PL211120B1 - Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek - Google Patents

Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek

Info

Publication number
PL211120B1
PL211120B1 PL376828A PL37682805A PL211120B1 PL 211120 B1 PL211120 B1 PL 211120B1 PL 376828 A PL376828 A PL 376828A PL 37682805 A PL37682805 A PL 37682805A PL 211120 B1 PL211120 B1 PL 211120B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
plate
ring
rings
balls
springs
Prior art date
Application number
PL376828A
Other languages
English (en)
Other versions
PL376828A1 (pl
Inventor
Dariusz Litwin
Jacek Galas
Tomasz Kozłowski
Stefan Sitarek
Original Assignee
Inst Optyki Stosowanej
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Optyki Stosowanej filed Critical Inst Optyki Stosowanej
Priority to PL376828A priority Critical patent/PL211120B1/pl
Publication of PL376828A1 publication Critical patent/PL376828A1/pl
Publication of PL211120B1 publication Critical patent/PL211120B1/pl

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

(12) OPIS PATENTOWY (19) PL (11) 211120 (13) B1 (21) Numer zgłoszenia: 376828 (51) Int.Cl.
H01L 21/00 (2006.01) H01L 21/68 (2006.01) H01L 21/687 (2006.01) (22) Data zgłoszenia: 30.08.2005 (54)
Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek
(43) Zgłoszenie ogłoszono: 05.03.2007 BUP 05/07 (73) Uprawniony z patentu: INSTYTUT OPTYKI STOSOWANEJ, Warszawa, PL
(45) O udzieleniu patentu ogłoszono: 30.04.2012 WUP 04/12 (72) Twórca(y) wynalazku: DARIUSZ LITWIN, Warszawa, PL JACEK GALAS, Łomianki, PL TOMASZ KOZŁOWSKI, Warszawa, PL STEFAN SITAREK, Grójec, PL
PL 211 120 B1
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest uchwyt pomiarowy do cienkich płytek o grubości mniejszej niż
100 μm, w szczególności płytek krzemowych.
Płytki krzemowe są stosowane jako podkład do nanoszenia warstw epitaksjalnych oraz do wytwarzania elementów elektronicznych. Muszą one spełniać wysokie wymagania pod względem czystości oraz gładkości powierzchni. Mimo, że płytki krzemowe powszechnie kojarzy się z przemysłem elektronicznym to istnieją również ich zupełnie nietypowe zastosowania. Komercyjna dostępność płytek krzemowych o średnicy 50 mm i grubości 50 μm skłoniła twórców mikroskopu helowego do zastosowania takiej płytki jako zwierciadła ogniskującego wiązkę neutralnych atomów helu.
Istnieje duże podobieństwo pomiędzy mikroskopem helowym a skaningowym mikroskopem elektronowym, z tą różnicą, że obraz próbki jest tworzony przez sygnał mierzony spektrometrem masowym. Poprzeczna rozdzielczość mikroskopu helowego zależy od średnicy ogniska wiązki helowej, która z kolei wynika z właściwości elementu skupiającego. Wspomniana płytka krzemowa dynamicznie ukształtowana przez odpowiednio dobrane pole elektryczne może być doskonałym zwierciadłem jednak pod warunkiem, że jej własności (wariancja grubości i falistość) mieści się w ściśle określonych tolerancjach. Dokładne pomiary tych parametrów na obszarze całej płytki wymagają odpowiedniego uchwytu, tak zaprojektowanego aby nie był on dodatkowym źródłem błędów kształtu.
Znane jest urządzenie do pomiaru grubości płytek krzemowych z publikacji na konferencji, na temat „Kosmiczny system teleskopowy do wykrywania promieniowania UV i Gamma , temat publikacji „Odbiciowe siatki na cienkich foliach w zastosowaniu do konstelacji - x. Ponadto znane są sposoby pomiaru grubości płytek krzemowych z norm amerykańskich [5,6,7,], dotyczą one jednak płytek o grubości większej niż 100 μm, co wynika z założenia, że ugięcie płytki ustawionej poziomo na trzech podporach (zwykle kulkach) rozstawionych na obwodzie co 120° spowodowane siłą grawitacji jest pomijalne. W przypadku płytki o grubości mniejszej od 100 μm założenie powyższe nie jest prawdziwe i konieczne staje się pionowe ustawienie badanej płytki. Uchwyt taki został zaproponowany przy okazji badania jakości powierzchni cienkich płytek krzemowych użytych do budowy odbiciowego spektrometru siatkowego (Reflection Grating Spectrometer). W uchwycie tym jednak jedna strona płytki przylegała do nieruchomych kulek tworzących w ten sposób pierścień bazowy. Płytka musiała układać się względem tego pierścienia i wszystkie pary kulek znajdowały się w jednej płaszczyźnie. W rezultacie pierścień ten wprowadzał dodatkowe naprężenia i wymuszał do pewnego stopnia kształt płytki (przynajmniej w jej zewnętrznej części). W związku z tym mierzony kształt płytki nie był kształtem oryginalnym. Jednocześnie sprawdzanie dużej ilości płytek było bardzo uciążliwe ze względu na skomplikowany sposób wkładania i niebezpieczeństwo łatwego uszkodzenia, (zarysowania) wypolerowanej powierzchni. Wkładanie płytek następowało w pozycji pionowej po lekkim odgięciu dociskających płytek. Jednoczesne odchylenie tych trzech kulek było dla operatora dość kłopotliwe.
Ze względu na małą grubość płytki mierzonej w stosunku do jego średnicy, uchwyt musi zapewnić takie położenie płytki, aby nie ulegała ona odkształceniom pod wpływem własnego ciężaru. Siła unieruchamiająca płytkę musi być znikoma, a płytka nie może być naprężona. Uchwyt musi mieć zabezpieczenie awaryjne na wypadek niepożądanego przemieszczenia się płytki, np. pod wpływem bodźców zewnętrznych. Uchwyt powinien zapewniać łatwość umieszczania w nim i wyjmowania z niego płytki oraz powinien być szybko i jednoznacznie unieruchamiany w gnieździe.
Istotą rozwiązania jest uchwyt pomiarowy do cienkich płytek w szczególności krzemowych, złożony z dwóch pierścieni, w których na obwodzie, dokładnie naprzeciw siebie, osadzone są precyzyjne trzy pary kulek dociskanych płaskimi sprężynami o identycznej charakterystyce. Pierścienie, z których jeden jest stały a drugi odłączany umieszczone są na wsporniku w pozycji pionowej. W pierścieniu stałym na obwodzie symetrycznie umieszczonych jest sześć zderzaków o identycznej precyzyjnie ustalonej wysokości, oraz trzy stożkowe kołki, zapewniające precyzyjne złożenie pierścieni oraz dwa zameczki do blokowania złożonych pierścieni.
Zderzaki ustalają siłę nacisku sprężyn oraz tworzą gniazdo dla płytki mierzonej. Płytka mierzona ustawiona jest w uchwycie w pozycji pionowej celem uniknięcia deformacji kształtu spowodowanej grawitacją, unika się wpływu ugięcia grawitacyjnego, a tym samym umożliwia to pomiar cienkich płytek o grubości mniejszej niż 100 nm.
Uchwyt zapewnia swobodny dostęp głowic pomiarowych z obu stron płytki, co umożliwia jednoczesny pomiar zarówno kształtu (falistości) obu powierzchni płytki jak i wariancji jej grubości.
PL 211 120 B1
Położenie płytki ustalają dwa zestawy kulek, po trzy kulki z każdej strony płytki. Kulki znajdują się dokładnie naprzeciw siebie i są dociskane do płytki za pomocą identycznych płaskich sprężyn, ukośnie usytuowanych, umożliwiając zmniejszenie średnic pierścieni. Dzięki takiej konfiguracji siła wynikowa wywierana przez kulki na płytkę stanowi różnicę sił z jaką działają odpowiadające sobie sprężyny. Siła wynikowa jest tak dobrana aby siła tarcia wynikająca z działania sprężyn równoważyła siłę grawitacji. Umieszczenie płytki pomiędzy parami odpowiadających sobie kulek dociskanych przez sprężyny nie wprowadza dodatkowych naprężeń i dzięki czemu nie zmienia się kształt płytki. Każda para kulek ustawia się w płaszczyźnie wynikającej z kształtu płytki niezależnie od pozostałych par. Możliwa jest więc sytuacja, w której każda para kulek znajduje się w innej płaszczyźnie.
Wielkość ugięcia sprężyn jest zdefiniowana sześcioma zderzakami o identycznej wysokości umieszczonymi w pierścieniu stałym. Obwiednia wewnętrzna zarysu tych zderzaków tworzy okrąg o średnicy odpowiadającej średnicy płytki tworząc rodzaj gniazda pozycjonującego płytkę i zabezpieczającego przed jego pionowym przypadkowym przemieszczeniem.
Konstrukcja uchwytu zapewnia zarówno powtarzalny sposób umieszczenia w nim płytki mierzonej jak i samego uchwytu na stanowisku pomiarowym. Obie te cechy pozwalają na wielokrotne przeprowadzenie pomiarów tej samej płytki przy jej identycznej orientacji względem głowic pomiarowych.
Uchwyt umożliwia jednoczesny pomiar falistości oraz wariancji grubości cienkich płytek o grubości poniżej 100 μm w szczególności płytek krzemowych.
Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykładzie wykonaniu na rysunku, którego fig. 1 przedstawia uchwyt pomiarowy w widoku z boku, fig. 2 - uchwyt w widoku z przodu, fig. 3 - przekrój A-A obrazujący sposób ustalania położenia płytki przez jedną z trzech par kulek, fig. 4 - przekrój odchylanego zameczka pierścieni, fig. 5 - widok jednego z sześciu zderzaków, fig. 6 - przekrój pokazujący jeden z kołków stożkowych, oraz fig. 7 - uchwyt pomiarowy w widoku z przodu, po zdjęciu pierścienia odłączanego.
Uchwyt według wynalazku składa się z pierścienia stałego 1 i pierścienia odłączalnego 2 umieszczonych pionowo na wsporniku 3. W każdym z pierścieni wykonane są po trzy otwory, w których znajdują się precyzyjne szafirowe kulki 4 dociskane sprężynkami 5 osadzone ukośnie co gwarantuje zmniejszenie średnicy pierścieni 1 i 2. Sprężynki 5 odznaczają się identycznymi charakterystykami siła vs ugięcie. Siła docisku sprężyn jest tak dobrana, że wynikająca z niej siła tarcia pomiędzy kulkami a płytką mierzoną jest nieco większa od ciężaru płytki. Wielkość ugięcia sprężyn jest zdefiniowana sześcioma zderzakami 6 o identycznej wysokości, umieszczonymi w pierścieniu 1. Obwiednia wewnętrzna zarysu tych zderzaków tworzy okrąg o średnicy odpowiadającej średnicy płytki tworząc rodzaj gniazda pozycjonującego płytkę i zabezpieczającego przed jej pionowym przemieszczeniem. Pierścienie 1 i 2 są pozycjonowane względem siebie za pomocą trzech stożkowych kołków 7, gwarantujących położenie kulek dociskających 4 vis a vis. Po umieszczeniu płytki w gnieździe i zamknięciu jej pierścieniem 2, pierścienie 1 i 2 są połączone dwoma zameczkami odchylanymi 8.
Uchwyt ze wspornikiem 3 jest jednoznacznie pozycjonowany w przyrządzie pomiarowym w znany sposób.
Położenie mierzonej płytki w uchwycie ustalają pary kulek 4, osadzonych po trzy kulki 4 w każdym pierścieniu 1 i 2. Kulki 4 znajdują się dokładnie naprzeciw siebie i są dociskane do płytki mierzonej za pomocą identycznych płaskich sprężyn 5, przykręconych do pierścieni 1 i 2, od zewnętrznej strony każdego pierścienia. Na wewnętrznej powierzchni pierścienia stałego 1, osadzonych jest i rozmieszczonych symetrycznie sześć zderzaków 6, o identycznej wysokości, ustalając siłę nacisku sprężyn 5. Obwiednia wewnętrzna zarysu tych zderzaków 6 tworzy okrąg o średnicy odpowiadającej średnicy płytki mierzonej, tworząc rodzaj gniazda pozycjonującego płytkę i zabezpieczającego przed jej pionowym przypadkowym przemieszczeniem.
Wkładanie płytki może być przeprowadzone po wyjęciu uchwytu ze stanowiska pomiarowego i ułożeniu go w pozycji horyzontalnej, co zabezpiecza płytkę mierzoną przed przypadkowym wypadnięciem w trakcie wkładania. Włożenie płytki do uchwytu następuje po zluzowaniu i odchyleniu zaczepów 8 oraz zdjęciu odłączalnego pierścienia 2. Podczas pomiaru płytka mierzona znajduje się pomiędzy dwoma pierścieniami 1 i 2 uchwytu, co zabezpiecza przed jej przypadkowym uszkodzeniem lub zarysowaniem.
PL 211 120 B1

Claims (4)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek umieszczonych na pierścieniu bazowym i blokowanych parami kulek dociskowych, znamienny tym, że składa się z dwu pierścieni (1) i (2) umieszczonych pionowo na wsporniku (3), w których na obwodzie w otworach osadzone są trzy pary kulek (4), usytuowanych dokładnie naprzeciw siebie, kulki (4) dociskane są płaskimi sprężynami (5) o identycznej charakterystyce, ponadto w pierścieniu (1) na obwodzie symetrycznie osadzonych jest sześć zderzaków (6) o identycznej precyzyjnie ustalonej wysokości, definiującej wartość siły dociskającej sprężyn (5) oraz tworzących gniazdo osadcze dla mierzonej płytki.
  2. 2. Uchwyt według zastrz. 1, znamienny tym, że wspornik (3) z osadzonymi w nim pierścieniami (1) i (2) stanowi gniazdo osadcze w przyrządzie pomiarowym.
  3. 3. Uchwyt według zastrz. 1, znamienny tym, że pierścień (1) jest na stałe związany ze wspornikiem (3) a pierścień (2) jest odłączany.
  4. 4. Uchwyt według zastrz. 1, znamienny tym, że w stałym pierścieniu (1) osadzone są na obwodzie, trzy stożkowe kołki (7), pozycjonujące te pierścienie (1) i (2), przy montażu, oraz w dwa zameczki (8) do blokowania złożonych pierścieni (1) i (2).
PL376828A 2005-08-30 2005-08-30 Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek PL211120B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL376828A PL211120B1 (pl) 2005-08-30 2005-08-30 Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL376828A PL211120B1 (pl) 2005-08-30 2005-08-30 Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL376828A1 PL376828A1 (pl) 2007-03-05
PL211120B1 true PL211120B1 (pl) 2012-04-30

Family

ID=43014623

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL376828A PL211120B1 (pl) 2005-08-30 2005-08-30 Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL211120B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL376828A1 (pl) 2007-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6844929B2 (en) Apparatus and method for holding and transporting thin opaque plates
TWI553290B (zh) 用於透明零件計量之運動性固定件
JP4495919B2 (ja) プラナリゼーション装置
US9273952B2 (en) Grazing and normal incidence interferometer having common reference surface
JP6174323B2 (ja) 試験物を荷重と位置合わせするためのシステム及び方法
TWI750721B (zh) 系統與觀察及測試受測試器件(DUTs)陣列之複數個探針模組之定位方法
US12235097B2 (en) Diffractive optical element for a test interferometer
KR20110015272A (ko) 테스터 및 이를 구비한 반도체 디바이스 검사 장치
US20130241587A1 (en) Wafer stage
JP2007512075A (ja) 放射線検出器モジュール
PL211120B1 (pl) Uchwyt pomiarowy do cienkich płytek
JPS59972B2 (ja) テスト装置
TW452674B (en) Holding device for a substrate
KR100909707B1 (ko) 광학 렌즈용 계측 시스템 및 그를 이용한 렌즈의 특성 평가방법
JP6368971B2 (ja) 超精密形状測定装置
KR100930368B1 (ko) 광학 렌즈용 계측 시스템 및 그를 이용한 렌즈의 특성 평가방법
KR102823125B1 (ko) 기판 정렬을 위한 장치 및 방법
Neal et al. Testing highly aberrated large optics with a Shack-Hartmann wavefront sensor
JP3221862U (ja) 較正アーチファクトおよび較正アーチファクト用の保持装置
US6172757B1 (en) Lever sensor for stepper field-by-field focus and leveling system
TW201841811A (zh) 電子元件測試裝置用之載具
Gardner et al. Retrace error evaluation on a figure-measuring interferometer
EP0414770B1 (en) A fixture for supporting objects so that the objects will be absolutely firm
JP3210965B2 (ja) ボールステップゲージのボール間隔測定方法
Kondo et al. Comparison measurement between fizeau interferometer and scanning deflectomtric profiler

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20120830