PL179769B1 - Glass panel exhibiting antisolar properties for glazing windows and method of making same - Google Patents
Glass panel exhibiting antisolar properties for glazing windows and method of making sameInfo
- Publication number
- PL179769B1 PL179769B1 PL96314663A PL31466396A PL179769B1 PL 179769 B1 PL179769 B1 PL 179769B1 PL 96314663 A PL96314663 A PL 96314663A PL 31466396 A PL31466396 A PL 31466396A PL 179769 B1 PL179769 B1 PL 179769B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- tin
- antimony
- pane according
- coating
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 title abstract 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 title description 49
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 63
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 41
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 22
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 26
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 claims description 24
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 22
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 21
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 20
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical group Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 claims description 2
- IINYAMSVRHVISG-UHFFFAOYSA-N CCCCC1=CC[ClH][ClH][ClH]C=C1 Chemical compound CCCCC1=CC[ClH][ClH][ClH]C=C1 IINYAMSVRHVISG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 11
- XXLJGBGJDROPKW-UHFFFAOYSA-N antimony;oxotin Chemical compound [Sb].[Sn]=O XXLJGBGJDROPKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 abstract 1
- 238000009498 subcoating Methods 0.000 description 28
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 11
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 8
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical group [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 3
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 2
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 2
- 229910008433 SnCU Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-8-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OC)=CC([N+]([O-])=O)=C21 MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYACWPQXPYXFA-UHFFFAOYSA-N [ClH]1[ClH][ClH]CC=CC=C1 Chemical compound [ClH]1[ClH][ClH]CC=CC=C1 DOYACWPQXPYXFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000003464 asthenopia Diseases 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
- C03C17/253—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3423—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings comprising a suboxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/244—Doped oxides with Sb
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Special Wing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Abstract
Description
Przedmiotem wynalazku jest szyba do oszkleń o własnościach przeciwsłonecznych i sposób wytwarzania takiej szyby.The present invention relates to a glazing pane with solar control properties and a method of manufacturing such a pane.
Odbijające, przezroczyste, kontrolujące promieniowanie słoneczne szyby, stały się przydatnymi materiałami dla architektów do stosowania na zewnętrznych fasadach budynków. Szyby takie robią estetyczne wrażenie, odbijając bliskie otoczenie, a ponieważ są dostępne w wielu kolorach, stwarzają duże możliwości projektowe. Szyby takie są również technicznie korzystne, ponieważ zapewniają użytkownikom budynków ochronę przed promieniowaniem słonecznym, poprzez odbicie i/lub absorpcję, a przez wyeliminowanie oślepiających efektów intensywnego promieniowania słonecznego i stworzenie skutecznej osłony przed jaskrawym światłem, podnoszą optyczny komfort i zmniejszają zmęczenie oczu.Reflective, transparent, solar control glazing has become useful materials for architects to use on the exterior facades of buildings. Such panes make an aesthetic impression, reflecting the close surroundings, and because they are available in many colors, they create great design possibilities. Such glazing is also technically advantageous as it provides building occupants with protection from solar radiation through reflection and / or absorption, and by eliminating the glare effects of intense solar radiation and providing an effective shield against glare, increasing optical comfort and reducing eye fatigue.
Z technicznego punktu widzenia pożądane jest, aby przez szyby nie przechodziła zbyt duża część całkowitego padającego promieniowania słonecznego, aby wnętrze budynku nie przegrzewało się w czasie słonecznej pogody. Transmisja całkowitego padającego promieniowania słonecznego może być określona przez „współczynnik słoneczny”. Stosowany w niniejszym opisie termin „współczynnik słoneczny”, oznacza sumę energii całkowitej bezpośrednio przetransmitowanej i energii, która została zaabsorbowana i ponownie wypromieniowana po drugiej stronie szyby, jako część całkowitej energii promienistej padającej na powleczoną szybę.From a technical point of view, it is desirable that too much of the total incident solar radiation does not pass through the glazing, so that the interior of the building does not overheat in sunny weather. The transmission of total incident solar radiation can be determined by the "solar factor". The term "solar coefficient" as used herein means the sum of the total energy directly transmitted and the energy that has been absorbed and re-radiated on the other side of the glazing as part of the total radiant energy incident on the coated glass.
Innym ważnym zastosowaniem odbijających, przezroczystych, kontrolujących promieniowanie słoneczne szyb, są szyby w pojazdach, a zwłaszcza w samochodach lub wagonach kolejowych, gdzie celem jest zabezpieczenie pasażerów przed promieniowaniem słonecznym. W tym przypadku, głównym, branym pod uwagę wskaźnikiem energetycznym jest całkowita energia bezpośrednio przetransmitowana (TE), ponieważ energia, która jest wewnętrznie zaabsorbowana i ponownie wyemitowana, jest rozpraszana przez ruch pojazdu. Tak więc, w przypadku szyb w pojazdach zasadniczym celem jest, aby miały niską wartość współczynnika TE.Another important application of reflective, transparent, solar-controlling glazing is in vehicle glazing, especially in cars or railroad cars, where the goal is to protect passengers from solar radiation. In this case, the main energy factor taken into account is Total Direct Transmitted Energy (TE), since the energy that is internally absorbed and re-emitted is dissipated by vehicle motion. Thus, in the case of vehicle glazing, it is a prime objective that they have a low TE value.
Omawiane w niniejszym opisie własności powlekanego substratu oparte są na standardowych definicjach International Commission on Illumination-Commission Internationale de 1’Eclairage („CIE”).The properties of the coated substrate as discussed herein are based on the standard definitions of the International Commission on Illumination-Commission Internationale de 1'Eclairage ("CIE").
Przytaczane tutaj standardowe iluminanty to: CIE Iluminant C i Iluminant A. Iluminant C oznacza przeciętne światło dzienne o temperaturze barwowej 6700°K. Iluminant A oznacza promieniowanie radiatora Planck’a w temperaturze około 2856°K.The standard illuminants quoted here are: CIE Illuminant C and Illuminant A. Illuminant C represents average daylight with a color temperature of 6,700 ° K. Illuminant A is Planck radiator radiation at approximately 2856K.
„Współczynnik przepuszczalności światła” (TL), jest strumieniem świetlnym przepuszczonym przez substrat, wyrażonym jako procent padającego strumienia."Light transmission coefficient" (TL) is the luminous flux transmitted through a substrate, expressed as a percentage of the incident flux.
„Współczynnik odbicia światła” (RL), jest strumieniem świetlnym odbitym od substratu, wyrażonym jako procent padającego strumienia."Light reflectance" (RL) is the luminous flux reflected from a substrate, expressed as a percentage of the incident flux.
„Selektywność” powleczonego szkła dla stosowanych w budynkach szyb jest stosunkiem współczynnika przepuszczalności świetlnej do współczynnika słonecznego (TL/FS).The "selectivity" of coated glass for building glazing is the ratio of the light transmission factor to the solar factor (TL / FS).
„Czystość” (p) koloru substratu odnosi się do czystości wzbudzania, mierzonej Iluminantem C. Jest wyspecyfikowana w skali liniowej, na której określone źródło światła białego ma czystość równą zero, a czysty kolor ma czystość równą 100%. Czystość powleczonego substratu mierzy się po przeciwnej stronie powłoki.The "purity" (p) of a substrate color refers to the excitation purity as measured by Illuminant C. It is specified on a linear scale where a specific white light source has a purity of zero and a pure color has a purity of 100%. The purity of the coated substrate is measured on the opposite side of the coating.
„Współczynnik załamania światła” (n), jest zdefiniowany w CIE International Lighting Vocabulary, 1987, str. 138."Refractive Index" (n) is defined in CIE International Lighting Vocabulary, 1987, p. 138.
„Dominująca długość fali” (Zd), oznacza pik długości fali w zakresie przepuszczalności lub odbicia przez powleczony substrat."Dominant wavelength" (Zd) means the peak wavelength in terms of transmission or reflection by a coated substrate.
„Emisyjność” (ε), oznacza stosunek energii wyemitowanej przez daną powierzchnię w danej temperaturze do tejże energii emitera doskonałego (ciało czarne o emisyjności 1,0) w tej samej temperaturze."Emissivity" (ε) means the ratio of the energy emitted by a given surface at a given temperature to that of a perfect emitter (black body with emissivity 1.0) at the same temperature.
Znanych jest wiele technologii wytwarzania powłok na szklistym substracie, w tym piroliza. Piroliza, na ogół ma tę przewagę, że wytwarza się twarda powłoka, która eliminuje konieczność stosowania warstwy ochronnej. Powłoki wytworzone na drodze pirolitycznej mają dobre własności przeciwkorozyjne i dobrą odporność na ścieranie. Przyjmuje się, że jest to związane zwłaszcza z procesem osadzania się materiału tworzącego powłokę na gorącym substracie. Na ogół, piroliza jest tańsza niż alternatywne procesy napylania próżniowego,Many technologies for producing coatings on a glassy substrate are known, including pyrolysis. Pyrolysis generally has the advantage of producing a hard coating that eliminates the need for a protective layer. The pyrolytic coatings have good anti-corrosive properties and good abrasion resistance. This is assumed to be related in particular to the deposition process of the coating material on the hot substrate. In general, pyrolysis is cheaper than alternative vacuum sputtering processes.
179 769 a zwłaszcza w kategoriach inwestycji przemysłowej. Osadzanie powłok innymi technikami, jak przykładowo przez napylanie próżniowe, prowadzi do otrzymania produktów o bardzo różnych własnościach, a zwłaszcza niższej odporności na ścieranie i przypadkowych, różnych współczynnikach załamania światła.179 769 and especially in terms of industrial investment. Deposition of the coatings by other techniques, such as vacuum spraying, for example, leads to products with very different properties, in particular lower abrasion resistance and random different refractive indices.
Zaproponowano wielką różnorodność materiałów do powlekania szyb i o wielu różnych pożądanych własnościach oszkleń. Powszechnie stosuje się tlenek cyny, SnOi, często w kombinacji z innymi materiałami, takimi jak tlenki metali.A great variety of glass coating materials have been proposed and with many different desired glazing properties. Tin oxide, SnOi, is commonly used, often in combination with other materials such as metal oxides.
Opis patentowy GB 1455148 dotyczy sposobu pirolitycznego wytwarzania powłoki na substracie z jednego lub kilku tlenków, przede wszystkim przez natryskiwanie związków metalu lub krzemu, dla modyfikacji transmisji światła i/lub odbicia od substratu lub w celu nadania własności antystatycznych lub przewodnictwa elektrycznego. Przykłady specyficznych tlenków obejmują ZrÓ2, SnOj, Sb2O3, T1O2, CO3O4, C^Ćty, S1O2 i ich mieszaniny. Tlenek cyny (SnO2), jest uważany za korzystny z powodu swojej twardości i własności antystatycznych lub przewodnictwa elektrycznego. Opis patentowy GB 2078213 dotyczy sekwencyjnego sposobu natryskiwania dla pirolitycznego utworzenia powłoki na szklistym podłożu, w szczególności z zastosowaniem tlenku cyny i tlenku indu jako głównych składników powłoki. Jeśli stosowanym metalem wstępnego powlekania jest chlorek cyny, korzystnie występuje on z domieszką prekursora wybranego spośród bifluorku amonu i chlorku antymonu dla zwiększenia elektrycznego przewodnictwa powłoki.GB 1,455,148 relates to a method of pyrolytically forming a coating on a substrate of one or more oxides, primarily by spraying metal or silicon compounds, to modify the light transmission and / or reflection from the substrate or to impart antistatic or electrical conductivity properties. Specific examples thereof include ZrO 2, SnOj, Sb2O3, T1O2, CO3O4, C CTY, S1O2, and mixtures thereof. Tin oxide (SnO2) is considered to be beneficial because of its hardness and antistatic or electrical conductivity. GB 2,078,213 relates to a sequential spraying method for pyrolytically forming a coating on a glassy substrate, in particular using tin oxide and indium oxide as the main components of the coating. When the precoating metal used is tin chloride, it is preferably admixed with a precursor selected from ammonium bifluoride and antimony chloride to increase the electrical conductivity of the coating.
Wiadomo jest również, że jeśli powłokę tlenku cyny wytwarza się na drodze pirolizy SnCU, obecność domieszki takiej jak chlorek antymonu SbCl5, bezpośrednio zmieszanej z chlorkiem cyny SnCU, poprawia absorbcję i odbicie części promieniowania słonecznego w bliskiej podczerwieni.It is also known that if the tin oxide coating is produced by pyrolysis of SnCU, the presence of a dopant such as antimony chloride SbCl 5 mixed directly with tin chloride SnCU improves the absorption and reflection of some of the near infrared solar radiation.
Celem niniejszego wynalazku jest pirolitycznie wytwarzana szyba do oszkleń o własnościach przeciwsłonecznych.The object of the present invention is a pyrolytically produced solar control glazing unit.
Odkryliśmy, ze ten i inne pożyteczne cele można osiągnąć stosując chemiczne osadzanie par (CVD) przy pirolitycznym powlekaniu obejmującym tlenki cyny i antymonu o specyficznym wzajemnym stosunku.We have found that this and other useful purposes can be achieved by using chemical vapor deposition (CVD) in a pyrolytic coating involving tin and antimony oxides with a specific relationship to one another.
A zatem, pierwszy aspekt niniejszego wynalazku, dotyczy szyby do oszkleń składającej się ze szklistego substratu, będącego nośnikiem warstwy powłoki tlenkowej cyna/antymon, zawierającej cynę i antymon w stosunku molowym Sb/Sn wynoszącym 0,01-0,5, przy czym wymienioną warstwę powłoki wytwarza się pirolitycznie na drodze chemicznego osadzania par, a w ten sposób powleczony substrat ma współczynnik słoneczny FS mniejszy niż 70%.Thus, a first aspect of the present invention relates to a glazing unit consisting of a glass substrate supporting a tin / antimony oxide coating layer containing tin and antimony in an Sb / Sn molar ratio of 0.01-0.5, said layer the coatings are produced pyrolytically by chemical vapor deposition and the coated substrate thus has a solar factor FS of less than 70%.
Korzystnie, substrat występuje w postaci wstęgi szklistego materiału, takiego jak szkło lub innego sztywnego, przezroczystego materiału. Biorąc pod uwagę, że część padającego promieniowania słonecznego jest absorbowana przez szybę, a zwłaszcza w środowisku w którym jest ona wystawiona na silne i długotrwałe promieniowanie słoneczne, co wywołuje efekt nagrzewania szyby, może to z kolei wymagać, aby szyba była uprzednio poddana procesowi hartowania. Jednakże, trwałość powłoki umożliwia montowanie szyby stroną powleczoną na zewnątrz, redukując w ten sposób efekt nagrzewania.Preferably, the substrate is in the form of a ribbon of a vitreous material such as glass or other rigid, transparent material. Considering that some of the incident solar radiation is absorbed by the glass, especially in an environment where it is exposed to strong and long-term solar radiation, which has the effect of heating the glass, this may in turn require that the glass be toughened beforehand. However, the durability of the coating allows the glazing to be mounted with the coated side outwards, thus reducing the heating effect.
Korzystnie, substrat jest utworzony z bezbarwnego szkła, pomimo, że wynalazek obejmuje swym zakresem również stosowanie szkła barwnego jako substratu.Preferably, the substrate is made of colorless glass, although the invention also encompasses the use of colored glass as the substrate.
Stosunek molowy Sb/Sn w warstwie powłoki, korzystnie, wynosi co najmniej 0,03, a zwłaszcza co najmniej 0,05, co zapewnia wysoki poziom absorbcji. Z drugiej strony wymieniony stosunek wynosi korzystnie mniej niż 0,21, aby uzyskać wysoką wartość współczynnika przepuszczalności światła (TL·). Najbardziej korzystny stosunek jest mniejszy niż 0,15, ponieważ powyżej tego poziomu warstwa powłoki wykazuje nadmierną absorbcję połączoną z niską selektywnością.The Sb / Sn molar ratio in the coating layer is preferably at least 0.03, in particular at least 0.05, which provides a high level of absorption. On the other hand, said ratio is preferably less than 0.21 in order to obtain a high value of the light transmission coefficient (TL ·). The most preferred ratio is less than 0.15 because above this level the coating layer exhibits excess absorption combined with low selectivity.
Powleczone substraty według niniejszego wynalazku, mają korzystny współczynnik odbicia światła (RL), niższy niż 11%. Niski poziom odbicia światła od szyb w budynkach jest bardzo ceniony przez architektów. Pozwala to na uniknięcie oślepiającego blasku szyb w bliskim otoczeniu budynku.The coated substrates of the present invention have a favorable light reflectance (RL) of less than 11%. Architects' low light reflection from building glass is highly appreciated by architects. This avoids the blinding glare of the glass in close proximity to the building.
Może być przydatne zapobieganie oddziaływaniu pomiędzy szkłem substratu, a warstwą powłoki tlenkowej cyna/antymon. Przykładowo, stwierdzono, że w pirolitycznie utworzonejIt may be useful to prevent an interaction between the substrate glass and the tin / antimony oxide coating layer. For example, it was found that pyrolytically formed
179 769 powłoce tlenku cyny z chlorku cyny na szkle sodowo-wapniowym, chlorek sodu powstający w wyniku reakcji szkła z wstępnym materiałem powlekającym lub produktami jego reakcji, ma tendencję do wnikania w powłokę, co prowadzi do zamglenia powłoki.The tin oxide coating of tin chloride on soda-lime glass, sodium chloride formed by the reaction of the glass with the pre-coating material or its reaction products, tends to penetrate the coating, leading to fogging of the coating.
A zatem, korzystnie, umieszcza się pośrednią warstwę redukującą zamglenie, pomiędzy substratem, a warstwą powłoki tlenkowej cyna/antymon. Warstwa redukująca zamglenie może być wytworzona pirolitycznie w stanie niepełnego utlenienia, poprzez kontakt substratu w komorze do nakładania podpowłoki, z materiałem wstępnym podpowłoki w obecności tlenu w ilości niewystarczającej do pełnego utlenienia materiału podpowłoki. Wyrażenie „materiał nie w pełni utleniony” jakie stosuje się w niniejszym opisie, oznacza tlenek o niższej wartościowości pierwiastka wielowartościowego (na przykład VO2 lub TiO), jak również tlenek, który zawiera „dziury” tlenowe w strukturze: przykładem tego ostatniego jest SiOx, gdzie x oznacza liczbę mniejszą niż 2, który może mieć ogólną strukturę S1O2, ale ma część „dziur”, które mogłyby być wypełnione tlenem w dwutlenku.Thus, preferably, an intermediate haze reducing layer is provided between the substrate and the tin / antimony oxide coating layer. The haze-reducing layer may be pyrolytically formed in an incomplete oxidation state by contacting the substrate in the subcoating chamber with the subcoating precoat in the presence of insufficient oxygen to fully oxidize the subcoating material. The expression "under-oxidized material" as used herein means an oxide with a lower valency of a multivalent element (for example, VO2 or TiO), as well as an oxide that contains oxygen "holes" in the structure: an example of the latter is SiO x . where x is a number less than 2, which may have the general structure of S1O2, but has some "holes" that could be filled with oxygen in the dioxide.
Korzystnie, warstwa powłoki redukująca zamglenie, składa się z tlenku krzemu o geometrycznej grubości około 100 nm. Obecność podpowłoki tlenku krzemu na szkle sodowowapniowym hamuje migrację jonów sodu ze szkła, bądź na drodze dyfuzji, bądź na innej drodze do warstwy powłoki tlenkowej cyna/antymon, w trakcie formowania zewnętrznej powłoki albo w czasie późniejszej wysokotemperaturowej obróbki termicznej.Preferably, the haze-reducing coating layer consists of silicon oxide with a geometric thickness of about 100 nm. The presence of a silicon oxide subcoating on the soda-lime glass inhibits the migration of sodium ions from the glass, either by diffusion or otherwise into the tin / antimony oxide coating layer, during the formation of the outer coating or during subsequent high temperature heat treatment.
Alternatywnie, podpowłoka może stanowić podpowłokę „przeciwodbiciową”, jak na przykład utleniona warstwa glin/wanad, opisana w opisie patentowym GB 2248243.Alternatively, the subcoating may be an "antireflection" subcoating, such as an oxidized aluminum / vanadium layer as described in GB 2,248,243.
Szyby do oszkleń według niniejszego wynalazku mają współczynnik słoneczny mniejszy niż 70%, korzystnie mniejszy niż 60%, a w niektórych przypadkach mniejszy niż 50%. Jeśli szyby według niniejszego wynalazku są usytuowane powierzchnią powleczoną na zewnątrz, to znaczy w stronę źródła energii, wówczas, korzystnie, powinny mieć współczynnik słoneczny niniejszy niz 60%. Na ogół, usytuowanie powierzchnią powleczoną w stronę źródła światła, poprawia współczynnik słoneczny w porównaniu do usytuowania odwrotnego. W tych częściach świata, gdzie jest duże nasłonecznienie, istnieje konieczność stosowania w budynkach szyb o współczynniku słonecznym mniejszym niż 50%. W przypadku dachów pojazdów może być pożądany nawet niższy współczynnik słoneczny.The glazing panes of the present invention have a solar factor of less than 70%, preferably less than 60% and in some cases less than 50%. If the glazing units according to the present invention are positioned with the coated surface towards the outside, i.e. towards the energy source, then they should preferably have a solar factor of less than 60%. In general, the orientation of the coated surface towards the light source improves the solar factor compared to the opposite. In those parts of the world where there is a lot of sunshine, it is necessary to use glass with a solar factor of less than 50% in buildings. In the case of vehicle roofs, an even lower solar factor may be desirable.
Jednym ze sposobów zapewniających niski współczynnik słoneczny jest powszechnie stosowane szkło barwne, zarówno w szybach budynków jak i pojazdów. Przy porównywaniu skuteczności warstw powłoki należy wziąć pod uwagę różne rodzaje szkła, na które nakłada się powłokę. I tak, w jednym z przykładów według niniejszego wynalazku, powłoka na szkle bezbarwnym daje współczynnik słoneczny 63%, podczas gdy identyczna na szkle zielonym daje współczynnik słoneczny 44,5%.One of the methods of ensuring low solar factor is the commonly used colored glass, both in building and vehicle windows. When comparing the effectiveness of the coating layers, the different types of glass to which the coating is applied should be taken into account. Thus, in one example of the present invention, a coating on a clear glass gives a solar factor of 63%, while an identical coating on green glass produces a solar factor of 44.5%.
Pożądane jest również, aby szyba przepuszczała także rozsądną część promieniowania widzialnego dla wytworzenia naturalnego oświetlenia wewnątrz budynku lub pojazdu i aby zapewniała użytkownikom dobrą widoczność na zewnątrz. A zatem, pożądane jest zwiększenie selektywności powłoki, to znaczy zwiększenie stosunku współczynnika przepuszczalności światła do współczynnika słonecznego. W rzeczywistości, korzystne jest osiągnięcie maksymalnej możliwej selektywności.It is also desirable that the glazing also transmits a reasonable proportion of visible radiation to produce natural lighting inside a building or vehicle and to provide users with good visibility outside. Thus, it is desirable to increase the selectivity of the coating, i.e. to increase the ratio of the light transmission to the solar factor. In fact, it is preferable to achieve the maximum selectivity possible.
Na ogół, korzystnie jest, aby współczynnik przepuszczalności światła (TL) szyby według niniejszego wynalazku wynosił 40-65%. Tym niemniej, szyba o współczynniku przepuszczalności światła poniżej 40% może być stosowana jako szyba dachowa w pojazdach.In general, it is preferred that the Light Transmission Index (TL) of the glazing of the present invention is 40-65%. However, a glazing with a light transmission factor of less than 40% can be used as a roof glass in vehicles.
Korzystnie, powłoka tlenkowa cyna/antymon ma grubość 100-500 nm. Grube warstwy tlenkowe cyna/antymon, a zwłaszcza o niskim stosunku molowym Sb/Sn, mogą zapewnić szybkie korzystne połączenie niskiego współczynnika słonecznego z niską emisyjnością. Innym sposobem otrzymywania tej kombinacji jest osadzenie na warstwie tlenkowej cyna/antymon według niniejszego wynalazku, warstwy o niskiej emisyjności z tlenku cyny z domieszką na przykład fluoru. Tym niemniej, nie jest to dogodne, ponieważ wymaga to osadzenia kolejnej warstwy, co jest czasochłonne i kosztowne.Preferably, the tin / antimony oxide coating is 100-500 nm thick. Thick tin / antimony oxide layers, and especially those with a low Sb / Sn molar ratio, can provide a quick advantageous combination of a low solar factor with low emissivity. Another way to obtain this combination is to deposit, on the tin / antimony oxide layer of the present invention, a low emissivity tin oxide layer doped with, for example, fluorine. However, this is not convenient as it requires another layer to be deposited, which is time consuming and costly.
Zasadniczo, innym sposobem uzyskania połączenia niskiego współczynnika słonecznego i niskiej emisyjności, może być utworzenie warstwy tlenkowej cyna/antymon zawierającej domieszkę takiego środka jak fluor. Na przykład, opis patentowy GB 2200139Essentially, another way to achieve the combination of low solar factor and low emissivity is to form a tin / antimony oxide layer in admixture with an agent such as fluorine. For example, GB patent specification 2200139
179 769 dotyczy sposobu wytworzenia pirolitycznej warstwy tlenku cyny poprzez natryskiwanie roztworem, który poza prekursorem cyny, dodatkowo zawiera związki, w wyniku obecności których powstała powłoka będzie zawierała fluor oraz co najmniej jeden z pierwiastków: antymon, arsen, wanad, kobalt, cynk, kadm, wolfram, tellur i mangan.179 769 relates to a method of producing a pyrolytic tin oxide layer by spraying with a solution which, apart from the tin precursor, additionally contains compounds, as a result of which the resulting coating will contain fluorine and at least one of the elements: antimony, arsenic, vanadium, cobalt, zinc, cadmium, tungsten, tellurium and manganese.
Tak więc, można przykładowo wytwarzać powłokę z reagentów zawierających cynę, antymon i fluor w stosunku Sb/Sn = 0,028, F/Sn = 0,04. Jednakże stwierdzono, że obecność fluoru bardziej przeszkadza we wnikaniu antymonu do powłoki niż skutecznie redukuje emisyjność. Na przykład, reagenty zawierające antymon i cynę w stosunku Sb/Sn = 0,028, dają powłokę o stosunku Sb/Sn = 0,057, podczas gdy te same reagenty z dodatkiem odczynnika zawierającego fluor w ilości takiej, że stosunek F/Sn = 0,04, dają powłokę o stosunku Sb/Sn około 0,038.Thus, for example, a coating can be formed from reagents containing tin, antimony and fluorine in a ratio of Sb / Sn = 0.028, F / Sn = 0.04. However, the presence of fluorine has been found to hinder the penetration of antimony into the coating more than it effectively reduces emissivity. For example, reagents containing antimony and tin in a ratio of Sb / Sn = 0.028 give a coating with a ratio of Sb / Sn = 0.057, while the same reagents with the addition of a fluorine-containing reagent in an amount such that the ratio F / Sn = 0.04. they give a coating with an Sb / Sn ratio of about 0.038.
Niniejszy wynalazek przedstawia taką korzyść, ze jednocześnie uzyskuje się współczynnik słoneczny (FS) poniżej 60%, emisyjność mniejszą niż 0,4 (korzystnie mniejszą niż 0,3), a współczynnik przepuszczalności światła (TL) wyższy niż 60%. I tak, powleczony produkt spełnia dwie ważne fhnkcje. W zimie zatrzymuje ciepło w budynku z powodu niskiej emisyjności. W lecie zapobiega wnikaniu ciepła słonecznego do budynku z powodu niskiego współczynnika słoneczego, co zapobiega przegrzewaniu budynku. Uzyskuje się to w szczególności stosując powłoki o stosunku Sb/Sn pomiędzy 0,01 a 0,12, a zwłaszcza 0,03 - 0,07 i grubości 100 - 500 nm, na przykład 250 - 450 run.The present invention offers the advantage that a Solar Coefficient (FS) of less than 60%, an emissivity of less than 0.4 (preferably less than 0.3) and a Light Transmission Coefficient (TL) of greater than 60% are simultaneously achieved. Thus, the coated product fulfills two important functions. In winter, it retains heat in the building due to its low emissivity. In summer, it prevents the penetration of solar heat into the building due to the low solar factor, which prevents the building from overheating. This is achieved in particular by using coatings with an Sb / Sn ratio between 0.01 and 0.12, in particular 0.03-0.07, and a thickness of 100-500 nm, for example 250-450 runes.
Korzystnie, warstwa powłoki tlenkowej cyna/antymon jest warstwą skierowaną na zewnątrz, a szyba ma tylko jedną taką warstwę powłoki tlenkowej cyna/antymon.Preferably, the tin / antimony oxide layer is an outward facing layer and the glass pane has only one such tin / antimony oxide layer.
Tym niemniej, aby osiągnąć niektóre pożądane własności optyczne, można nakładać jedną lub więcej dalszych warstw uzyskanych, bądź na drodze piroliozy, bądź innymi sposobami powlekania. Należy jednak zauważyć, ze warstwa tlenkowa cyna/antymon, wytworzona przez pirolizę, ma wystarczającą mechaniczną trwałość i odporność chemiczną, aby być odpowiednią warstwą skierowaną na zewnątrz.However, in order to achieve some desirable optical properties, one or more further layers may be applied, either by pyrolysis or by other coating methods. It should be noted, however, that the tin / antimony oxide layer produced by pyrolysis has sufficient mechanical durability and chemical resistance to be a suitable outward facing layer.
Szyby według niniejszego wynalazku, mogą być instalowane pojedynczo albo jako zestawy. Pomimo, że powleczona strona szyby może być zamontowana jako wewnętrzna strona szyby, tak aby powłoka nie była wystawiona na zmienne warunki atmosferyczne, które mogą bardzo szybko skrócić jej żywot poprzez zanieczyszczenie, uszkodzenia fizyczne i/lub utlenienie, to powłoki wytwarzane przez pirolizę mogą być wystawiane na działanie atmosferyczne z racji swojej większej odporności mechanicznej niż powłoki wytworzone innymi sposobami. Powłoki według niniejszego wynalazku mogą być stosowane w szybach klejonych, na przykład kiedy powierzchnia powleczona jest powierzchnią wewnętrzną zewnętrznej warstwy.The panes according to the present invention may be installed individually or as sets. Although the coated side of the glass can be mounted as the inside of the glass so that the coating is not exposed to changing weather conditions which can shorten its life very quickly due to contamination, physical damage and / or oxidation, the coatings produced by pyrolysis can be exposed. to weathering due to its greater mechanical resistance than coatings produced by other methods. The coatings of the present invention can be used in glued glazing, for example when the surface is coated with the inner surface of the outer layer.
Zgodnie z drugim sposobem wykonania niniejszego wynalazku, zapewnia się sposób wytwarzania szyby do oszkleń posiadającej warstwę tlenkową cyna/antymon, wytworzoną na drodze chemicznego osadzania par z mieszaniny reagentów na szklistym substracie, przy czym wymieniona mieszanina reagentów zawiera źródło cyny i antymonu o stosunku molowym Sb/Sn 0,01-0,5, a w ten sposób wytworzony, powleczony substrat ma współczynnik słoneczny FS mniejszy niż 70%.In accordance with a second embodiment of the present invention, there is provided a method of making a glazing pane having a tin / antimony oxide layer prepared by chemically depositing vapors from a mixture of reactants on a vitreous substrate, said mixture of reactants containing a source of tin and antimony having a Sb / mole ratio. Sn 0.01-0.5 and the coated substrate thus produced has a solar factor FS of less than 70%.
Jeśli jest wskazane wytwarzanie pirolitycznej powłoki na płaskiej tafli szklanej, korzystnie jest ją wykonać na świeżo utworzonym szkle. Postępowanie takie ma ekonomiczne uzasadnienie, ponieważ nie stwarza potrzeby powtórnego rozgrzewania szkła do reakcji pirolizy i również korzystna jest wówczas jakość powłoki, ponieważ zapewnia się powierzchnię szkła w pierwotnym stanie. A zatem, korzystnie, wymieniony materiał wstępny tworzący podpowłokę jest nanoszony na górną powierzchnię gorącego substratu szklanego, który jest świeżo uformowaną płaską szybą.If it is desired to produce a pyrolytic coating on a flat glass pane, it is preferably done on freshly formed glass. It is economically viable to do so, since there is no need to reheat the glass for pyrolysis reactions, and the quality of the coating is then also advantageous since the glass surface is kept in its original state. Thus, preferably, said subcoating pre-material is applied to the upper surface of a hot glass substrate, which is a freshly formed flat glass.
A więc, szyby do oszkleń według niniejszego wynalazku, mogą być wytworzone jak poniżej. Każdy etap pirolitycznego wytwarzania powłoki można przeprowadzić w temperaturze co najmniej 400°C, a idealnie w temperaturze 550°C - 750°C. Powłoki można wytwarzać na tafli szklanej, która przesuwa się w piecu tunelowym lub na wstędze szklanej podczas jej wytwarzania, gdy jest jeszcze gorąca. Powłoki mogą być wytwarzane wewnątrz odprężarki tunelowej, która w linii technologicznej jest za urządzeniem wytwarzającym wstęgę szklaną, lubi wewnątrz zbiornika pływakowego na górnej powierzchni wstęgi szklanej, podczas gdy ta ostatnia pływa w kąpieli stopionej cyny.Thus, the glazing panes of the present invention may be manufactured as follows. Each step of the pyrolytic coating formation can be carried out at a temperature of at least 400 ° C and ideally between 550 ° C - 750 ° C. The coatings can be produced on a glass sheet that runs in a tunnel kiln, or on a glass ribbon during its manufacture while it is still hot. The coatings can be produced inside the lehr, which is downstream of the glass ribbon forming device, or inside a float tank on the top surface of the glass ribbon, while the latter floats in a molten tin bath.
179 769179 769
Warstwy powłoki są nanoszone na substrat przez chemiczne osadzanie par (CVD). Jest to szczególnie korzystny sposób, ponieważ zapewnia regularną grubość i skład warstwy. Taka jednorodność powleczenia jest szczególnie istotna, kiedy produkt ma służyć do pokrycia dużej powierzchni. CVD ma dużą przewagę nad sposobem pirolitycznym stosującym natrysk ciekłych reagentów. W sposobie stosującym natryskiwanie jest trudno sterować zarówno procesem przemiany w fazę gazową jak i uzyskać dobrą, jednorodną grubość powłoki. Ponadto, piroliza natryskiwanej cieczy jest zasadniczo ograniczona do wytwarzania powłok tlenkowych takich jak SnO2 i TiCb. Trudno jest także wytworzyć powłoki wielowarstwowe stosując natrysk cieczy, ponieważ każde osadzanie warstwy powoduje znaczące schłodzenie substratu. Co więcej, chemiczne osadzanie par jest bardziej ekonomiczne z powodu surowców, prowadzących do mniejszej ilości odpadów.The coating layers are applied to the substrate by chemical vapor deposition (CVD). This is a particularly advantageous method as it ensures a regular layer thickness and composition. Such uniformity of the coating is particularly important when the product is to be used to cover a large area. CVD has a great advantage over the pyrolysis process using spraying of liquid reagents. In the spraying process, it is difficult to control both the gas phase process and achieve a good uniform film thickness. In addition, the pyrolysis of the spray liquid is substantially limited to the formation of oxide coatings such as SnO2 and TiClb. It is also difficult to produce multilayer coatings using liquid spraying, since each layer deposition causes the substrate to cool significantly. Moreover, chemical vapor deposition is more economical because of the raw materials leading to less waste.
Produkt o warstwie wytworzonej sposobem CVD jest fizycznie różny od produktów o warstwach otrzymanych przez natryskiwanie. Należy zauważyć, że powłoka otrzymana sposobem natryskowym zawiera ślady natryskiwanych kropelek i drogi pistoletu natryskowego, co nie ma miejsca w przypadku CVD.The CVD film product is physically different from the spray film product. It should be noted that the spray coating shows traces of the spray droplets and the path of the spray gun, which is not the case with CVD.
Dla wytworzenia każdej z powłok, kontaktuje się substrat w komorze do powlekania z medium gazowym zawierającym mieszaninę reagentów w fazie gazowej. Komora do powlekania jest zasilana gazowym strumieniem reagentu poprzez jedną lub wiele dysz, których długość musi być równa co najmniej szerokości powlekanej powierzchni.To form each of the coatings, the substrate in the coating chamber is contacted with a gaseous medium containing a mixture of gaseous phase reactants. The coating chamber is fed with the gaseous stream of the reactant through one or more nozzles, the length of which must be at least the width of the surface to be coated.
Sposoby i urządzenia do wytwarzania takiej powłoki opisane są na przykład we francuskim opisie patentowym nr 2 348 166 (BFG Glassgroup) lub we francuskim zgłoszeniu patentowym nr 2 648 453 Al (Glaverbel). Te sposoby i urządzenia prowadzą do otrzymania szczególnie mocnych powłok o korzystnych własnościach optycznych.Methods and devices for producing such a coating are described, for example, in French Patent No. 2,348,166 (BFG Glassgroup) or in French Patent Application No. 2,648,453 Al (Glaverbel). These methods and devices lead to particularly strong coatings with favorable optical properties.
Dla wytworzenia powłok tlenkowych cyna/antymon stosuje się dwie kolejne dysze. Mieszanina reagentów zawierająca źródło cyny i antymonu zasila pierwszą dyszę. Kiedy mieszanina składa się z chlorków, ciekłych w temperaturze otoczenia, przechodzi ona w stan pary w strumieniu bezwodnego gazu nośnego w podwyższonej temperaturze. Przemiana w fazę pary jest ułatwiona przez rozpylenie tych reagentów w gazie nośnym. W celu wytworzenia tlenków, chlorki kontaktuje się z para wodną, doprowadzaną drugą dyszą. Para wodna jest przegrzewana i również wtryskiwana do nośnika gazowego.Two successive nozzles are used to form tin / antimony oxide coatings. A mixture of reagents containing a source of tin and antimony feeds the first nozzle. When the mixture consists of chlorides, liquid at ambient temperature, it becomes vaporized in a stream of anhydrous carrier gas at elevated temperature. The vapor phase conversion is facilitated by the atomization of these reactants in the carrier gas. To generate the oxides, the chlorides are contacted with the steam supplied through a second nozzle. The water vapor is superheated and also injected into the gaseous carrier.
Korzystnie, jako gaz nośny stosuje się azot, który jest zasadniczo inertny. Azot jest gazem dostatecznie inertnym dla tego celu i poza tym jest niedrogi w porównaniu z gazami szlachetnymi.Preferably nitrogen is used as the carrier gas, which is substantially inert. Nitrogen is a sufficiently inert gas for this purpose and is otherwise inexpensive compared to noble gases.
Podpowłoki z tlenków krzemu S1O2 lub SiOx mogą być osadzane z silanu S1H4 i tlenu, zgodnie z opisem w brytyjskich zgłoszeniach patentowych GB 2234264 i GB 2247691.S1O2 or SiO x silicon oxide subcoats can be deposited from silane S1H4 and oxygen as described in GB 2234264 and GB 2247691.
Jeśli substrat szklany powleczony nie w pełni utlenioną powłoką jest wystawiony na działanie utleniającej atmosfery przez dostatecznie długi okres czasu, można oczekiwać całkowitego utlenienia powłoki i w ten sposób jego pożądane własności zostaną utracone. Dlatego też, taką podpowłokę przykrywa się warstwą powłoki tlenkowej cyna/antymon w czasie, gdy ta jest jeszcze nie w pełni utleniona, a substrat jest jeszcze gorący, tak aby zachować tę podpowłokę w stanie niepełnego utlenienia. Okres czasu, w którym substrat szklany świeżo powleczony podpowłóką może być wystawiony na działanie atmosfery utleniającej, takiej jak powietrze, przed ostatecznym pokryciem warstwą wierzchnią, bez szkody dla własności podpowłoki, będzie zależał od temperatury szkła podczas takiej ekspozycji, oraz od rodzaju podpowłoki.If a glass substrate coated with a non-fully oxidized coating is exposed to an oxidizing atmosphere for a sufficiently long period of time, complete oxidation of the coating can be expected and thus its desired properties will be lost. Therefore, such a subcoating is covered with a tin / antimony oxide coating layer while it is not yet fully oxidized and the substrate is still hot, so as to keep the subcoating incomplete oxidation. The length of time a glass substrate freshly coated with the subcoating may be exposed to an oxidizing atmosphere such as air before being finally coated with the topcoat, without compromising the properties of the subcoating, will depend on the temperature of the glass during such exposure and on the type of subcoating.
Korzystnie, wokół wymienionej komory do nakładania podpowłoki panuje atmosfera redukująca. Stwarza się takie warunki po to, aby zapobiegać przedostawaniu się tlenu atmosferycznego do komory nakładania podpowłoki, co pozwala na lepszą kontrolę warunków utleniania w tej komorze.Preferably, a reducing atmosphere is present around said subcoating chamber. Conditions are created to prevent atmospheric oxygen from entering the subcoating application chamber, which allows a better control of the oxidation conditions in that chamber.
Tlen wymagany do reakcji podpowłoki może być dostarczony w postaci czystego tlenu, ale to powiększa niepotrzebnie koszty i zgodnie z niniejszym wynalazkiem, korzystne jest doprowadzenie powietrza do komory w celu dostarczenia do niej tlenu.The oxygen required for the subcoating reaction can be supplied in the form of pure oxygen, but this increases costs unnecessarily and according to the present invention, it is preferable to supply air to the chamber to supply oxygen therein.
Stwierdzono, że stosunek molowy Sb/Sn, który jest pożądany w mieszaninie reagentów, nie zawsze odpowiada stosunkowi, który jest wymagany w warstwie powłoki cyna/antymon.It has been found that the Sb / Sn molar ratio which is desired in the reagent mixture does not always correspond to the ratio that is required in the tin / antimony coating layer.
179 769179 769
Korzystnie źródło cyny wybiera się spośród SnCU, monobutyłotrichlorocyny („MBTC”) i ich mieszaniny. Źródło antymonu wybiera się spośród SbCI5, SbCl3, związków antymonoorganicznych i ich mieszanin. Przykładami odpowiednich źródeł materiałów są: Sb(OCH2CH3)3, Cli;7Sb(OCH2CH3)i3, Cl2SbOCHClCH3, Cl2SbOCH2CHCH3Cl i Cl2SbOCH2C(CH3)2Cl.Preferably, the tin source is selected from SnClU, monobutyric trichlorocin ("MBTC") and mixtures thereof. The antimony source is selected from SbCl 5 , SbCl 3 , organic antimony compounds, and mixtures thereof. Examples of suitable material sources are: Sb (OCH 2 CH 3 ) 3 , Cl ; 7Sb (OCH 2 CH 3 ) i3, Cl 2 SbOCHClCH 3 , Cl 2 SbOCH 2 CHCH 3 Cl and Cl 2 SbOCH 2 C (CH 3 ) 2 Cl.
Poniżej wynalazek zostanie opisany szczegółowo w następujących, nieograniczających przykładach.In the following, the invention will be described in detail in the following non-limiting examples.
W przykładach poniżej, stosunek molowy Sb/Sn w warstwach powłoki był oznaczany analizą promieniowania X, w której porównywano odpowiednie pierwiastki. Technika ta nie jest tak precyzyjna jak oznaczanie chemiczne, ponieważ podobieństwo antymonu i cyny powoduje, że odpowiadają one podobnie na promieniowanie X. Stosunek zmierzonej ilości obserwowanych sygnałów odpowiednich pierwiastków daje w przybliżeniu ich stosunek molowy.In the examples below, the Sb / Sn molar ratio in the coating layers was determined by X-ray analysis in which the respective elements were compared. This technique is not as precise as chemical determination, because the similarity of antimony and tin make them respond similarly to X-rays. The ratio of the measured amount of the observed signals of the respective elements gives an approximate molar ratio.
Jak to wynika z niektórych przykładów, stosuje się raczej szkło barwne niż bezbarwne. Własności odpowiednich rodzajów barwnego szkła są przedstawione w tabeli 1 poniżej. We wszystkich przypadkach własności szkła mierzono na próbkach o grubości 4 mm, przy czym taka jest grubość szkła stosowanego we wszystkich przykładach za wyjątkiem przykładów I VII (dla których grubość jest pokazana w tabeli 2). Oznaczenia w nagłówkach tabel mają wyżej podane znaczenia.As can be seen from some examples, colored glass is used rather than clear. The properties of the respective types of colored glass are shown in Table 1 below. In all cases, the properties of the glass were measured on samples 4 mm thick, this being the thickness of the glass used in all examples except for Examples 17 and VII (for which the thickness is shown in Table 2). The symbols in the table headings have the meanings given above.
Jeśli chodzi o obliczenie współczynnika słonecznego, należy zauważyć, że dla współczynnika przepuszczalności światła (TL) poniżej 60%, wpływ niskiej emisyjności jest nie bez znaczenia i powinien być wzięty pod uwagę, ponieważ w miarę spadku emisyjności spada także współczynnik słoneczny.Regarding the calculation of the solar factor, it should be noted that for a light transmission factor (TL) of less than 60%, the effect of low emissivity is not negligible and should be taken into account, as the solar factor also decreases as emissivity decreases.
Tabela 1Table 1
Przykład IExample I
Na bezbarwnym szkle sodowo-wapniowym, posuwającym się z szybkością? metrów na minutę wzdłuż komory pływakowej, wytwarza się podpowłókę na stanowisku do powlekania usytuowanym wzdłuż komory pływakowej, gdzie szkło ma temperaturę około 700°C. Przez linię zasilającą wprowadza się azot, silan o ciśnieniu cząstkowym 0,25% i tlen o ciśnieniu cząstkowym 0,5% (stosunek 0,5). Uzyskuje się powłokę SiO2 o grubości 100 nm.On colorless soda-lime glass moving at high speed? meters per minute along the float chamber, a subcoat is produced in a coating station located along the float chamber where the glass is at a temperature of about 700 ° C. Nitrogen, silane with a partial pressure of 0.25% and oxygen with a partial pressure of 0.5% (ratio 0.5) are introduced through the feed line. A 100 nm thick SiO 2 coating is obtained.
Powleczony podpowłoką substrat o grubości 6 mm jest następnie natychmiast powlekany za pomocą pirolizy CVD z zastosowaniem aparatu składającego się z dwóch kolejnych dysz. Stosuje się reagent zawierający mieszaninę SnCU jako źródło cyny i SbCfi jako źródło antymonu. Stosunek molowy Sb/Sn w mieszaninie wynosił około 0,2. Mieszaninę reagentów przeprowadza się w stan pary w strumieniu bezwodnego azotu gazowego w temperaturze około 600°C i wprowadza do pierwszej dyszy. Przemiana w fazę pary jest ułatwiona przez rozpylenie tych reagentów w gazie nośnym. Drugą dyszę zasila się przegrzaną parą wodną. Parę wodną przegrzewa się do temperatury około 600°C i także wtryskuje się do gazu nośnego, którym jest powietrze ogrzane do temperatury 600°C. Szybkość przepływu gazu (gazThe 6 mm thick subcoated substrate is then immediately coated by CVD pyrolysis using an apparatus consisting of two successive nozzles. A reagent containing a mixture of SnClU as the tin source and SbCfi as the antimony source is used. The Sb / Sn molar ratio in the mixture was about 0.2. The reagent mixture is vaporized under a stream of anhydrous nitrogen gas at a temperature of about 600 ° C and introduced into the first nozzle. The vapor phase conversion is facilitated by the atomization of these reactants in the carrier gas. The second nozzle is fed with superheated steam. The steam is superheated to about 600 ° C and is also injected into a carrier gas which is air heated to 600 ° C. The gas flow rate (gas
179 769 nośny + reagent) w każdej z dysz wynosi 1 m3/cm szerokości substratu na godzinę w temperaturze procesu.179 + 769 carrying reagent) in each nozzle is 1 m3 / cm width of substrate per hour at the process temperature.
Powlekanie prowadzi się do uzyskania geometrycznej grubości powłoki tlenkowej cyna/antymon, na powleczonym podpowłoką substracie, wynoszącej 185 nm.The coating is achieved to a geometric thickness of the tin / antimony oxide coating on the subcoated substrate of 185 nm.
Przykład II- VIIExample II-VII
W przykładach II - VII stosowano procedurę jak w przykładzie I, zmieniając takie parametry jak mieszanina reagentów, obecność lub nieobecność podpowłoki tlenkowej, stosunek Sb/Sn w powłoce i w mieszaninie reagentów oraz grubość szklanego substratu. Na przykład, w porównaniu z przykładem I, w przykładzie II nie stosowano żadnej podpowłoki, a warstwa powłoki tlenkowej cyna/antymon miała grubość 210 nm. Mieszaniny reagentów, były jak poniżej:In Examples 2 - 7 the procedure as in Example 1 was followed, changing parameters such as the mixture of reagents, the presence or absence of an oxide subcoating, the Sb / Sn ratio in the coating and in the reagent mixture, and the thickness of the glass substrate. For example, compared to Example 1, no subcoating was used in Example 2 and the tin / antimony oxide coating layer was 210 nm thick. The reagent mixtures were as follows:
Przykład II i III: mieszaniny takie same jak w przykładzie I (ale z niższą zawartością reagentów w gazie nośnym w przykładzie III);Example II and III: mixtures the same as in Example I (but with a lower proportion of reactants in the carrier gas in Example III);
P r z y k ł a d IV: MBTC i Ch 7Sb(OCH2CH3)i 3;Example IV: MBTC and Ch 7 Sb (OCH 2 CH 3 ) and 3 ;
P r z y k ł a d V: MBTC i Cl2ŚbOCH2CHCH3Ćl;Example V: MBTC and Cl 2 ŚbOCH 2 CHCH 3 Chl;
P r z y k ł a d VI: MBTC i Cl2SbOCH2C(CH3)2Cl;Example VI: MBTC and Cl 2 SbOCH 2 C (CH 3 ) 2 Cl;
Przykład VII: MBTC i SbCl3.Example VII: MBTC and SbCl 3 .
Zmiany parametrów operacyjnych dla przykładów I - VII i uzyskane wyniki przedstawiono w tabeli 2.Changes in the operating parameters for Examples 1-7 and the results obtained are shown in Table 2.
Szyby do oszkleń w przykładach ΠΙ - VII miały przyjemną, błękitną barwę: dominująca długość fali przepuszczonej światła widzialnego leży w zalesie 470 - 490 nm.The glass panes for glazing in Examples ΠΙ - VII had a pleasant blue color: the dominant wavelength of the transmitted visible light is 470-490 nm in the forest.
W przykładzie VI otrzymano szybę, która miała niski współczynnik słoneczny FS i niską emisyjność.In Example 6, a glazing was obtained which had a low FS solar factor and low emissivity.
W jednym z wariantów przykładu VI, podpowłoką SiO2 została zastąpiona przez przeciwodbiciową podpowłokę SiOx, zgodnie z procedurą zastosowaną w GB 2247691. W innym wariancie, podpowłokę SiO2 zastąpiono utlenioną warstwą glin/wanad, zgodnie z procedurą zastosowaną w GB 2248243. W tych wariantach szyba nie miała purpurowego wyglądu w odbiciu od niepowleczonej strony.In one variation of Example VI, the SiO 2 subcoating was replaced with an antireflection SiO x subcoating according to the procedure used in GB 2247691. In another embodiment, the SiO 2 subcoating was replaced with an oxidized aluminum / vanadium layer according to the procedure used in GB 2248243. In variants, the glass did not have a purple appearance in reflection from the uncoated side.
Przykład VIIIExample VIII
Na barwnym szkle float „Zielone A”, posuwającym się z szybkością 7 metrów na minutę wzdłuż komory pływakowej, wytwarza się podpowłokę, na stanowisku do powlekania usytuowanym wzdłuż komory pływakowej, gdzie szkło ma temperaturę około 700°C.Colored "Green A" float glass, advancing at 7 meters per minute along the float chamber, is subcoated in a coating station along the float chamber at a temperature of about 700 ° C.
Przez linię zasilającą doprowadza się azot, silan o ciśnieniu cząstkowym 0,2% i tlen o ciśnieniu cząstkowym 0,5% (stosunek 0,55). Uzyskuje się powłokę SiOx o x w przybliżeniu równym 1,8, o współczynniku załamania światła około 1,7. Grubość uzyskanej powłoki wynosiła 40 nm.Nitrogen, silane with a partial pressure of 0.2% and oxygen with a partial pressure of 0.5% (ratio 0.55) are fed through the feed line. A SiO x x coating of approximately 1.8, with a refractive index of approximately 1.7, is obtained. The thickness of the obtained coating was 40 nm.
Powleczony podpowłoką substrat o grubości 4 mm, jest następnie powlekany za pomocą pirolizy CVD. Stosuje się reagent zawierający mieszaninę MBTC jako źródło cyny i ClijSb(OCH2CH3)ij3 jako źródło antymonu. Stosunek molowy Sb/Sn w mieszaninie wynosił około 0,195 (stosunek masowy 0,2). Mieszaninę reagentów przeprowadza się w stan pary w strumieniu zasilającego dyszę, bezwodnego powietrza w temperaturze około 200°C. Przemiana w fazę pary jest ułatwiona kwasem trufluorooctowym. Stosunek F/Sn w mieszaninie reagentów z tych przykładów wynosił 0,04.The 4 mm thick subcoated substrate is then coated by CVD pyrolysis. A reagent containing a mixture of MBTC as the tin source and ClijSb (OCH 2 CH 3 ) and j3 as the antimony source is used. The Sb / Sn molar ratio of the mixture was approximately 0.195 (weight ratio 0.2). The reagent mixture is vaporized in a jet of dry air fed to the nozzle at a temperature of about 200 ° C. The conversion to the vapor phase is facilitated by trufluoroacetic acid. The F / Sn ratio in the reagent mixture of these examples was 0.04.
Zmiany parametrów operacyjnych i uzyskane wyniki przedstawiono w tabeli 4 dla przykładów XV - XXII, a w tabeli 5 dla przykładów XXIII - XXX. Tlenek krzemu SiOx stosowany w przykładach XV - XXX miał wartość x w przybliżeniu równą 1,8.The changes in operating parameters and the results obtained are shown in Table 4 for Examples XV-XXII and in Table 5 for Examples XXIII-XXX. The silicon oxide SiO x used in Examples 15 to XXX had an x value of approximately 1.8.
179 769179 769
T abela 2Table 2
179 769179 769
Tabela 3Table 3
179 769179 769
Tabela 4Table 4
179 769179 769
Tabela 5Table 5
179 769179 769
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz Cena 4,00 zł.Publishing Department of the UP RP. Circulation 70 copies Price PLN 4.00.
Claims (18)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB9511691.9A GB9511691D0 (en) | 1995-06-09 | 1995-06-09 | A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
GBGB9514190.9A GB9514190D0 (en) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL314663A1 PL314663A1 (en) | 1996-12-23 |
PL179769B1 true PL179769B1 (en) | 2000-10-31 |
Family
ID=26307189
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL96314663A PL179769B1 (en) | 1995-06-09 | 1996-06-07 | Glass panel exhibiting antisolar properties for glazing windows and method of making same |
PL96314664A PL179768B1 (en) | 1995-06-09 | 1996-06-07 | Glass panel exhibiting antisolar properties for glazing windows |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL96314664A PL179768B1 (en) | 1995-06-09 | 1996-06-07 | Glass panel exhibiting antisolar properties for glazing windows |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08337437A (en) |
AT (1) | AT408978B (en) |
BE (2) | BE1010322A5 (en) |
CA (2) | CA2178032A1 (en) |
CZ (2) | CZ290187B6 (en) |
DE (2) | DE19622898B4 (en) |
ES (2) | ES2126487B1 (en) |
FR (2) | FR2735124B1 (en) |
HU (1) | HU221059B1 (en) |
IL (1) | IL118558A (en) |
IT (2) | IT1285388B1 (en) |
LU (1) | LU88767A1 (en) |
NL (1) | NL1003294C2 (en) |
PL (2) | PL179769B1 (en) |
PT (1) | PT101879B (en) |
SE (2) | SE514055C2 (en) |
TR (1) | TR199600490A2 (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09169545A (en) * | 1995-12-21 | 1997-06-30 | Th Goldschmidt Ag | Method for pyrolytically forming layer comprising tin oxide doped with antimony oxide and lowering transmittance on glass or glass ceramic and composition therefor |
US6124026A (en) * | 1997-07-07 | 2000-09-26 | Libbey-Owens-Ford Co. | Anti-reflective, reduced visible light transmitting coated glass article |
US6218018B1 (en) * | 1998-08-21 | 2001-04-17 | Atofina Chemicals, Inc. | Solar control coated glass |
US6858306B1 (en) * | 1999-08-10 | 2005-02-22 | Pilkington North America Inc. | Glass article having a solar control coating |
LU90432B1 (en) | 1999-09-01 | 2001-03-02 | Glaverbel | Pyrolytic phosphostannate or borostannate layer and glazing comprising this layer |
US6869644B2 (en) * | 2000-10-24 | 2005-03-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
FR2899978A1 (en) * | 2006-04-14 | 2007-10-19 | Jacob Dahan | Screen e.g. LCD screen, masking device for e.g. flat screen TV, has glass faceplate with rear face including opaque cover made of black polyvinyl chloride and constituting opaque base of faceplate so as to transform faceplate into mirror |
KR101137370B1 (en) * | 2009-11-18 | 2012-04-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | Multi-sheet glazing unit |
WO2014127868A1 (en) * | 2013-02-20 | 2014-08-28 | Saint-Gobain Glass France | Panel with a coating which reflects thermal radiation |
JP7283530B1 (en) * | 2021-12-28 | 2023-05-30 | Agc株式会社 | Substrate with laminated film |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB639561A (en) * | 1946-05-02 | 1950-06-28 | Corning Glass Works | Improvements in and relating to glass with electrically heated coatings |
US2564707A (en) * | 1947-09-03 | 1951-08-21 | Corning Glass Works | Electrically conducting coatings on glass and other ceramic bodies |
BE559218A (en) * | 1956-08-27 | |||
NL283589A (en) * | 1966-09-22 | |||
IT996924B (en) * | 1972-12-21 | 1975-12-10 | Glaverbel | PROCEDURE FOR FORMING A LAYER OF METALLIC OXIDE |
GB1517341A (en) * | 1975-01-02 | 1978-07-12 | Day Specialties | Coating solutions for dielectric materials |
GB1524326A (en) * | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
CH628600A5 (en) * | 1979-02-14 | 1982-03-15 | Siv Soc Italiana Vetro | PROCESS FOR CONTINUOUSLY DEPOSITING, ON THE SURFACE OF A SUBSTRATE CARRIED AT HIGH TEMPERATURE, A LAYER OF A SOLID MATERIAL AND INSTALLATION FOR THE IMPLEMENTATION OF THIS PROCESS. |
FR2484991A1 (en) * | 1980-06-19 | 1981-12-24 | Bfg Glassgroup | METHOD AND DEVICE FOR FORMING A UNIFORM COATING WITH MULTIPLE COMPONENTS |
GB2078213B (en) * | 1980-06-19 | 1983-10-26 | Bfg Glassgroup | Forming uniform multiconstituent coatings on glass |
JPS60141648A (en) * | 1983-12-29 | 1985-07-26 | Nippon Soda Co Ltd | Antifogging glass |
DE3413587A1 (en) * | 1984-04-11 | 1985-10-17 | Flachglas AG, 8510 Fürth | METHOD FOR PRODUCING THE TIN DIOXIDE INTERFERENCE LAYER (S), IN PARTICULAR FROM HEAT-REFLECTING-COATED GLASS DISKS BY REACTIVE MAGNETRONIC SPRAYING, TIN TARGET TO ITS IMPLEMENTATION, AND ALSO ITSELF, AS WELL AS ITSELF |
US4873352A (en) * | 1986-02-08 | 1989-10-10 | Japan Exlan Company Limited | Transparent aqueous tin compound solution |
US4859496A (en) * | 1986-09-02 | 1989-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of producing an electrically-conductive transparent film |
GB8630791D0 (en) * | 1986-12-23 | 1987-02-04 | Glaverbel | Coating glass |
US5382383A (en) * | 1988-08-24 | 1995-01-17 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Coating solutions for forming transparent conductive ceramic coatings, substrates coated with transparent conductive ceramic coatings and process for preparing same, and uses of substrates coated with transparent conductive ceramic coatings |
GB8914047D0 (en) * | 1989-06-19 | 1989-08-09 | Glaverbel | Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate |
JP2762608B2 (en) * | 1989-09-14 | 1998-06-04 | 日本板硝子株式会社 | Near infrared cut glass and method for producing the same |
GB2247691B (en) * | 1990-08-31 | 1994-11-23 | Glaverbel | Method of coating glass |
FR2677639B1 (en) * | 1991-06-14 | 1994-02-25 | Saint Gobain Vitrage Internal | TECHNIQUE FOR FORMING BY PYROLYSIS IN A GASEOUS WAY A COATING BASED ON OXYGEN AND SILICON. |
JPH05294673A (en) * | 1992-04-17 | 1993-11-09 | Asahi Glass Co Ltd | Production of glass coated with transparent electrically conductive film |
-
1996
- 1996-06-03 CA CA002178032A patent/CA2178032A1/en not_active Abandoned
- 1996-06-03 CA CA002178033A patent/CA2178033C/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-04 JP JP8165370A patent/JPH08337437A/en active Pending
- 1996-06-04 IT IT96TO000478A patent/IT1285388B1/en active IP Right Grant
- 1996-06-04 BE BE9600497A patent/BE1010322A5/en active
- 1996-06-04 BE BE9600496A patent/BE1010321A5/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-04 IT IT96TO000479A patent/IT1285389B1/en active IP Right Grant
- 1996-06-04 IL IL11855896A patent/IL118558A/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-05 PT PT101879A patent/PT101879B/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-05 LU LU88767A patent/LU88767A1/en unknown
- 1996-06-05 AT AT0097796A patent/AT408978B/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-06 FR FR9607035A patent/FR2735124B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-06 ES ES009601249A patent/ES2126487B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-06 FR FR9607034A patent/FR2735123B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-06 ES ES009601248A patent/ES2126486B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-07 SE SE9602269A patent/SE514055C2/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-07 PL PL96314663A patent/PL179769B1/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-07 SE SE9602268A patent/SE513945C2/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-07 DE DE19622898A patent/DE19622898B4/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-07 PL PL96314664A patent/PL179768B1/en unknown
- 1996-06-07 HU HU9601586A patent/HU221059B1/en unknown
- 1996-06-07 TR TR96/00490A patent/TR199600490A2/en unknown
- 1996-06-07 CZ CZ19961678A patent/CZ290187B6/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-07 NL NL1003294A patent/NL1003294C2/en not_active IP Right Cessation
- 1996-06-07 DE DE19622899A patent/DE19622899B4/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-07 CZ CZ19961679A patent/CZ295505B6/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7803463B2 (en) | Glazing panel having solar screening properties | |
GB2302102A (en) | Glazing panel having solar screening properties | |
JP4538116B2 (en) | Solar control coated glass | |
RU2233812C2 (en) | Transparent glass sheet with coat, method of production of such sheets and glass panel made from such sheet | |
USRE40315E1 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
US6881505B2 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
US20090104369A1 (en) | Method for producing functional glass surfaces by changing the composition of the original surface | |
JP5325100B2 (en) | Glass article having zinc oxide coating and method for producing the same | |
PL179769B1 (en) | Glass panel exhibiting antisolar properties for glazing windows and method of making same | |
US5721054A (en) | Glazing panel and process for forming the same | |
EP0986521B1 (en) | Solar control coated substrate with high reflectance | |
GB2288818A (en) | Glazing panel | |
CA2607846A1 (en) | Glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel | |
US4954367A (en) | Vapor deposition of bis-tributyltin oxide | |
MXPA99010635A (en) | Solar control coated substrate with high reflectance | |
CZ363199A3 (en) | Sunlight absorbing coated glass |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20130607 |