PL155690B1 - Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem - Google Patents
Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltemInfo
- Publication number
- PL155690B1 PL155690B1 PL27464388A PL27464388A PL155690B1 PL 155690 B1 PL155690 B1 PL 155690B1 PL 27464388 A PL27464388 A PL 27464388A PL 27464388 A PL27464388 A PL 27464388A PL 155690 B1 PL155690 B1 PL 155690B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- bath
- zinc
- coatings
- nickel
- alloy
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 34
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title claims description 32
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 31
- 239000011701 zinc Substances 0.000 title claims description 31
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 21
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 title claims description 13
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 title claims description 13
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 13
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 11
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- -1 aliphatic aldehydes Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 4
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 4
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 12
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 claims 11
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims 9
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims 9
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims 5
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims 3
- 159000000032 aromatic acids Chemical class 0.000 claims 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims 3
- 239000000047 product Substances 0.000 claims 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 claims 3
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims 3
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical class [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 3
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims 2
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 claims 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N hexadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims 2
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical class CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical class OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BPKGOZPBGXJDEP-UHFFFAOYSA-N [C].[Zn] Chemical compound [C].[Zn] BPKGOZPBGXJDEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HSSJULAPNNGXFW-UHFFFAOYSA-N [Co].[Zn] Chemical compound [Co].[Zn] HSSJULAPNNGXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 claims 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 claims 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 1
- ALSTYHKOOCGGFT-UHFFFAOYSA-N cis-oleyl alcohol Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007859 condensation product Chemical group 0.000 claims 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 claims 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical group 0.000 claims 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 claims 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002537 isoquinolines Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 claims 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 claims 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 claims 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 claims 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- 229920005606 polypropylene copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 claims 1
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005208 trialkylammonium group Chemical group 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 claims 1
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
RZECZPOSPOLITA
POLSKA
@ OPIS PATENTOWY® PL © 155690 © Bl
Numer zgłoszenia: 274643
IntCl5:
C25D 3/22
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej vuy Data zgłoszenia,: 13.09.1988 ίί f ÓŁ O
Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem
Uprawniony i twórca wynalazku: Stanisław Szczepaniak, Kielce, PL
Zgłoszenie ogłoszono:
19.03.1990 BUP 06/90
O udzieleniu patentu ogłoszono: 31.12.1991 WUP 12/91
PL 155690 Bl
Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem, zawierająca co najmniej jeden rozpuszczalny związek cynku o stężeniu 5-50 g/dm3, chlorek amonowy i/lub potasowy i/lub sodowy w stężeniu 100-250 g/dm3 zależnie od potrzeby co najmniej jeden rozpuszczalny związek niklu i/lub kobaltu w stężeniu 0-50 g/dm3. a także zależnie od potrzeby przynajmniej jeden ze stosowanych niejonowych i/lub jonowych związków powierzchniowo-czynnych w stężeniu do 20 g/dm3, oraz zależnie od potrzeby aromatyczne i/lub alifatyczne aldehydy i/lub ketony w stężeniu do 2 g/dm3, znamienna tym, że zawiera w ilości 0,1-10 g/dm3 aryloamidokarboksylowy kwas lub jego sól, atom chlorowca, rodnik alkilowy lub alkoksyalkilowy o 1-4 atomach węgla, R3 jest wodorem lub alkilem o 1-4 atomach węgla, n oznacza liczbę naturalną 1-10, Me oznacza wodór, amoniak, aminy, alkanoloaminy, sód, potas lub lit, oraz zawiera w ilości 0,05-5 g/dm3 oligomer o ogólnym wzorze 2, w którym R4, Rs, Re, R7 są niezależnie wodorem, . alkilem lub hydroksyalkilem o zawartości 1-4 atomów węgla, m jest liczbą całkowitą 1-4, p jest liczbą 2-20.
R -N-R, wzór 2 o
KĄPIEL DO GALWANICZNEGO NAKŁADANA BŁYSZCZĄCYCH POWŁOK CYNKOWYCH LUB STOPOWYCH CYNKU Z NIKLEM I/LUB KOBALTEM!
Claims (4)
- Zastrzeżenie patentoweKąpiel dt galwaniczegt nakładania Błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/Uub kobaltem, zaOerająca ct najmniej jeden rtzpuszczalny związek cynku o stężeniu 5-50 g/dmP, chlorek amonowy i/lub pttasooy i/lub stdtoy o stężenia 100 - 250 g/daP zależnie od potrzeby ct najmniej jeden rozpuszczalny związek niklu i/lub kobaltu o stężeniu 0 - 50 g/drnP, a także zależnie td potrzeby przynajmniej jeclen ze stosooanycłi niejonowych i/lub jonowych zwitków ptwlerzchniowt czynnych w s-tężeniu dt 20 g/dm , oraz zależnie •1 od potrzeby aromatyczne i/lub alifatyczne aldehydy i/uub ketony w stężeniu do
- 2 g/ćm , znamienna tym, że zawLera w ilośc:i. 0,1 - 10 g/dup aryloεmidokrrboksylowy kwas lub jego sól, o ogólnym wzorze 1, w któiym R.j i Rj oznaczają niezależnie wodór, atom chlorowca, rodnik al^kj-towy lub alkoksyalkilowy o 1 - 4 atomach węgla, R^ jest wodorem lub alkilem o 1 - 4 atomach węgla, n oznacza liczbę naturalną 1 - 10, Me oznacza wodór, amoniak, amin^ alkanoloaminy, sód, potas lub lit, traz zarnera w ilośc:i 0,05 - 5 g/dmP oligomer t ogólnym wzorze 2, w któiym R^, R^, Rg» R? są niezależnie wodorem, alkieem lub hydroksyalkilem t zawartości 1-4 atomów węgla, m jest liczbą całkowi-tą 1 - 4, p jest liczbą 2-20.* * *Przedmiotem wynalazku jest kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem, zwłaszcza o dużej szybkości nakładania.Stosowane dotychczas kąpiele chlorkowe do gal^wmicznego cynkowania w roztworach słabtkwaśnych, znajdujące zastosowanie szczególnie przy pokrywaniu żeliwa, detali sprężynujących traz detali td których wymiga się wysokiego połysku, są bardzo agresywne w stosuiku do urządzeń galwanicznych wykonywanych zwykle z żelaza i jego stopów. W ktnsekwennji prowadzi tt dt szybkiego zniszczenia urządzeń przez korozję. W wyniku tego procesu następuje zanieczyszczenie kąpieli, ct wiąże się z koniecznością usuwania z niej związków szkodliwych a w drastycznych przypadkach wylaniem kąpieli. Wydeemone powyżej niekorzystne, uboczne procesy zwiększają wielokrotnie koszty procesu cynkowania.Znane są kąpiele dt galwanicznego cynkowania w roztworach słabokwaśnych. Kpiele te w swoim składzie zaóerają niektóre związki bifunkcyjne, będące jednocześnie dodatkami blaskotwórczymi i inhibitormi korozji.I tak, w opisie pat^e^ntwym REN nr 2 326 300 przedstawiona jest kąpiel do elektrolitycznego cynkowania przy pH
- 3,5 do 7,5, zawierająca niekarborytowe czwartorzędowe związki pirydyniowe i produkty kondensacji kwasów naftaUnnosuifnowych z formaldehydem. W opisie pate^ntwym REN nr 2 900 501 opisana jest kąpiel do cynkowania, pracująca w roztworze mającym pH od 2 do 9. W jej skład wchodzą też związki powierzchniowo czynne i miekarbontlooe czw^:rtorzętowe heterocykliczne związki wybrane z grupy pirydyny, izochinoliny, pirymidyny, imidazolu, imidazoliny, piralu, pirazolu, pirazsyny i innych.Znana jest również z opisu patentowego Wiilkiej Brytanii nr 2 009 790 kąpiel oparta na chlor ku potasowym, która jako dodatki wybłyszczające zaiwera niejonowe związki pow-erzchniowo czynne lub polietery, aromatyczne nienasycone kwasy i niekrrbonfΊoo'e związki heterocykliczne zawerające azot.W opisie pate^ntwym USA nr 3 920 528 przedstawiona jest kąpiel do cynkowania oparta na chlorku potasowym, która zawiera anionowe i/lub amioteryczne związki powierzchniowo czynne i heterocykliczne kwasy o pierścieniu pirydyny, izochinoliny, pirolu, piperydyny i innych oraz aromatyczne kwasy i/lub ketony.155 690Z polskiego opisu patentowego nr 94 161 znana jest kąpiel do cynkowania, która zadera co najmniej jeden związek cynku dostarczający jonów cynku do cynkowania, co najmniej jeden środek poderzchniowo czynny, rozpuszczalny w kąpieli, z grupy zdązków obejmujących rozpuszczalne w kąpieli polietery, podstadone po li et ery oraz podstadone niearomatyczne azotowe heterocykliczne środki powerzchniowo czynne, oraz co najmniej jeden aromatyczny niekarhonylowy, zawerający azot, związek heterocykliczny.Także, z polskiego opisu patentowego nr 127 890, znana jest kąpiel do galwanicznego cynkowania z lustrznn^i połyskiem, oparta na rozpuszczalnych związkach cynku i chlorku amonu. Zażera ona liniowe oligomery, niejonowe zwązki poderzcimiowo czynne, eteayriikowany polimetylenotiomocznik oraz aromatyczne aldehydy i/lub ketony.Znana jest także z polskiego opisu patentowego nr 130 105 kąpiel do cynkowania zarterająca halogenek cztero-aliilo-mmoniowy, niejonowe zwi.ązki powierzchniowo czynne i substancje blaskotwórcze będące pochodną eteru alkijowj-a:fOooegj. Praca tej kąpieli odbywa się przy gęstości prądu nie przekraczającej 4 A/dm .Kąpiel do cynkowania przedstadona w polskim opisie pat^enowym nr 132 396, obok zdązków niejonooych i halogenków aminy trzeciorzędowej zadera estry kwasów arowtycznych. Pra2 ca tej kąpieli odbywa się przy gęstościach prądu nie przekraczających 4 A/dm .W opolskim opisie patenowi^™ nr 136 699 przedstadono kąpiel zawe rającą rozpuszczalne sole cynku, chlorek amonow, iiejonooy środek poderzchIIiowo czynny oraz aromatyczny aldehyd i/lub keton. Zaś w polskim opisie patenowym nr 147 581 opisana jest słabokwaśna kąpiel do cynkownia z połyskiem zawerająca chlorki cynku, sole słabych kwasów organie znych i nieorganicznych, zdązki karbonylowe i/uub karboksylowe oraz produkty kopolimeryzacji tlenku propylenu z tlenkiem etylenu a także pochodne pentanom^.Z opisu patentowego RPN nr 2 346 942 znana jest słabo kwaśna kąpiel do cynkowarnia, będąca roztworem wodnym zawierającym sole cynku, produkty polimeryzacji pochodne od tlenku etylenu, wybyszczacze i środki powerzcłniiowo czynne. Produktami polimeryzacji, wchodzącymi w skład tej kąpieli są polimery tlenku propylenu i/lub kopolimery tlenku propylenu i tlenku etylenu o zawaatości tlenku etylenu do 25% wagowych maksimum. Ponadto zawiera jeden lub więcej aromatycznych zdązków karbonylowych.Z opisu patentowego USA nr 4 444 630 znana jest jeszcze inna kwaśna kąpiel do cynkowania. Zawera ona sól cynku, chlorek amonowy oraz alkil lub proporylowaną sól amodową, najlepiej proporylowaną sól trialkjloamonjową, a także alkil o niższym ciężarze molelkilarnym zas^powmy kwasem sllfono-naftenowm].W celu zwększenia odporności korozyjnej osadzanych powłok cynkowych, do znanych kąpieli cynkowych wprowadzane są różnorakie rozpuszczalne metale, które w określonych warunkach współosadzają się z cynkiem tworząc stopy cynku. Do najczęściej dodawanych zdązków należą zdązki niklu, kobaltu, żelaza, chromu, mainganu, molibdenu, wolfram i inne. Wprowadzane są do kąpieli w postaci soli, tlenków, wodorotlenków, a także przez bezpośrednie rozpuszczenie z anody dowolnego meealu lub stopu. Powłoki stopowe charakteryzują się wysoką odpornością korozyjną, dobrą plastycznością i przyczepnością do żelaza i stali oraz znakomitą przyczepnością do nich farb i lakierów.Z opisów patentowych USA, np. nr 4 070 256, 4 089 755, 4 059 511, 4 O64 320, 4 048 381,
- 4 134 893, 4 216 272, 4 290 860, 4 314 893, 4 313 802, 4 285 802, 4 407 900, znane są kąpiele galwaniczne do osadzania powłok stopowych. PowOoki osadzane z kąpieli przedstadonych w powyższych opisach patentowych posiadają zdększoną odporność korozyjną w stosunku do powłok z czystego cynku. Są też mało przyczepne i szare, a co najwyżej pół-błyszczące i nie nadają się do celów dekoracyjnych.W opisie ^te^ntowym USA nr 4 388 160 prezentowany jest proces elektrolitycznego osadzania stopu cynk - nikiel z połyskiem, który nadaje się do celów dekoracyjnych. Jako wybłyszczacz osadzanego stopu cynk - nikiel zastosowano iolioksyetyjowane środki ioderzc}nliowo czynne w iŁlośd 5-50 g/dm i aromat^zne zdązki terlony-lowe w Hośc. °,°5 - 4 g/dnP.155 690Z opisu patentowego Wielkiej Brytanii nr 2 104 920 znana jest kąpiel do osadzania powłok stopowych cynku z niklem. Jej pH jest od 4,7 do 8,0. ZaWera jony cynku, niklu i amonium oraz polioksyalkilowany środek powerzchniowo czynny.Ponadto, znane kąpiele chlorkowe wymigają stałego stosowania dodatków poprawiających jakość otrzymywanych powłok. ZWązki te wymggją często zachowania specyficznych warunków prowadzenia procesu cynkowania, co jest czasem kłopotliwe w określ.onych warunkach roboczych galwanizerni. W większości przypadków, zakres pracy tych kąpieli jest niewystarczający i z reguły nie przekracza 5 A/dmc.Wobec niewątpliwie uzasadnionych wskazań do stosowania w procesie galwanicznego cynkowania kąpieli chlorkowych, powwtała konieczność opracowania takiej kąpieli chlorkowej, która zwelokrotniłaby pozytywne i pożądane efekty stosowanych dotychczas kąpieli, wiązując jednocześnie znikome działania uboczne.Celem wynalazku jest opracowanie kąpieli do galwanicznego cynkowania z połyskiem, zwłaszcza o dużej szybkości nakładania powłok. Dalszym celem jest aby kąpiel służyła także do nakładania powłok stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem, aby kąpiel posiadała ffinnejszą agresywność w stosunku do meeali, szczególnie do żelaza, oraz aby umoóliwała nakładanie błyszczących, gładkich i w miarę plastycznych powłok. Ponadto, kąpiel powinna mieć dodatki wybłyszczające stabilne przez dłuższy okres i nie kornpleksujące cynku oraz stosowane w niewielkim stężeniu.Cel ten osiągnięto przez opracowanie kąpieli do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem, zawierającej co najmniej jeo den rozpuszczalny związek cynku o stężeniu 5-50 g/dm, chlorek amonowy i/lub potasowy i/lub sodowy w ftężeniu 1°0 - 250 g/dmP\ zaLleżnie od potrzeby co najmniej jeden rozpuszczalny związek nik^u :i/lub kobaltu w stężeniu 0 - 50 g/drn, a -także zależnie od potrzeby przynajmniej jeden z powszechnie stosowanych niejonowych i/lub jonowych związków powerzctaiowo czynnych w ftężeniu do 20 g/ćtar\ oraz zależnie od potrzeby aromatyczne i/lub alifatyczne aldehydy i/lub ketony w stężeniu do 2 g/drnP.oIstota wynalazku polega na tym, że kąpiel zawiera ilości 0,1 - 10 g/dm! arylosmidokarboksylowy kwas lub jego sól, o ogólnym wzorze 1, w którymi R^ i Rg oznaczają niezależnie wodów, atom chlorowca, rodnik alkilowy lub alkoktyalkiOowy o 1 - 4 atomach węgla, R^ jest wodorem lub alkilem o 1 - 4 atomach węgla, n oznacza liczbę naturalną 1 - 10, Me oznacza wodór, amoniak, aminy, alkanoloaminy, sód, potas lub lit, oraz zawdera w ilości 0,05 - 5 g/drnP oligomer o ogólnym wzorze 2, w któurm R^, Rg R są niezależnie wodorem, al- kilem lub hydroksyalkilem o zawartości 1-4 atomów węgla, m jest liczbą całkowitą 1-4, zaś p jest liczbą 2 - 20.Jako substancje uzupełniające wyżej wym-enioną kąpiel używa się dodatków powszechnie stosowanych w tego typu kąpielach. Przykładowo, są to związki wielkocząsteczkowe naturalne i syntetyczne takie jak klej stolarski, żelatyna, alkohol poliwinylowy, poliwinylopirelidon, kwasy alifayyczne i/uub aromatyczne, czwartorzędowe związki heterocykliczne, pirydyna i jej pochodne, tiomocznik, tiazole i inne.Kąpiel według wynalazku charakteryzuje się dużą szybkością nakładania i szerokim zakresem osadzania, przy gęstości prądu 1-15 A/drn , małą agresywnością w stosunku do meeali, a szczególnie do żelaza.Kąpiel według wynalazku może być stosowalna także z innymi dodatkami whłyszczającymi, powszechnie używanymi dla zapobieżenia przypaleniem, pittingowi, zwększenia połysku, gładkości, ewentualnie usunięcia meeali ciężkich z kąpieli. Kąppel może pracować w sposób ciągły lub przerywany i od czasu do czasu składniki kąpieli muszą być uzupełniane w oparciu o wyniki przeprowadzonych laboratoryjnie analiz i testów. ,Jzupilniającl składniki mogą być podawane pojedynczo lub w zestawie.Ponadto, kąpiel według w^y^t^larku jest łatwa w obsłudze, mało agresywna i tym samym prosta w konserwacji, a nadto może być używana w urządzeniach obrotowych i stacjonarnych.Osadzanie powłok z kąpieli według wynalazku prowadzi się w kielichu i bębnie zanurzeniowym lub w automacie, w przedziale temperatur od 290 - 310 K, z mieszaniem lub bez mie155 690 szania. Ilość cynku w kąpieli nie jest decydująca i może wahać się od 5 do 50 g/cm, stężenie chlorku amonu i./lub potasu i/luh sodu może byc zawarte od 100 <io 250 g/ćta^, rzystnie od 100 do 220.KąpPel według wynalazku jest zilustrowana w poniżej podanych przykładach: Przykład I.oCynku chlorek ZnClg . ...................................................... 40 g/darAmonu cUorek NH. Cl ....................................................... 200 g/dmPAlkohol cetylowy oksyetyOowany 15 molami tlerku etylenu ................Bernzylitonoaceton ......................................................zas ko,34 g/<mr O,2 g/dipWooa........................................................ w uzupełnieniu do 1 dm-’Kąpiel powyższa została przetestowana w komórce Hulla, gdzie anodą była płytka cynkowa o zawartości 99,95% Zn, a katodą odtłuszczona i wprawiona płytka stalowa. Przez komórkę przepuszczono prąd o natężeniu 3 A, w czasie 400 s, przy temperaturze 300 + 1 K przy wykorzystaniu mieszania magnetycznego. W ^riku uzyskano powłokę gładką i błyszczącą w zakrep p sie gęstoSci prądu 0,3 - 0,8 A/dm i 1,4 - 4 A/dm . W pozostałych zakresach gęstoSci prądu powłoki cynkowe były szare, nie nadające się do celów przemysłowych.oPrzykład II. Do kąpieli opisanej w przykładzie 1 dodano 5 g/dnr soli trietao noloaminowej kwasu benzoiOomlidowalerianowegt i 0,8 g/dnr oligomeru o ogólnym wzorze 2, w którym R^, R^, Rg, Ry są wodorami, m = 2,zaS p około 12. Kąppel przetestowano w tych samych warunkach jak w przykładzie I. W wyniku elektrolizy uzyskano powłokę cynkową piastyczną o wrsokim połysku w całym zakresie płytki, przy gęstoSci prądu 1-15 A/dm .oPrzykł ad III. Do kąpieli przedstawionej w przykładzie II dodano 40 g/dmr chlorku niklawego NiCOg^HgO i przetestowano ją w warunkach jakie podano w przykładzie I.W wyniku otrzymano błyszczącą powłokę stopową cynku z niklem przy gęstoSciach prądu w zap 2 kresie 0-6 A/dm a szarą i przypaloną przy gęstoSciach prądu powyżej 6 A/dm . W wyniku analizy stwierdzono, że osadzona powłoka stopowa zawierała 4,7% Ni. OdpornoSć korozyjna otrzymanej powłok:! stopowej, testowanej w komorze solnej zgodnie z zaleceniimi normy PN-76/H-O46O3, była dwikrotnie wyższa od powłoki cynkowej otrzymanej z kąpieli przedstawionej w przykładzie II.Przykład IV.Cynku octan .................................................. 45 g/^ćta^Amonu chltrek N.Cl ...................................................... 1°° g/dmPPotasu chltrer KC1 ....................................................... 120 g/dm3 oAlkohol oleinowy oksyetylowany 22 molami tlenku etylenu .................. 5 g/dnrBenzylitonoaceton ........................................................ 0,1 g/dnnP Aldehya i—chlo::to'ben:^oesoły ............................................... 0,1 g/dmOWod.................................................... w uzupełnieniu do 1 dnrPowyższa kąpiel została przetestowana w komórce Hlla, przy użyciu anody z cynku elektrolitycnnego i płytki stalowej jako katody. W trakcie elektrolizy przepuszczano prąd o natężeniu 2 A przez 600 s, przy temperaturze 300 K. W wyniku uzyskano powłokę cynkową szarą w zakresie gęstoSci prądu 0 - 0,3 A/dm i 0,8 - 1,3 A/dm oraz błyszczącą w zakresie * . 2 gęstoSci prądu do 4,5 A/dm . Kąpiel ta nie nadaje się do celów przemysłowych.Przykład V. Do kąpi.eli opisanej w ^^kładzie IV totono 3,5 g/drnP soli dietantoosrnin^ej toasu p-metokst-beEcoitomnidokapronowego i 1,2 g/dm-1 oligomeru o polnym wzorze 2, gdzie R^ i R^ są wodorami a Rg i Kj są grupami metylowymi, m = 3 zaS p jest około 8. Kąpiel przetestowano w tych samych warunkach jak podano w przykładzie IV. W wyniku elektrolizy uzyskano plastyczne powłoki błyszczące na całej płytce w zakresie gęstoSci prądu 1 - 10 A/dm .prztklad VI. Do topieli proeto-Ławione j w ^wlcłai^ie IV dodano 25 g/dm3 Florku kobaltawego 0001^6^0 i testołWEu:lt w warunkach jak podano w przykładzie IV. W wyniku otrymano błyszczącą powłokę stopową cynku z kobaltem w zakresie gęstoSci prądu 0-5 A/dm i przypaloną w zakresie waszych gęstoSci prądu. W wyniku, analizy ustalono, że osadzona powłoka stopowa zawierała 0,65% kobaltu, a cynk st£mow.ł uzupełnienie do 100%. Odporność155 690 korozyjna otrzymanej powłoki stopowej, testowanej w komorze solnej zgodnie z zaleceniami normy PN-76/H-O46O3 była około 1,5 raza wyższa od odporności powłoki cynkowej otrzymanej z kąpieli przedstawionej w przykładzie V.Jak wynika z powyższych przykładów, z kąpieli według wynalazku uzyskuje się powłoki cynkowe równomiernie błyszczące, w szerokim zakresie gęstości prądu - aż do kilkunastu A/dm , co w praktyce przemysłowej umożliwia dwr- a nawet trzykrotne skrócenie czasu cynkowania przy zachowaniu tej samej grubości powłoki. Ponadto charakterystyczne składniki kąpieli według wynalazku są dobrymi inhibitormi korozji w słabołwaśnym środowisku chlorków i kilkukrotnie hamują korozję żelaza, a tym samym skutecznie zwiększają żywotność urządzeń galwanizerskich i trwałość kąpieli.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL27464388A PL155690B1 (pl) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL27464388A PL155690B1 (pl) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL274643A1 PL274643A1 (en) | 1990-03-19 |
| PL155690B1 true PL155690B1 (pl) | 1991-12-31 |
Family
ID=20044027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL27464388A PL155690B1 (pl) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL155690B1 (pl) |
-
1988
- 1988-09-13 PL PL27464388A patent/PL155690B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL274643A1 (en) | 1990-03-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Boto | Organic additives in zinc electroplating | |
| JPH0693491A (ja) | 亜鉛および亜鉛合金を電着するための添加組成物、酸性亜鉛および亜鉛合金のメッキ浴、および方法 | |
| EP1075553B1 (en) | Zinc and zinc alloy electroplating additives and electroplating methods | |
| AU742766B2 (en) | Ductility agents for nickel-tungsten alloys | |
| JPS6015715B2 (ja) | 亜鉛めっき浴 | |
| GB2367825A (en) | Zinc and zinc alloy electroplating additives and electroplating methods | |
| US5021130A (en) | Aqueous acidic solutions for the electrodeposition of tin and lead/tin alloys | |
| US4119502A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
| US4014761A (en) | Bright acid zinc plating | |
| US5194140A (en) | Electroplating composition and process | |
| NO784204L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| US20090223827A1 (en) | Pulse Reverse Electrolysis of Acidic Copper Electroplating Solutions | |
| PL155690B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem | |
| US4138294A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
| US7329334B2 (en) | Controlling the hardness of electrodeposited copper coatings by variation of current profile | |
| CN109642337A (zh) | 三元锌-镍-铁合金和用于电镀这种合金的碱性电解液 | |
| JP3486087B2 (ja) | アルカリ性亜鉛又は亜鉛合金用めっき浴及びめっきプロセス | |
| JPS5941514B2 (ja) | 光沢錫又は光沢半田電気めつきする方法 | |
| JPH11193486A (ja) | 亜鉛めっき方法 | |
| JP7605484B2 (ja) | 亜鉛ニッケルめっき浴及び該浴を用いるめっき方法 | |
| JPH11158683A (ja) | スルファミン酸亜鉛めっき浴 | |
| PL213136B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów | |
| PL209286B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów | |
| JPS59211587A (ja) | めっき浴組成物 | |
| PL209563B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów |