Przedmiotem wynalazku jest przyrzad do centrowania i naswietlania struktur na plytce pólprzewodnika, stosowany w produkcji przyrzadów pólprzewodnikowych, przy obustronnej fotolitografii.Struktury przyrzadów pólprzewodnikowych w czasie wykonywania procesów technologicznych przy ich wytwarzaniu wymagaja dokladnego centrowania i naswietlania na plytce pólprzewodnika.Znane dotychczas przyrzady do centrowania i naswietlania struktur na plytce pólprzewodnika pozwalaja poprzez fotomaske naswietlac emulsje fotoczula tylko na jednej stronie plytki.Znane sa równiez urzadzenia do obustronnego centrowania obrazów, umozliwiajace przeswietlanie plytki pólprzewodnika promieniami podczerwonymi lub promieniami rentgena. Urzadzenia te cechuje jednak skompli¬ kowana i rozbudowana konstrukcja, co jest przyczyna znacznej ich zawodnosci.Niedogodnoscia dotychczas stosowanych przyrzadów do centrowania i naswietlania struktur na plytce pólprzewodnika jest ograniczenie polegajace na tym, ze przy ich uzyciu mozna obrabiac plytki pólprzewodnika wylacznie z jednej strony i nie maja one zastosowania w,przypadkach obustronnej fotolitografii.Celem wynalazku jest wyeliminowanie tych niedogodnosci przez opracowanie nowego przyrzadu do centro¬ wania i naswietlania struktur na plytce pólprzewodnika, który pozwoli wykonywac operacje technologiczne przy obustronnej fotolitografii na plytce, przez mocowanie i centrowanie dwóch fotomasek oraz obustronne naswietlanie emulsji fotoczulej, naniesionej na plytke.Cel ten osiagnieto wedlug wynalazku przez wykonanie przyrzadu, który zbudowany jest z obrotowego stolika, umocowanego do podstawy przyrzadu. Na stoliku tym ustawia sie plyte, na której umocowuje sie fotomaske dolna.Przyrzad wyposazony jest takze w druga fotomaske, która mocuje sie na górnej plycie, polaczonej zawia¬ sem przegubowym z suportem górnym stolika wspólrzednosciowego. Natomiast suport górny ustawia sie na suporcie dolnym stolika wspólrzednosciowego. Stolik ten jest polaczony z podstawa przyrzadu przy pomocy prowadnicy.Ponadto przyrzad wedlug wynalazku wyposazony jest w pokretlo stolika obrotowego, pokretlo suportu górnego i pokretlo suportu dolnego stolika wspólrzednosciowego. Pokretla te sluza do centrowania obrazów fotomasek.2 122149 Przesuw wspólrzednosciowy suportu dolnego i,górnego oraz przesuw katowy jednej z fotomasek na stoliku obrotowym pozwala regulowac polozenie fotomaski górnej i centrowanie znaków jednej i drugiej fotomaski.W celu dwustronnego naswietlenia plytki pólprzewodnika pokrytej dwustronnie emulsja fotoczula, umie¬ szcza sie ja miedzy fotomaskami, naswietla oraz utrwala znanym sposobem przez poddanie obróbce chemicznej.Wykorzystanie przyrzadu wedlug wynalazku, wyposazonego w obrotowy stolik i suporty wspólrzednoscio¬ we pozwolilo mocowac w przyrzadzie jednoczesnie dwie fotomaski oraz centrowanie znaków jednej i drugiej.Ponadto zastosowanie w produkcji rozwiazania wedlug wynalazku umozliwilo umieszczenie plytki pólprzewod¬ nika miedzy fotomaskami i uzyskanie na niej obustronnego naswietlenia emulsji.Przedmiot wynalazku jest blizej objasniony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przed¬ stawia przekrój podluzny przyrzadu a fig. 2 jego widok z góry.Jak uwidoczniono na rysunku, przyrzad do centrowania i naswietlania struktur na plytce pólprzewodnika wyposazony jest w obrotowy stolik 1, umocowany do podstawy przyrzadu 2, na którym osadzona jest plyta 3 sluzaca do mocowania fotomaski 4. Natomiast druga fotomaska 5 zamocowana jest na górnej plycie 6, polaczo¬ nej zawiasem przegubowym 7 z suportem górnym 8 stolika wspólrzednosciowego. Suport górny 8 osadzony zostal na suporcie dolnym 9 stolika wspólrzednosciowego, który polaczony jest z podstawa przyrzadu 2 przy pomocy prowadnicy 10.W czasie naswietlania plytka pólprzewodnika 11 umieszczona jest miedzy fotomaskami 4 i 5 w osi otwo¬ rów znajdujacych sie w plycie 3 i 6.Centrowanie znaków fotomaski 4 i 5 wykonywane jest pokretlem 12 stolika obrotowego 1 oraz pokretlem 13 suportu górnego 8 i pokretlem 14 suportu dolnego 9 stolika wspólrzednosciowego.Zastrzezenia patentowe 1. Przyrzad do centrowania i naswietlania struktur na plytce pólprzewodnika, znamienny tym, ze wyposazony jest w suporty wspólrzednosciowe (8 i 9) do centrowania fotomaski górnej (5) z umieszczona pod nia druga fotomaska (4) zamocowana na plycie (3) obrotowego stolika (1), przy czym fotomaska górna (5) zamocowana na plycie górnej (6) jest polaczona zawiasem przegubowym (7) z suportem górnym (8) i przez prowadnice (10) z suportem dolnym (9). 2. Przyrzad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytka pólprzewodnika (11) umieszczona jest podczas naswietlania miedzy fotomaskami (4 i 5) w osi otworów plyt (3 i 6) przyrzadu.Hi* "X PL