PL166238B1 - Źródło plazmy - Google Patents

Abstract

Źródło plazmy składające się ze zbiornikapróżniowego, wewnątrz któregoznajduje się solenoid wraz z umieszczoną w nim katodą i anoda z układem inicjującym wyładowanie łukowe, znamienne tym, że anoda (3) mającapostać wydrążonegowalca i umieszczona w bezpośrednim sąsiedztwie katody (2) połączona jest z dodatnim biegunem zasilacza (5) poprzez nawinięty na nią solenoid (4).

Description

Przedmiotem wynalazku jest źródło plazmy urządzenia stosowanego głównie do nanoszenia warstw materiałów jedno- i wieloskładnikowych metodą łukowego rozpylania w próżni.

Źródło plazmy urządzenia do nanoszenia cienkich warstw jedno- i wieloskładnikowych znane jest np. z patentu USA nr 3 625 848. Składa się ono z katody o kształcie walca otoczonej stożkowatą anodą, na której zamocowany jest układ inicjujący wyładowanie łukowe. Anoda wraz z układem inicjującym oraz katoda podłączone są do biegunów stałoprądowego zasilacza niskiego napięcia i umieszczone są w zbiorniku próżniowym.

Znane są też konstrukcje źródeł, w których celem lokalizacji plazmy na czołowej powierzchni katody, stosowane są ekrany elektrostatyczne lub układy magnetyczne. Układ magnetyczny w tego typu rozwiązaniach, stanowi elektromagnes wykonany w postaci solenoidu, wewnątrz którego umieszczona zostaje rozpylana katoda. Solenoid ten wytwarza nad powierzchnią katody pole magnetyczne o wektorze indukcji magnetycznej skierowanej prostopadle do rozpylanej powierzchni katody.

W źródle plazmy według wynalazku anoda mająca postać wydrążonego walca i umieszczona w bezpośrednim sąsiedztwie katody, połączona jest z dodatnim biegunem zasilacza poprzez nawinięty na nią solenoid.

Przedmiot wynalazku uwidoczniony jest w przykładzie wykonania na rysunku, który schematycznie przedstawia źródło plazmy o katodzie walcowej.

Wewnątrz zbiornika próżniowego 1 umieszczona jest katoda 2 oraz anoda 3 urządzenia. Anoda 3 ma postać wydrążonego walca i umieszczona jest w bezpośrednim sąsiedztwie katody 2 w odległości około 2 - 10 mm od jej krawędzi. Do katody 2 dołączony jest ujemny biegun zasilacza wysokoprądowego 5. Dookoła anody 3 po jej zewnętrznej stronie usytuowany jest solenoid 4. Solenoid 4, wykonany z płaskownika miedzianego o grubości 10 mm, połączony jest jednym końcem z dodatnim biegunem zasilacza wysokoprądowego 5, zaś drugim z anodą 3 urządzenia.

Źródło działa w sposób następujący: Po odpompowaniu zbiornika próżniowego 1, do ciśnienia _-3 _-4 około 10. 10 Pa pomiędzy katodą 2 i anodą 3 inicjowane jest za pomocą urządzenia inicjującego wyładowanie łukowe. Prąd z zasilacza wysokoprądowego 5, płynący przez obwód katoda 2 anoda 3, w który to obwód w sposób szeregowy podłączony jest solenoid 4, wytwarza wewnątrz anody 3 pole magnetyczne o zadanej wartości indukcji, prostopadłe do powierzchni katody 2.

166 238

166 238

Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 1,00 zł.

Claims (1)

1. Zastrzeżenie patentowe

   Źródło plazmy składające się ze zbiornika próżniowego, wewnątrz którego znajduje się solenoid wraz z umieszczoną w nim katodą i anoda z układem inicjującym wyładowanie łukowe, znamienne tym, że anoda (3) mająca postać wydrążonego walca i umieszczona w bezpośrednim sąsiedztwie katody (2) połączona jest z dodatnim biegunem zasilacza (5) poprzez nawinięty na nią solenoid (4).