PL234014B1 - Sposób wytwarzania sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru metodami mikroskopii ze skanującą sondą - Google Patents

Sposób wytwarzania sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru metodami mikroskopii ze skanującą sondą Download PDF

Info

Publication number
PL234014B1
PL234014B1 PL423540A PL42354017A PL234014B1 PL 234014 B1 PL234014 B1 PL 234014B1 PL 423540 A PL423540 A PL 423540A PL 42354017 A PL42354017 A PL 42354017A PL 234014 B1 PL234014 B1 PL 234014B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
blade
probe
measuring
chamber
fib
Prior art date
Application number
PL423540A
Other languages
English (en)
Other versions
PL423540A1 (pl
Inventor
Adam Łaszcz
Paweł Janus
Andrzej CZERWIŃSKI
Andrzej Czerwiński
Original Assignee
Siec Badawcza Lukasiewicz – Instytut Technologii Elektronowej
Sieć Badawcza Łukasiewiczinstytut Technologii Elektronowej
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siec Badawcza Lukasiewicz – Instytut Technologii Elektronowej, Sieć Badawcza Łukasiewiczinstytut Technologii Elektronowej filed Critical Siec Badawcza Lukasiewicz – Instytut Technologii Elektronowej
Priority to PL423540A priority Critical patent/PL234014B1/pl
Publication of PL423540A1 publication Critical patent/PL423540A1/pl
Publication of PL234014B1 publication Critical patent/PL234014B1/pl

Links

Landscapes

  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Description

Opis wynalazku
Dziedzina techniki
Wynalazek dotyczy sposobu tworzenia sondy pomiarowej, składającej się z ostrza i tzw. belki (ang. cantilever), podtrzymującej to ostrze, przeznaczonych do precyzyjnych pomiarów metodami z rodziny mikroskopii ze skanującą sondą (Scanning Probe Microscopy - SPM), z bezpośrednim podglądem miejsca pomiaru. Sondy tego typu znajdują zastosowanie zarówno w klasycznej mikroskopii sił atomowych (ang. Atomie Force Microscopy) jak i innych pokrewnych, gdzie ważny jest podgląd i precyzyjny wybór miejsca skanowania.
Przykładem takiej pokrewnej, zaawansowanej techniki może być skaningowa mikroskopia termiczna (SThM). Dzięki pomiarom temperatury w mikro- i nanoskali można także precyzyjnie określać takie wielkości termodynamiczne jak: ciepło, energię czy pojemność cieplną w wielu dziedzinach, jak np. w badaniach naukowych, diagnostyce medycznej czy przemyśle. Temperatura wpływa między innymi na niezawodność, a tym samym na intensywność uszkodzeń pojedynczych wytwarzanych elementów, układów czy całych przyrządów. Do pomiaru temperatury w mikro- i nanoskali wykorzystuje się zarówno metody kontaktowe jak i bezkontaktowe. Metody bezkontaktowe bazują na pomiarze promieniowania podczerwonego za pomocą detektora i układu optycznego bądź światłowodowego ogniskującego wiązkę promieniowania. Metody kontaktowe zaś bazują na technice AFM, gdzie ostrze wykonane jest w postaci elementu/nanoostrza czułego na zmiany temperatury oraz przewodzącego ciepło (np. rezystora metalicznego, termistora, przetwornika termoelektrycznego, złącza p-n) wchodzącego w kontakt z badaną próbką.
Stan techniki
Obecnie istnieją już opublikowane w pismach naukowych [1-2] rozwiązania sond pomiarowych z ostrzem wystającym poza krawędź belki służące do skanowania powierzchni materiału w mikroi nanoskali z bezpośrednim poglądem miejsca pomiaru:
[1] G. Wielgoszewski i inni, Microfabricated resistive high-sensitivity nanoprobe for scanning thermal microscopy, Journal of Vacuum Science & Technology B 28 (2010) C6N7-C6N11, [2] M. Moretti i inni, Reflection-mode TERS on Insulin Amyloid Fibrils with Top-Visual AFM Probes, Plasmonics 8 (2013) 25-33.
Na Fig. 4 przedstawiono schematyczny widok typowej sondy pomiarowej z ostrzem pionowym z rodziny sond skanujących powierzchnie materiału, a na Fig. 5 przedstawia schemat yczny widok sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru.
Sondy SThM z wystającym ostrzem, umożliwiające podgląd miejsca pomiaru są obecnie dostępne na rynku, jednak w proponowanym wynalazku sposób wytwarzania takiej sondy jest odmienny i cechują go dodatkowe funkcje. Dostępne na rynku konstrukcje sond pomiarowych do SThM umożliwiające skanowanie powierzchni próbki w mikro- i nanoskali z bezpośrednim podglądem miejsca pomiaru są wytwarzane np. przez Kelvin Nanotechnology (SThM probes, https://www.kelvinnanotechnology.com). Jednak w tych istniejących rozwiązaniach firmy Kelvin Nanotechnology cała sonda pomiarowa, składająca się z belki i ostrza, wykonana jest jako jeden obiekt monolityczny. Opis ten podaje, że samo ostrze pomiarowe tego monolitycznego obiektu powstaje w rezultacie wytwarzania techniką wielowarstwową przy użyciu elektronolitografii bez użycia masek (ang. direct writing electron beam lithography - EBL).
Inne dostępne na rynku rozwiązania sond umożliwiających podgląd miejsca pomiaru to:
- Top Visual Probes oraz SThM probes (www.ntmdt-tips.com)
- Top Visual Probes (https://kteknano.com)
- Top view cantilever (www.nauganeedles.com)
- Visible apex tip probes (https://afmprobes.asylumresearch.eu)
- TipView probes (http://probe.olympus-global.com)
- Tip view probes (http://www.appnano.com)
Znane są także opatentowane inne rozwiązania (US 5.336.369, US 2002/0152804 A1, US 7.010.966 B2, US 8.056.402 B2) wykonywania monolitycznych sond pomiarowych umożliwiające bezpośredni podgląd miejsca pomiaru. W przedstawionych tam rozwiązaniach ostrze sondy zostaje wykonane na jednym z krańców belki, a sposób wytwarzania takich sond polega na zastosowaniu wielu procesów fotolitografii, osadzania cienkich warstw i mokrego lub suchego trawienia materiału.
Również w Instytucie Technologii Elektronowej (www.ite.waw.pl) wytwarzane są obecnie monolityczne sondy pomiarowe, umożliwiające bezpośredni podgląd miejsca pomiaru. Stosowany jest
PL 234 014 B1 do tego zestaw procesów fotolitografii wykorzystujących maski fot olitograficzne, procesy osadzania oraz trawienia.
W tych rozwiązaniach przedstawionych w publikacjach oraz zgłoszeniach patentowych i patentach sposób wytwarzania takich sond jest skomplikowany i wymaga wielu złożonych procesów technologicznych (m.in. stosowania warstw maskujących i procesów litografii, domieszkowania, implantacji i wielokrotnych trawień).
Istota wynalazku
Sposób wytwarzania sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru przeznaczonej do precyzyjnych pomiarów metodami z rodziny mikroskopii ze skanującą sondą, w którym wykonuje się płaską belkę oraz matrycę ostrzy w postaci ostrosłupów lub stożków na podłożu z wybranego materiału charakteryzuje się tym, że zawiera następujące etapy wykonywane w komorze urządzenia wykorzystującego zogniskowaną wiązkę jonów FIB (ang. focused ion beam - FIB):
a) umieszczenia płaskiej belki oraz matrycy ostrzy w komorze urządzenia FIB,
b) przymocowania igły manipulatora do ostrza za pomocą metalicznej spoiny,
c) odcięcia wybranego ostrza od podłoża przy podstawie ostrza pod skosem do podłoża przy użyciu zogniskowanej wiązki jonów,
d) przetransportowania ostrza do krawędzi płaskiej belki przy użyciu manipulatora,
e) połączenia ostrza z belką poprzez nałożenie metalicznej spoiny w miejscu styku belki i podstawy ostrza i dołączenie ostrza do belki w ten sposób, aby ostrze było umieszczone pod powierzchnią belki przy jednej z jej krawędzi na swobodnym końcu belki tak, aby wierzchołek ostrza wystawał poza krawędź swobodnego końca belki,
f) odcięcia igły manipulatora od ostrza przy użyciu zogniskowanej wiązki jonów.
Korzystnie, po etapie f) przeprowadza się etap g), w którym precyzyjnie ostrzy się wierzchołek ostrza do rozmiarów nanometrowych przy użyciu zogniskowanej wiązki jonów.
Ewentualne korzystne skutki wynalazku w odniesieniu do stanu techniki
Rozwiązanie według wynalazku jest mniej złożone w porównaniu z rozwiązaniami znanymi ze stanu techniki, jest tańsze dla produktów na indywidualne zamówienie klienta (ang. customized) i pozwala na bardzo szeroki zestaw możliwych materiałów.
Sposób wytwarzania sondy według wynalazku pozwala na integrację ostrza z belką dla bardzo różnorodnych materiałów, np. półprzewodników czy metali. Jest przy tym stosunkowo prosty. Zaproponowane rozwiązanie według wynalazku znacznie upraszcza wykonanie takiego typu sond pomiarowych w stosunku do wytwarzania takich struktur za pomocą innych dotychczasowych sposobów, m.in. przy użyciu klasycznej fotolitografii optycznej, rentgenolitografii lub elektronolitografii. Wytworzenie płaskich belek oraz zestawu wielu ostrzy i połączenie ich techniką FIB jest prostsze i tańsze, niż wykonanie innymi metodami skomplikowanych struktur heterogenicznych sond pomiarowych.
Urządzenie FIB wykorzystuje zogniskowaną wiązkę jonów i pozwala na prowadzenie z dużą dokładnością operacji technologicznych w skali mikro- i nanometrowej, a więc umożliwia wykonywanie zminiaturyzowanych przyrządów.
Ponadto sposób według wynalazku pozwala nie tylko na wytwarzanie nowych sond pomiarowych, a umożliwia także regenerację zużytej sondy poprzez wymianę zużytego ostrza na nowe ostrze przy pozostawieniu dotychczasowej belki pomiarowej, co ogranicza w tym przypadku koszty otrzymania sprawnie działającej sondy pomiarowej (belki z ostrzem).
Figury rysunków
Przedmiot wynalazku w przykładzie wykonania jest uwidoczniony na rysunkach, na których:
Fig. 1a przedstawia schematyczny widok odciętego od podłoża ostrza pomiarowego zgodnie ze sposobem według wynalazku,
Fig. 1b przedstawia schematyczny widok sondy wytworzonej zgodnie ze sposobem według wynalazku,
Fig. 2 przedstawia wybrane ostrze odcięte w komorze FIB pod skosem do podłoża matrycy i połączone spoiną z igłą manipulatora (widok odpowiada Fig. 1 a, przy czym przecięcie ostrza jest pokazane wzdłuż płaszczyzny przecięcia, a skos przecięcia względem podłoża jest zapewniony przez widoczne odpowiednie przechylenie podłoża),
Fig. 3 przedstawia ostrze przytwierdzone za pomocą metalicznej spoiny do krawędzi płaskiej belki w ten sposób, aby wierzchołek ostrza wystawał poza krawędź belki.
PL 234 014 B1
Przykład realizacji wynalazku
Wytwarzanie sondy pomiarowej do precyzyjnych pomiarów umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru metodami mikroskopii ze skanującą sondą przeprowadza się według wynalazku w komorze urządzenia FIB. Wytworzenie takiej sondy pomiarowej, poprzez integrację ostrza z belką, wykonuje się według wynalazku w trakcie jednego cyklu technologicznego w komorze urządzenia FIB, wyposażonego w układ manipulacyjny umożliwiający zastosowanie znanej techniki lift-out. Technika ta nie była dotychczas stosowana do integracji ostrzy oraz belek w celu wytworzenia sond pomiarowych umożliwiających bezpośredni podgląd miejsca pomiaru.
Zasada działania techniki lift-out polega na użyciu manipulatora zintegrowanego z systemem FIB i wyposażonego w igłę, do której mocuje się wybrany element i transportuje się go w miejsce docelowe, a następnie łączy się go ze strukturą docelową.
Najpierw za pomocą małej liczby prostszych procesów fotolitografii i procesów trawienia (mokrego lub suchego) wykonuje się niezależnie wiele osobnych płaskich belek (bez ostrza). Belki te wykonuje się na przykład z półprzewodnika lub z metalu.
Niezależnie od powyższego procesu wytwarzania belki, za pomocą procesów fotolitografii i procesów trawienia, osobno wykonuje się matrycę wielu takich samych ostrzy. Każde ostrze w tej matrycy ma kształt ostrosłupa lub stożka i jest wykonane na przykład z półprzewodnika lub metalu.
Zgodnie ze sposobem według wynalazku, w etapie (a) wytworzone wcześniej zestawy osobnych belek oraz matrycę ostrzy umieszcza się w komorze urządzenia FIB.
W etapie (b) przymocowano igłę (2) manipulatora w komorze urządzenia FIB do wybranego ostrza (1) za pomocą metalicznej spoiny (3). Stosowano spoiny z Au, W, a najlepiej sprawdzają się spoiny z Pt.
W etapie (c) odcina się (4) ostrze (1) przy jego podstawie pod skosem do podłoża przy użyciu trawienia zogniskowaną wiązką jonów.
Po zakończeniu etapu (c), w tym samym urządzeniu w etapie (d) ostrze (1) transportuje się do krawędzi płaskiej belki (5) przy użyciu manipulatora w komorze FIB.
W etapie (e) ostrze (1) łączy się z belką (5) poprzez nałożenie metalicznej spoiny (6) w miejscu styku belki i podstawy ostrza (1) w ten sposób, aby ostrze (1) było umieszczone pod powierzchnią belki przy jednej z jej krawędzi na swobodnym końcu belki, tak aby wierzchołek ostrza (7) wystawał poza krawędź swobodnego końca belki.
W etapie (f) odcina się (8) igłę manipulatora (2) od ostrza (1) przy użyciu trawienia zogniskowaną wiązką jonów.
Korzystnie jest w etapie (g) precyzyjnie zaostrzyć wierzchołek (7) ostrza (1) do założonej wartości jego promienia, typowo pomiędzy 50 nm a 100 nm, przy użyciu trawienia zogniskowaną wiązki jonów.
Dla procesów trawienia zogniskowaną wiązką jonów i nakładania materiałów w FIB stosuje się energię skupionej wiązki jonowej w zakresie od 1 kV do 30 kV i prądy wiązki jonowej od 1 pA do 65 nA.
W sposobie według wynalazku określa się niezależne parametry wykonania tj. energię i prąd wiązki, które pozwalają na prawidłowe wykonanie poszczególnych etapów procesu w odpowiednim czasie trwania etapów procesu (odcinania, łączenia), zależnie od rodzaju materiału ostrza.
Otrzymany produkt
Sonda pomiarowa, wytworzona sposobem według wynalazku, posiada ostrze (1) przymocowane do belki (5) za pomocą spoiny (6) i umiejscowione na końcu płaskiej struktury belki w miejscu, gdzie podstawa ostrza (1) bezpośrednio styka się z belką a wierzchołek ostrza (7) wystaje poza swobodną krawędź belki. Dzięki temu, że ostrze sondy, patrząc z góry, wystaje poza swobodną krawędź belki możliwy jest bezpośredni podgląd miejsca pomiaru.
Sonda wytworzona sposobem według wynalazku jest przeznaczona do precyzyjnych pomiarów metodami mikroskopii ze skanującą sondą SPM (czyli AFM, SThM, lub innych pokrewnych).
Testy wytrzymałościowe ostrza przytwierdzonego tym sposobem do belki w komorze urządzenia FIB, polegające na wywieraniu silnego nacisku igłą manipulatora FIB na ściany boczne oraz na wierzchołek ostrza, wykazały, że ostrze nie zostało oderwane od belki.
Zastosowanie wynalazku
Możliwymi przemysłowymi zastosowaniami wynalazku są takie dziedziny jak nanofotonika, nanoelektronika i nanobioelektronika, nanotermika, inżynieria materiałowa, czy inne pokrewne. Sposób według wynalazku w szczególności może być wykorzystany do wytwarzania specjalizowanych sond
PL 234 014 B1 na zindywidualizowane zamówienie klienta (ang. customized), czyli do wytwarzania małoseryjnego, np. do zastosowań naukowo-badawczych.
Wynalazek w postaci sondy pomiarowej przeznaczony jest do precyzyjnych pomiarów metodami z rodziny mikroskopii ze skanującą sondą (SPM), polegających na skanowaniu w mikro- i nanoskali powierzchni próbki, np. w celu określenia chropowatości powierzchni lub lokalnego rozkładu temperatury w mikro- i nanoobszarach. Długotrwałe działanie temperatury obniża niezawodność a tym samym powoduje degradację pojedynczych elementów, układów czy całych przyrządów dlatego istotne jest stosowanie precyzyjnych technik pomiarowych tego parametru.
W przypadku pomiarów temperatury w mikro- i nanoobszarach można także precyzyjnie określać takie wielkości termodynamiczne jak: ciepło, energię czy pojemność cieplną, które mają szczególne znaczenie w dziedzinach takich jak np. badania naukowe, diagnostyka medyczna czy różne gałęzie przemysłu.

Claims (1)

  1. Zastrzeżenie patentowe
    1. Sposób wytwarzania sondy pomiarowej do precyzyjnych pomiarów powierzchni materiału w mikro- i nanoskali, umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru, w którym wykonuje się płaską belkę oraz matrycę ostrzy w postaci ostrosłupów lub stożków z wybranego materiału, znamienny tym, że zawiera następujące etapy:
    a) umieszczenia płaskiej belki (5) oraz matrycy ostrzy w komorze urządzenia FIB,
    b) przymocowania igły (2) manipulatora w komorze urządzenia FIB do wybranego ostrza (1) za pomocą metalicznej spoiny (3),
    c) odcięcia (4) ostrza (1) od podłoża przy podstawie ostrza (1) pod skosem do podłoża przy użyciu zogniskowanej wiązki jonów,
    d) przetransportowania ostrza (1) do krawędzi płaskiej belki (5) przy użyciu manipulatora w komorze urządzenia FIB,
    e) połączenia ostrza (1) z belką (5) poprzez nałożenie metalicznej spoiny (6) w miejscu styku belki (5) i podstawy ostrza (1) w komorze urządzenia FIB i dołączenie ostrza (1) do belki (5) w ten sposób, aby ostrze (1) było umieszczone pod powierzchnią belki (5) na swobodnym końcu belki, tak aby wierzchołek ostrza (7) wystawał poza krawędź swobodnego końca belki (5),
    f) odcięcia (8) igły (2) manipulatora od ostrza (1) przy użyciu zogniskowanej wiązki jonów.
PL423540A 2017-11-22 2017-11-22 Sposób wytwarzania sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru metodami mikroskopii ze skanującą sondą PL234014B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL423540A PL234014B1 (pl) 2017-11-22 2017-11-22 Sposób wytwarzania sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru metodami mikroskopii ze skanującą sondą

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL423540A PL234014B1 (pl) 2017-11-22 2017-11-22 Sposób wytwarzania sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru metodami mikroskopii ze skanującą sondą

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL423540A1 PL423540A1 (pl) 2019-06-03
PL234014B1 true PL234014B1 (pl) 2019-12-31

Family

ID=66649199

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL423540A PL234014B1 (pl) 2017-11-22 2017-11-22 Sposób wytwarzania sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru metodami mikroskopii ze skanującą sondą

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL234014B1 (pl)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7009188B2 (en) * 2004-05-04 2006-03-07 Micron Technology, Inc. Lift-out probe having an extension tip, methods of making and using, and analytical instruments employing same
EP2235723B1 (en) * 2007-12-28 2021-10-13 Bruker Nano, Inc. Method of fabricating a probe device for a metrology instrument and probe device produced thereby
US8214918B2 (en) * 2008-11-26 2012-07-03 The Regents Of The University Of California Probes for enhanced magnetic force microscopy resolution
JP5044003B2 (ja) * 2010-08-31 2012-10-10 日本電信電話株式会社 プローブの作製方法およびプローブ、ならびに走査プローブ顕微鏡

Also Published As

Publication number Publication date
PL423540A1 (pl) 2019-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6953519B2 (en) Method of manufacturing the multi-tip probe, a multi-tip probe, and surface characteristic analysis apparatus
US7304486B2 (en) Nano-drive for high resolution positioning and for positioning of a multi-point probe
Petersen et al. Scanning microscopic four-point conductivity probes
EP1243915B1 (en) Apparatus for evaluating electrical characteristics
US20120080596A1 (en) Laser Atom Probe and Laser Atom Probe Analysis Methods
US20070114457A1 (en) Nano tip and fabrication method of the same
TWI656347B (zh) 檢查樣品表面的掃描探針顯微鏡及方法
EP1698905B1 (en) Nano-drive for high resolution positioning and for positioning of a multi-point probe
US20070018098A1 (en) Nanotube probe and method for manufacturing the same
US20110167913A1 (en) Imaging devices for measuring the structure of a surface
Nakabeppu et al. Microscale temperature measurement by scanning thermal microscopy
WO2005103646A1 (ja) 走査プローブ顕微鏡探針及びその製造方法並びに走査プローブ顕微鏡及びその使用方法並びに針状体及びその製造方法並びに電子素子及びその製造方法並びに電荷密度波量子位相顕微鏡並びに電荷密度波量子干渉計
PL234014B1 (pl) Sposób wytwarzania sondy pomiarowej umożliwiającej bezpośredni podgląd miejsca pomiaru metodami mikroskopii ze skanującą sondą
JP2007078679A (ja) 探針形状評価用標準試料
EP2535725A1 (en) A probe for scanning probe microscopy
PL234015B1 (pl) Sposób wytwarzania heterogenicznej sondy pomiarowej do precyzyjnych pomiarów powierzchni materiału w mikro-i nanoskali z pionowym ostrzem
Olfat et al. A single-chip scanning probe microscope array
Kawamoto et al. Nanoscale characterization of the thermal interface resistance of a heat-sink composite material by in situ TEM
Wheeler et al. Small scale mechanical characterization of thin foil materials via pin load microtesting
Jin et al. A MEMS device for in-situ TEM test of SCS nanobeam
Wang et al. Electrical conductivity and Seebeck coefficient measurements of single nanowires by utilizing a microfabricated thermoelectric nanowire characterization platform
PL234013B1 (pl) Sposób wytwarzania sondy pomiarowej do precyzyjnych pomiarów powierzchni materiału w mikro-i nanoskali z ostrzem diamentowym
KR20140141628A (ko) 고정밀 나노 구조를 제거하는 방법, 부분 자립층, 부분 자립층을 포함하는 센서, 및 그 센서를 사용하는 방법
Ortiz et al. Assessing failure in epitaxially encapsulated micro-scale sensors using micro and nano x-ray computed tomography
JP4431733B2 (ja) 超高真空走査型プローブ顕微鏡