiednie do usuwania blony powierzch¬ niowej z powierzchni aluminiowej pokrytej tlenkiem. Gdy powierzchnia odbijajaca jest pokryta tlenkiem, oraz gdy powloke tlen¬ kowa traktuje sie goraca woda w celu na¬ dania jej nieprzepuszczalnosci, jak sie to zwykle robi, mozna w ogóle uniknac wy¬ twarzania blony powstajacej zwykle wskutek tej obróbki, jezeli odpowiednio ureguluje sie temperature stosowana pod¬ czas nadawania nieprzepuszczalnosci po¬ wloce tlenkowej. Tak wiec przy nowym zestawieniu zabiegów i regulowaniu tem¬ peratury w ostatnim zabiegu mozna wy¬ twarzac powierzchnie aluminiowe odbija¬ jace, nie matowiejace podczas scierania, bez mechanicznego oczyszczania, majacego na celu usuniecie blony powierzchniowej powodujacej zmatowienie.Przy wykonywaniu wynalazku w prak¬ tyce powierzchnie blachy aluminiowej, starannie oczyszczona od tluszczu i innych zanieczyszczen, poddaje sie obróbce ano¬ dowej w znanej elektrolitycznej kapieli rozjasniajacej. Jezeli pozadana jest roz¬ praszajaca powierzchnia odbijajaca, to na¬ lezy powierzchnie metalu wytrawic lub inaczej nadac jej szorstkosc, najlepiej oczyszczajac ja ostatecznie 50%-owym roztworem kwasu azotowego. Jezeli poza¬ dana jest powierzchnia zwierciadlana, to stosuje sie polerowana powierzchnie alu¬ miniowa. Jako elektrolit rozjasniajacy najlepiej stosuje sie wodny roztwór kwasu fluoroborowego albo zwiazek tego kwasu o stezeniu 0,5 — l°/o HBF4. Napiecie mo- — 2 —ze wynosic 5 — 35 woltów, a gestosc pra¬ du powyzej 0,32 amp na 1 dcm2 anody; normalnie stosuje sie 1,08 — 2,15 amp na 1 dcm2 przy uzyciu pradu stalego. Obrób¬ ka trwa zwykle 4 — 16 minut; tempera¬ tura wynosi 20 — 60°C. Przykladem inne¬ go elektrolitu rozjasniajacego moze byc elektrolit zawierajacy kwas chromowy i kwas fluorowodorowy, np. 1 — 25% kwa¬ su chromowego i 0,2 — 1,5% kwasu fluo¬ rowodorowego. Elektrolit ten stosuje sie w temperaturze 30 — 70°C przy gestosci pradu 2,15 — 15,08 amp na 1 dcm2 ano¬ dy. Inny odpowiedni elektrolit zawiera 5 — 35% kwasu siarkowego i 0,2 — 1,5% fluorowodorowego. Elektrolit ten najle¬ piej stosuje sie w temperaturze 30 — 70°C przy gestosci pradu 1,08 do 10,8 amp na 1 dcm2 powierzchni anodowej.Po rozjasnieniu powierzchni przedmio¬ tu mozna usunac bardzo cienka przezro¬ czysta blonke wytworzona na niej; usu¬ wanie to uskutecznia sie za pomoca roz^ puszczalnika tej blonki. Mozna stosowac rozpuszczalnik, który usuwa te blonke lub tak ja rozluznia, iz daje sie ona usunac przez zmycie, przy czym jednakze roz¬ puszczalnik nie powinien nagryzac deli¬ katnej rozjasnionej powierzchni metalu.Jako, odpowiedni rozpuszczalnik mozna stosowac np. zasadowy roztwór chromia¬ nu potasowca w roztworze zawierajacym weglan potasowca. Podczas badan maja¬ cych na celu okreslenie najkorzystniejsze¬ go stezenia roztworu i najkorzystniejszych warunków roboczych stwierdzono, ze obec¬ nosc chromianu opóznia lub reguluje dzia¬ lanie roztworu weglanu w bardzo szero¬ kich granicach. Okazalo sie rzecza korzyst¬ na stosowanie pewnego nadmiaru chromia¬ nu . w stosunku do zawartosci weglanu.Warunki robocze wplywaja w znacznym stopniu na dobór stezenia. Roztwór boga¬ ty w weglan rozpuszcza blonke szybciej, lecz dlugotrwale zetkniecie z takim roz¬ tworem wplywa czesto szkodliwie na roz¬ jasniona powierzchnie w sasiedztwie blon¬ ki. Dzialanie roztworów^ bogatych w chro¬ mian w porównaniu z zawartoscia wegla¬ nu, zostaje opóznione w sposób niepozada¬ ny. Szybkosc rozpuszczania zalezy równiez od temperatury. Na ogól, im wyzsza jest temperatura, tym szybsze jest dzialanie roztworu. W praktyce pozadane jest do¬ bieranie takiego stezenia roztworu, które by przy uzyciu tego roztworu w tempera¬ turze znacznie wyzszej od pokojowej, lecz korzystnie nie wyzszej od punktu wrzenia wody, a wiec korzystnie w temperaturze 70 — 95°C, pozwalalo na usuwanie blony w odpowiednim przeciagu czasu, to jest w ciagu okolo 1 do 1V2 minuty. Bardzo szyb¬ kie dzialanie lub krótki czas rozpuszczania jest niepozadany w niektórych przypad¬ kach, poniewaz utrudnia scisla kontrole pracy. Z drugiej strony czas zbyt dlugi stanowi ceche ujemna z punktu widzenia handlowego i daje gorsze wyniki. Najod¬ powiedniejsze sa roztwory przygotowane przez rozpuszczenie od 0,5 do 3% dwu¬ chromianu sodowego i 1% — 8% wegla¬ nu sodowego w wodzie; uzytej w tempera¬ turze wyzszej od pokojowej, lecz nie do¬ chodzacej do temperatury wrzenia roz¬ tworu; roztwory te usuwaja zasadniczo cala blone powierzchniowa w czasie od 15 sek. do 3 minut. Zamiast soli sodo¬ wych mozna stosowac róznowazne ilosci soli potasowych. Najlepiej jest stosowac roztwór przygotowany przez rozpuszcze¬ nie 1,5% dwuchromianu sodowego i 2% weglanu sodowego, co odpowiada okolo 1,8% chromianu sodowego i 1,5% weglanu sodowego. Lepiej jest stosowac dwuchro¬ mian ze wzgledu na jego dostepnosc i ce¬ ne, lecz oczywiscie bezposrednie dodawanie chromianów jest równiez dopuszczalne.Jezeli przedmiot obrabia sie przez zanu¬ rzenie w rozpuszczalniku blonki, dobrze jest ten rozpuszczalnik mieszac podczas obróbki, a to w tym celu, zeby material, który zostal obluzniony, lecz nie calkowi- — 3 —cie rozpuszczony, mógl byc mozliwie szyb¬ ko usuniety z powierzchni przedmiotu.Mieszanie zapobiega równiez miejscowe¬ mu wyczerpaniu roztworu rozpuszczalni¬ ka. Odpowiednim sposobem mieszania jest wdmuchiwanie powietrza lub pary do roz¬ tworu. Zreszta mozna zastosowac jakikol¬ wiek inny odpowiedni sposób mieszania.Powierzchnie wolna od blonki myje sie starannie w wodzie, najlepiej biezacej, tak, zeby rozpuszczalnik oraz ewentualnie roz¬ luzniony -material staly blonki zostaly sta¬ rannie usuniete przed dalsza obróbka.W jednym z przykladów wykonania wynalazku rozjasniona powierzchnie, wol¬ na od blony, traktuje sie w znany sposób w celu wytworzenia na niej przezroczystej powloki tlenkowej, która jest odporna na scieranie i zdrapywanie. Powloki tlenko¬ we obnizaja czesciowo zdolnosc odbijania promieni. Obnizenie to zmienia sie w za¬ leznosci od sposobu oraz elektrolitu uzyte¬ go do wytwarzania powloki, a takze od powierzchni obrabianej aluminium lub obrabianego stopu aluminiowego. Podczas obróbki bardzo czystych powierzchni alu¬ miniowych np. mozna stosowac elektrolit zawierajacy 15% kwasu siarkowego. Utle¬ nianie mozna w tym elektrolicie prowa¬ dzic przy gestosci pradu okolo 1,29 amp na 1 dcm2 anody w ciagu 4 do 20 minut nie obnizajac zdolnosci odbijajacej po¬ wierzchni wiecej niz o kilka procentów.Podczas powlekania tlenkiem powierzchni stopów aluminiowych powloka ta wykazu¬ je zdolnosc barwienia sie, przy czym wy¬ kazuje mniejsza przezroczystosc, niz po¬ wloka wytworzona na bardzo czystym alu¬ minium. Z tego powodu dobrze jest skró¬ cic czas utleniania do 4 — 5 minut. Otrzy¬ mane powloki tlenkowe sa na ogól niezu¬ pelnie odpowiednie do uzytku przed nada¬ niem im nieprzepuszczalnosci w celu zwiekszenia odpornosci na plamienie sie i nieprzemakalnosci. Nadawanie powloce tlenkowej nieprzepuszczalnosci z zachowa¬ niem innych pozadanych cech polega na tym, ze przedmiot traktuje sie w znany sposób goraca woda w temperaturze 70 — 85°C. Cza,s (trwania obróbki waha sie w za¬ leznosci od grubosci powloki tlenkowej..Im grubsza jest powloka tlenkowa, tym dluzszego czasu potrzeba w celu nadania jej nieprzepuszczalnosci. Poniewaz gru¬ bosc powloki tlenkowej jest wprost pro¬ porcjonalna do czasu trwania utlenienia anodowego, wiec mozna powiedziec ogól¬ nie, ze czas trwania utleniania anodowego decyduje o czasie trwania nadawania nie- iprzepuisizczalnosci. Na przyklad, podczas obróbki bardzo czystych powierzchni alu¬ miniowych utlenianie anodowe mozna pro¬ wadzic w kapieli zawierajacej 15% kwasu siarkowego przy gestosci pradu od 1,29 do 1,51 amp na 1 dcm2 w ciagu okolo 8 minut. Dzieki temu utlenianiu powstaje przezroczysta powloka tlenkowa o sred¬ niej grubosci, której nadaje sie nieprze- puszczalnosc iprzez zanurzenie w wodzie, utrzymywanej w temperaturze 75 — 80°C, w ciagu 15 minut. Jezeli pozadana jest grubsza powloka, to utlenianie moze trwac do 15 minut w powyzszych warunkach, a obróbka w goracej wodzie moze trwac okolo 30 minut. Jezeli temperatura wody przewyzsza 85°C, to nadawanie nieprze¬ puszczalnosci powloce zachodzi szybciej, lecz wystepuje sklonnosc do wytwarzania blonki powierzchniowej na powierzchni powloki. Jezeli temperatura wody nie do¬ siega 70°C, to nadawanie nieprzepuszczal¬ nosci zajmuje zbyt wiele czasu lub w ogó¬ le nie jest skuteczne. Po nadaniu nieprze¬ puszczalnosci powloce tlenkowej proces nalezy zakonczyc przez wysuszenie po¬ wierzchni jakimkolwiek odpowiednim srodkiem.Jezeli np. poddaje sie obróbce bardzo czysta blache aluminiowa w celu wytwo¬ rzenia na niej zwierciadlanej powierzchni odbijajacej, to powierzchnie te najpierw oczyszcza sie odpowiednim roztworem — 4 —oczyszczajacym w celu usuniecia brudu i innych obcych (materialów, które mogly zo¬ stac wprowadzone -podczas wstepnej obrób¬ ki, np. polerowania. Sam roztwór oczy¬ szczajacy nie powinien wywierac zadnego dzialania na aluminium. Po oczyszczeniu powierzchnie starannie plucze sie zimna woda.Nastepnie oczyszczona powierzchnie umieszcza sie jako anode w elektrolicie zawierajacym okolo 1,25% kwasu fluoro¬ wodorowego. Przez elektrolit przepuszcza sie prad o gestosci okolo 1,08 — 2,15 amp. na 1 dcm2 w ciagu 10 — 12 minut. Poza¬ dane jest zastosowanie na poczatku, to jest przez pierwsze 1 — 2 minuty, nieco wiekszej gestosci pradu, to jest 1,94 — 2,15 amp. na 1 dcm2. Tak rozjasniona po¬ wierzchnie zanurza, sie nastepnie albo tez w inny sposób traktuje roztworem otrzy¬ manym przez rozpuszczenie 20 czesci we¬ glanu sodowego i 15 czesci dwuchromia¬ nu sodowego w 1 000 czesci wody. Podczas usuwania blonki lub osadu matujacego, wytworzonego na powierzchni podczas rozjasniania, roztwór ten utrzymuje sie w temperaturze 70 — 95°C i porusza wzgle¬ dem powierzchni aluminium w ciagu oko¬ lo 2 minut. Nastepnie blache plucze sie w zimnej wodzie biezacej lub poruszanej w inny sposób. Potem blache te umieszcza sie jako anode w elektrolicie, którym jest 15%-owy kwas siarkowy i prowadzi elek¬ trolize przy gestosci pradu okolo 1,29 — 1,51 amp. na 1 dcm2 w temperaturze 72°C w ciagu okolo 8 minut. Powierzchnie sta¬ rannie sie zimywa, a potem umieszcza na 15 minut w wodzie utrzymywanej w tem¬ peraturze 75 — 80°C. Nastepnie blache su¬ szy sie na stole parowym.Jezeli stosuje sie usuwanie powierzch¬ niowej blonki wytworzonej w elektroli¬ tycznej kapieli rozjasniajacej i zapobiega dalszemu wytwarzaniu sie takiej blonki na powloce tlenkowej podczas nadawania nieprzepuszczalnosci, to dalsza obróbka powierzchni jest zbyteczna. Dzieki takie¬ mu polaczeniu zabiegów mozna wytworzyc na powierzchni aluminium twarda, jasna, zwierciadlana powierzchnie odbijajaca, odporna na scieranie. Zwierciadlane po¬ wierzchnie odbijajace, wytwarzane na aluminium o duzej czystosci za pomoca zabiegów rozjasniania i usuwania blony, opisanych powyzej, pozwalaja na osiaga¬ nie zdolnosci odbijania promieni wynosza¬ cej 87%. Podobne powierzchnie odbijaja¬ ce, obrobione anodowo w celu wytworze¬ nia twardej przezroczystej powloki tlen¬ kowej, moga osiagnac zdolnosc odbijania wynoszaca 85%. Aluminium handlowe da¬ je liczby nieco mniejsze.Stopy, których glównym skladnikiem jest aluminium, na ogól nie daja tak od¬ bijajacych powierzchni, lecz w pewnych przypadkach moga byc stosowane z powo¬ dzeniem. PL

Claims (5)

  1. Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób nadawania powierzchni alu¬ minium albo powierzchni stopów alumi¬ niowych duzego wspólczynnika odbijania promieni, znamienny tym, ze po obróbce anodowej w elektrolicie rozjasniajacym traktuje sie powierzchnie te roztworem, który zawiera weglan potasowca (np. w ilosci- odpowiadajacej 1 — 8% roztworu) oraz chromian potasowca (np. w ilosci stanowiacej 0,5 — 3% roztworu) w tem¬ peraturze wyzszej od pokojowej, lecz niz¬ szej od temperatury wrzenia roztworu.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze stosuje sie roztwór przygoto¬ wany z okolo 2 czesci weglanu sodowego ii — 0,5 czesci dwuchromianu sodowego w 100 czesciach wody.
  3. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tym, ze po obróbce roztworem po¬ wierzchnie aluminium lub stopu aluminio¬ wego poddaje sie obróbce wytwarzajacej powloke tlenkowa. — s —
  4. 4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamien¬ ny tym, ze wytworzonej przezroczystej po¬ wloce tlenkowej nadaje sie nieprzepu- szczalnosc przez traktowanie woda o tem¬ peraturze od 70 do 85°C.
  5. 5. Sposób wedlug zastrz. 2 i 4, znar mienny tym, ze rozjasniona powierzchnie aluminiowa poddaje sie dzialaniu roztwo¬ ru utleniajacego w temperaturze 70 — 95°C przez okres czasu od 0,25 do 3 minut. Aluminum Company o f America. Zastepca: inz. B. Muller, rzecznik patentowy. DRUK. M. ARCT CZERNIAKOWSKA 225 PL
PL29612A 1936-12-19 Sposób nadawania powierzchni aluminium lub stopów aluminiowych duzego wspólczynnika odbijania promieni. PL29612B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL29612B1 true PL29612B1 (pl) 1941-03-31

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2647865A (en) Brightening aluminum and aluminum alloy surfaces
JP2005538249A (ja) マグネシウムおよびマグネシウム合金の表面処理
US2703781A (en) Anodic treatment of aluminum surfaces
CN109385656A (zh) 一种铝合金表面处理工艺
US2324106A (en) Process of ornamentation
US2620265A (en) Composition for treating aluminum and aluminum alloys
JPS58164800A (ja) 電解はくり方法
PL29612B1 (pl) Sposób nadawania powierzchni aluminium lub stopów aluminiowych duzego wspólczynnika odbijania promieni.
WO2015093159A1 (ja) アルミニウム材の電解研磨処理方法
JP3105322B2 (ja) 光輝性アルミホイールの無色クロメート皮膜形成方法
US3674655A (en) Surface preparation of uranium parts
KR20210001331U (ko) 알루미늄 합금 부재의 표면 처리 방법 및 양극산화된 알루미늄 합금으로 제조된 부재
KR102094067B1 (ko) 무광 알루미늄합금 표면처리 방법
JPS6253598B2 (pl)
JP7101972B2 (ja) ニッケル除去剤及びニッケル除去方法
JPH0158280B2 (pl)
JP2680785B2 (ja) 焼鈍されたステンレス鋼帯の脱スケール方法及び装置
JP2021070847A (ja) アルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理方法
Ensor The Brytal Process for the Anodic Oxidation of Aluminium
US1816837A (en) Process of finishing cadmium plated goods
JPS6320318B2 (pl)
JPS6130684A (ja) アルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理方法
JPH0257689A (ja) アルミニウムの保護性および着色受容性コーティング
Oakley et al. Chemical and Electrolytic Brightening
JP2680784B2 (ja) 焼鈍されたステンレス鋼帯の脱スケール方法及び装置