PL232840B1 - Sposób wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym o ulepszonych właściwościach czyszczących - Google Patents

Abstract

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym o ulepszonych właściwościach czyszczących stanowiący ulepszenie wynalazku według zgłoszenia patentowego P-401124. Sposób charakteryzuje się tym, że roztwory kwasów solnego i fluorowodorowego po oczyszczeniu nimi podłoża szklanego usuwa się z niego metodą spłukiwania ich zdemineralizowaną wodą oczyszczoną metodą odwróconej osmozy, której przewodnictwo elektrolityczne nie przekracza 15 mikrosimensów, natomiast proces trawienia warstwy antyrefleksyjnej na powierzchni tej tafli szklanej prowadzi się w kąpieli złożonej z roztworu wodnego 15% kwasu heksafluorokrzemowego, do którego na każde jego 100 g dodaje się 11,5 g uwodnionej krzemionki, a na każde 100 ml tego roztworu dodaje się 7 ml 2% kwasu borowego, 3 ml kwasu fosforowego, 2 ml wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu oraz 2 ml niejonowego środka powierzchniowo czynnego.

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym o ulepszonych właściwościach czyszczących.

Znany z polskiego opisu zgłoszenia patentowego wynalazku nr P - 401124 sposób wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym o ulepszonych właściwościach czyszczących, charakteryzuje się tym, że podłoże szklane poddaje się procesowi oczyszczania metodą zanurzania korzystnie w wodnym roztworze kwasu fluorowodorowego lub w kwasie solnym i kwasie fluorowodorowym, po czym powierzchnie czynne tak oczyszczonego podłoża szklanego poddaje się procesowi trawienia tej powłoki w kąpieli trawiącej z zastosowaniem procesu wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu, przy czy proces trawienia warstwy antyrefleksyjnej prowadzi się w kąpieli złożonej z roztworu wodnego 15% kwasu heksafluorokrzemowego, do którego na każde jego 100 g dodaje się od 11-15 g uwodnionej krzemionki i 0,1-3 g fluorku potasu, a na każde 100 ml tego roztworu dodaje się 8-12 ml 2% wodnego roztworu kwasu borowego, 1-3 ml wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu oraz 1-4 ml niejonowego środka powierzchniowo czynnego, przy czym proces tego trawienia prowadzi się w temperaturze 40-50°C i w czasie 40-80 min.

Korzystnym jest gdy stężenie jonów fluorkowych w kąpieli oczyszczającej wynosi 0,5-3%, a jako niejonowy środek powierzchniowo czynny korzystnie stosuje się Rokanol, lub addukt tlenku etylenu do alkoholu izobutylowego lub eter polioksyetylenowy alkoholu laurylowego.

Niedogodnością sposobu według wynalazku jest znacznie wydłużony czas prowadzenia procesu wytrawiania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym i uzyskiwana zbyt ograniczona ilości dyspersji teflonu w roztworze, co utrudnia czyszczenie takiego szkła.

Celem wynalazku jest opracowanie takiego sposobu wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym, w którym tak dobrano skład chemiczny jego kąpieli odtłuszczającej i kąpieli trawiącej, że zastosowane w nich nowe środki chemiczne nieoczekiwanie pozwalają na znaczne skrócenie prowadzenia tego procesu, zachowując jednocześnie należytą jednorodność i jakość otrzymanej powłoki.

Zgodnie z wynalazkiem sposób wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym o ulepszonych właściwościach czyszczących polega na tym, że po oczyszczeniu podłoża tafli szklanej roztworem kwasu fluorowodorowego lub kwasu solnego i kwasu fluorowodorowego roztwory te usuwa się z niego metodą spłukiwania ich zdemineralizowaną wodą oczyszczoną metodą odwróconej osmozy, której przewodnictwo elektrolityczne nie przekracza 15 mikrosimensów, po czym tak oczyszczo ne powierzchnie czynne tej tafli poddaje się procesowi trawienia warstwy antyrefleksyjnej w kąpieli złożonej z roztworu wodnego 15% kwasu heksafluorokrzemowego, do którego na każde jego 100 g dodaje się 11,5 g uwodnionej krzemionki, a na każde 100 ml tego roztworu dodaje się 7 ml 2% kwasu borowego, 3 ml kwasu fosforowego, 2 ml wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu oraz 2 ml niejonowego środka powierzchniowo czynnego.

Nieoczekiwanie stwierdzono, że usunięcie w sposobie według wynalazku pozostałości wodnych roztworów kwasu solnego i kwasu fluorowodorowego z oczyszczanej nimi tafli szklanej poprzez spłukanie jej zdemineralizowaną wodą oczyszczoną metodą odwróconej osmozy oraz zastosowanie w składzie kąpieli trawiącej zamiast fluorku potasu, kwasu fosforowego pozwoliło zarówno na znaczne przyspieszenie procesu wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na powierzchni tafli szklanej jak i na zwiększenie dyspersji teflonu w roztworze, co z kolei pozwoliło na usprawnienie czyszczenia powierzchni z takimi powłokami. Pozwoliło to także na poprawę jednorodności i jakości wytwarzanej powłoki antyrefleksyjnej, uzyskiwanie tafli szklanej o małym współczynniku odbicia światła nieprzekraczającym 3,2% oraz o powierzchni łatwej do czyszczenia i trudno brudzącej.

Przedmiot wynalazku został bliżej objaśniony w przykładzie wykonania, nieograniczającym jego zakresu.

P r z y k ł a d

Półwyrób tafli szklanej przeznaczony do wykonania na nim powłoki antyrefleksyjnej dokładnie odtłuszczono w 6% wodnym roztworze kwasu solnego (HCI) w czasie 30 sekund, po czym zanurzono go w 1,5% roztworze kwasu fluorowodorowego (HF) przez około 90 sekund, a następnie usunięto z powierzchni tej tafli ten kwas poprzez spłukanie go zdemineralizowaną wodą oczyszczoną metodą odwróconej osmozy, przy czym przewodnictwo elektrolityczne tej wody nie przekraczało 15 mikrosimensów, w wyniku czego z tafli tej usunięto również wierzchnią warstwę szkła. Następnie wysuszoną taflę

PL 232 840 B1 szklaną zanurzono w wannie z kąpielą o temperaturze 45°C zawierającą 15% kwasu heksafluorokrzemowego (H2S1F6), do którego na każde jego 100 g dodano 11,5 g uwodnionej krzemionki, a na każde 100 ml tego roztworu dodano 7 ml 2% kwasu borowego (H3BO3) 3 ml kwasu fosforowego (H3PO4), 2 ml wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu oraz 2 ml niejonowego środka powierzchniowo czynnego, znanego pod nazwą handlową Rokanol IB2, po czym prowadzono proces chemicznej obróbki powierzchni tej tafli w czasie 70 minut i w temperaturze 45°C. Po zakończeniu tego procesu na wytrawionej i wysuszonej powierzchni tafli szklanej uzyskano powłokę antyrefleksyjną, o niewielkim współczynniku odbicia światła od obu jej powierzchni wynoszącym poniżej 3,2% oraz łatwą do oczyszczania jej a zarazem trudno brudzącą.

Zastrzeżenie patentowe

Claims (1)

1. Sposób wytwarzania powłok antyrefleksyjnych na podłożu szklanym o ulepszonych właściwościach czyszczących polegający na tym, że podłoże tafli szklanej poddaje się procesowi oczyszczania metodą zanurzania korzystnie w wodnym roztworze kwasu fluorowodorowego lub w kwasie solnym i kwasie fluorowodorowym, po czym powierzchnie czynne tak oczyszczonego podłoża szklanego poddaje się procesowi trawienia tej powłoki w kąpieli trawiącej z zastosowaniem procesu wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu w temperaturze 40-50°C i w czasie 40-80 minut, przy czym stężenie jonów fluorkowych w kąpieli oczyszczającej wynosi 0,5-3%, znamienny tym, że po oczyszczeniu podłoża tafli szklanej roztworem kwasu fluorowodorowego lub kwasu solnego i kwasu fluorowodorowego roztwory te usuwa się z niego metodą spłukiwania ich zdemineralizowaną wodą oczyszczoną metodą odwróconej osmozy, której przewodnictwo elektrolityczne nie przekracza 15 mikrosimensów, po czym tak oczyszczone powierzchnie czynne tej tafli poddaje się procesowi trawienia warstwy antyrefleksyjnej w kąpieli złożonej z roztworu wodnego 15% kwasu heksafluorokrzemowego, do którego na każde jego 100 g dodaje się 11,5 g uwodnionej krzemionki, a na każde 100 ml tego roztworu dodaje się 7 ml 2% kwasu borowego, 3 ml kwasu fosforowego, 2 ml wodnej dyspersji politetrafluoroetylenu oraz 2 ml niejonowego środka powierzchniowo czynnego.