Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do prowadzenia zamknietego obiegu kapieli do osadzania powlok w procesie galwanicznym* Znane urzadzenia do prowadzenia zamknietego obiegu kapieli w procesie galwanicznego nakladania powlok, zawieraja zwykle wyparke. Ma to najczesciej na celu odparowanie wody uzywanej do plukania i uzyskanie roztworu zatezonego o skladzie odpowiadajacym skladowi ka¬ pieli galwanicznej, po której nastepuje plukanie.Znane wyparki to z reguly urzadzenia prózniowe, z zewnetrzna komora grzejna (wyparki przeponowe). Najczesciej sa to tzw. wyparki ze wznoszaca sie warstewka cieczy (produkuja firmy Pfaudler, Corning, Cosmos). Stosowanie prózni ma na celu obnizenie temperatury prowa¬ dzenia procesu oraz zwiekszenie jego intensywnosci. Podwyzsza to jednak koszt urzadzenia.Spotyka sie równiez prózniowe wyparki cyrkulacyjne firmy Simaxi Inna grupa stosowanych wyparek sa wyparki bezprzeponowe, w których odparowanie odby¬ wa sie pod cisnieniem atmosferycznym (wyparki firmy Lancy).Surówka zagrzewana jest w zewnetrznym wymienniku ciepla, podawana od góry na kolumne z wypelnieniem, gdzie splywajac w przeciwpradzie w stosunku do przeplywajacego powietrza, odparowuje.Nalezy zaznaczyc, ze we wszystkich aktualnie stosowanych sposobach odparowania komora grzejna jest integralna czescia wyparki.Koszt dotychczas stosowanych urzadzen jest znaczny, zwlaszcza w przypadku kapieli agre¬ sywnych chemicznie, np. kapieli do chromowaniai W przypadku kapieli agresywnych, elementy grzejne wyparki nalezy wykonac ze specjalnego szkla borokrzemowego np. firmy Simax lub ze specjalnych materialów np. tytanu, tantalu. Urzadzenia pomocnicze musza miec specjalna kon-2 139 479 strukcje (np* pompy) itd* Znaczny koszt inwestycyjny, mimo ekonomicznosci calego przedsie¬ wziecia oraz oczywistych efektów ochrony srodowiska, hamuje rozwój nowej techniki utyli¬ zacji scieków* Zadaniem wynalazku jest opracowanie urzadzenia do odparowywania kapieli zawierajacego odpowiednie urzadzenie wyparne, aby za pomoca tego urzadzenia mozna bylo uzyskac zadane od¬ parowanie -wody z ukladu przy minimalnym koszcie wlasnym* UrzadzenJe do prowadzenia zamknietego obiegu kapieli do osadzania powlok w procesie galwanicznym, polegajacym na podawaniu kapieli ze strefy obróbki galwanicznej do strefy od¬ parowania i z powrotem, zawierajace wanne galwaniczna, urzadzenie wyparne polaczone z wanna galwaniczna poprzez urzadzenie podajace kapiel galwaniczna, korzystnie podnosnik powietrzny, wedlug istoty wynalazku charakteryzuje sie tym, ze w wannie galwanicznej lub w jej poblizu zawarte sa urzadzenia grzewcze a w komorze odparowania urzadzenia wyparnego brak jest jakich¬ kolwiek urzadzen grzewczych* Komora odparowania urzadzenia wyparnego jest pozioma i zawarta jest w niej przegroda, której wysokosc ustala grubosc warstwy cieczy, wlot kapieli do komory odparowania znajduje sie po przeciwnej stronie do przegrody, w komorze odparowania zawarty jest przewód lub przewody perforowane i/lub przewody o sciankach porowatych, przez które jest wprowadzane do odparowywanej kapieli powietrze, ewentualnie podgrzane powietrze, komora od¬ parowania jest od strony przegrody polaczona z separatorem, w górnej czesci separatora za¬ warty jest lapacz kropel cieczy, przez który jest odprowadzane wilgotne powietrze a w dolnej czesci separatora zawarty jest przewód odprowadzajacy zatezona kapiel do wanny galwanicznej, przy czym urzadzenie grzewcze w wannie jest podlaczone do ukladu regulacji temperatury ka¬ pieli.Korzystnie jest jesli materialem konstrukcyjnym do budowy urzadzenia wyparnego jest polichlorek winylu* Korzystne jest by lapacz kropel byl typu labiryntowego i zawieral kierownice przeply¬ wu powietrza* Korzystajac z urzadzenia wedlug wynalazku odparowuje sie tylko kapiel, a cieplo po¬ trzebne do zagrzania cieczy doprowadza sie tylko do kapieli znajdujaca) sie w wannie galwa- nizerskiej, lub w jej poblizu, wykorzystujac element grzejny bedacy standartowym wyposazeniem w/w wanny lub ogrzewa sie tylko powietrze wprowadzane do wyparki* Jesli wyparka jest koja¬ rzona z juz dzialajacym urzadzeniem galwanizerskim, wykorzystywany jest juz istniejacy ele¬ ment grzejny. W nowo projektowanych liniach unika sie dzieki temu dublowania elementów grzej¬ nych. Rozwiazanie to zmniejsza równiez ilosc urzadzen potrzebnych do automatycznej regulacji parametrów pracy kapieli* Jesli jest to konieczne ze wzgledów energetycznych, w wannie lub poza wanna zawarte sa urzadzenia grzewcze dodatkowe, których moc cieplna jest dopelnieniem róznicy pomiedzy moca cieplna juz istniejacych urzadzen a moca cieplna potrzebna dla prowa¬ dzenia odparowania z zadana wydajnoscia* Konstrukcja wyparki zastosowanej w urzadzeniu wedlug wynalazku charakteryzuje sie tym, ze odparowanie odbywa sie bezprzeponowo, przez przepuszczanie powietrza poprzez plyna¬ ca w zamknietym kanale odparowywana kapiel znajdujaca sie w fazie piany dynamicznej.Urzadzenie wedlug wynalazku jest pokazane w przykladzie wykonania na rysunku, na któ¬ rym fig. 1 przedstawia schematyczne urzadzenie wraz z pluczka i zbiornikiem dozujacym a fig. 2 przedstawia schematycznie modul wyparny zastosowany w urzadzeniu wedlug wynalazku i oznaczony na fig. 1 liczba 10. Surówka podawana jest króccem 1| plynie rura przeplywc-wa 2, przelewa sie przez przegrode 3 i z separatora 4 odprowadzana jest króccem 5« W odparowywa¬ nym roztworze, równolegle do osi rury 2, zanurzona jest rura doprowadzajaca 6 powietrze, które przeplywajac przez roztwór powoduje jego barbotaz i odparowanie* W lapaczu kropel 7, zatrzymywane sa czastki roztworu porwane przez powietrze* Jako materialy do budowy urzadze¬ nia stosuje sie zwykle rury z PCV*139 479 3 Takie rozwiazanie ma szereg zalet w stosunku do istniejacych urzadzeni Urzadzenie charakteryzuje sie duza prostota konstrukcyjna, latwoscia wykonania, prosta obsluga i bez- awaryjnoscia w trakcie eksploatacji. "W oparciu o jeden standartowy modul, taki jak pokaza¬ no w przykladzie na fig. 2 mozna budowac do urzadzenia wedlug wynalazku wyparki wielomodu- lowe o zadanej wydajnosci , zwykle do okolo 100 dur/h odparowywanej cieczy. Wyparki takie wymagaja niewiele miejsca i daja sie latwo skompilowac z dzialajaca juz linia galwanizer- ska. W warunkach laboratoryjnych sprowadzono dzialanie jednego modulu wyparki przedstawio¬ nego na rysunku fig. 2 o srednicy rury 2 D=70 mm i dlugosci strefy odparowania 1^0,5 m.W drugim eksperymencie uzyto dwa moduly wyparki do zamkniecia obiegu materialowego po chromowaniu w niewielkiej galwanizerni pracujacej w skali póltechnicznej. Parametry po¬ jedynczego modulu: D«110 mm, 1=1200 mm.Jak pokazano na fig. 2 popluczyny z pluczek 8 przewodem 20 kierowane sa w calosci do wanny galwanizerskiej 9. Natezenie przeplywu kapieli przez wyparke 10 regulowane jest za¬ worem 11. Urzadzenie posiada awaryjny przelew, którego przewód przelewowy oznaczono na fig»1 liczba 18. Kapiel po odparowaniu podawana jest pompa 12 do zbiornika dozujacego 13, skad przeplywa do wanny 9* Temperatura w wannie regulowana jest ukladem termoregulacyjnym skla¬ dajacym sie z termometru kontaktowego I4f przekaznika 15, przelacznika 16 i grzalki 17i Wy¬ lot powietrza z modulu wypamego oznaczono liczba 19« Calkowite odparowanie z dwóch modulów wyparnych polaczonych równolegle wynosilo QOrtDc10 dm /h. Pozwolilo to na zamkniecie obiegu materialowego galwanizerni.Na rysunku figi 2 nie pokazano kolumn jonitowych, przez które przeplywaja popluczyny w celu wyeliminowania zanieczyszczen, glównie jonów Cr^+, Fe • Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do prowadzenia zamknietego obiegu kapieli do osadzania powlok w proce¬ sie galwanicznym polegajacym na podawaniu kapieli ze strefy obróbki galwanicznej do strefy odparowania i z powrotem, zawierajace wanne galwaniczna, urzadzenie wyparne polaczone z wan¬ na galwaniczna poprzez urzadzenie podajace kapiel galwaniczna, korzystnie podnosnik po¬ wietrzny, znamienne tym, ze urzadzenia grzewcze (17) zawarte sa tylko w wannie galwanicznej lub w jej poblizu, komora odparowania (2) urzadzenia wyparnego jest pozioma i zawarta jest w niej przegroda (3), której wysokosc ustala grubosc poziomej warstwy cieczy, wlot (1) kapieli do komory odparowania znajduje sie po przeciwnej stronie do przegrody (3)f w komorze odparowania (2) zawarty jest przewód (6) lub przewody perforowane i/lub przewody o sciankach porowatych, przez które jest wprowadzane do odparowywanej kapieli powietrze, ewentualnie podgrzane powietrze, komora odparowania (2) jest od strony przegrody polaczona z separatorem (4), w górnej czesci separatora (4) zawarty jest lapacz (7) kropel cieczy, przez który jest odprowadzane wilgotne powietrze, a w dolnej czesci separatora (4) zawarty jest przewód (5) odprowadzajacy zatezona kapiel do wanny (9) galwanicznej, przy czym urza¬ dzenie grzewcze (17) w wannie jest podlaczone do ukladu skladajacego sie z termometru kon¬ taktowego 1^, przekaznika 15 i przelacznika 16 do regulacji temperatury kapieli. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze materialem konstruk¬ cyjnym do budowy urzadzenia wyparnego jest polichlorek winylu. 3« Urzadzenie wedlug zastrzi 1, znamienne tym, ze lapacz (7) kropel jest typu labiryntowego i zawiera kierownice przeplywu powietrzai139 ^79 Fig. 1 Fig. 2 Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz.Cena 130 zl PL