PL120995B1 - Bath for bright zinc plating - Google Patents
Bath for bright zinc plating Download PDFInfo
- Publication number
- PL120995B1 PL120995B1 PL21561479A PL21561479A PL120995B1 PL 120995 B1 PL120995 B1 PL 120995B1 PL 21561479 A PL21561479 A PL 21561479A PL 21561479 A PL21561479 A PL 21561479A PL 120995 B1 PL120995 B1 PL 120995B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- epihalohydrin
- bath
- reaction
- electroplating
- zinc
- Prior art date
Links
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 12
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title description 12
- 239000011701 zinc Substances 0.000 title description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 title 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 4
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical class SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical compound ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N p-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001888 Peptone Substances 0.000 description 1
- 108010080698 Peptones Proteins 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 235000001727 glucose Nutrition 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCN QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000019319 peptone Nutrition 0.000 description 1
- SATCULPHIDQDRE-UHFFFAOYSA-N piperonal Chemical compound O=CC1=CC=C2OCOC2=C1 SATCULPHIDQDRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- GGHDAUPFEBTORZ-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diamine Chemical compound CCC(N)N GGHDAUPFEBTORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000925 very toxic Toxicity 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest kapiel do galwanicznego cynkowania z polyskiem, skladajaca sie z kompleksów cynkanowych z dodatkiem wyblyszczaczy.Do galwanicznego osadzania blyszczacych powlok cynkowych na wyrobach o zlozonych ksztaltach stosuje sie elektrolity alkalicznocyjankowe, aminochlorkowe i cynkanowe. Elektrolity alkalicznocyjankowe sa bardzo toksyczne, poniewaz zawieraja trujacy lotny cyjanowodór i jego sole. Tego rodzaju kapiele sa kosztowne w eksploatacji i neutralizacji popluczyn i szlamów, w zwiazku z koniecznoscia budowy specjalnej instalacji nawiewno-wywiewnej, stosowania ubran ochronnych, okresowego odnawiania zestawu lekarstw, sprzetu ochronnego itp.Elektrolity aminochlorkowe pracujace w srodowisku slabokwasnym lub obojetnym pozwa¬ laja na uzyskanie powlok cynkowych nawet o bardzo wysokim polysku. Wglebnosc tych elektroli¬ tów jest tylko zadawalajaca, zas wada ich jest duza agresywnosc w stosunku do urzadzen i obrabianych przedmiotów. Elektrolity te sa bardzo czule na zanieczyszczenia metalami ciezkimi, takimi jak Cu, Fe, Pb, Cd, Cr itp. a pochodzaca z nich woda popluczna zawiera duze ilosci amoniaku, który nalezy utleniac np. podchlorynem sodu w neutralizatorach scieków, podobniejak cyjanki.Obowiazujace obecnie przepisy z zakresu bezpieczenstwa i higieny pracy, a takze naturalnego srodowiska oraz zapowiedz dalszego zaostrzenia wymagan w tym zakresie, spowodowaly, ze powszechnie dazy sie do eliminowania cyjanków i amoniaku z kapieli galwanicznych. Alkaliczne bezcyjankowe kapiele do galwanicznego cynkowania z polyskiem charakteryzuja sie mala agresyw¬ noscia i czuloscia na zanieczyszczenia metalami ciezkimi. Neutralizacja popluczyn pochodzacych z takich kapieli polega na rozcienczeniu lub laczeniu z popluczynami kwasnymi; w wyniku wzaje¬ mnej neutralizacji wytracaja sie wodorotlenki, które dekantuje sie i oddziela jako szlam.Znane sa kapiele alkaliczne do galwanicznego cynkowania zawierajace rózne wyblyszczacze.Najczesciej opisywanymi dodatkami sa produkty reakcji zwiazków azotowych z epihalogenohyd- ryna lacznie z aromatycznymi aldehydami i betainami. Zwiazki te sa w kapielach alkalicznych nietrwale, co utrudnia kontrole ich zawartosci w elektrolicie. Z reguly substancje te powoduja kruchosc pokrycia cynkowego i zmniejszaja jego przyczepnosc do pokrywanego detalu, zas w2 120 995 wyniku przedozowania tych zwiazków w procesie elektrolizy wydzielaja sie duze ilosci wodoru, który powoduje nawodorowanie detali stalowych i zmniejszenie wydajnosci pradowej.Celem wynalazku jest wyeliminowanie podstawowych wad znanych kapieli do galwanicznego cynkowania z dodatkami wyblyszczajacymi.Zadanie techniczne prowadzace do osiagniecia tego celu polega na dobraniu takich skladni¬ ków elektrolitu alkalicznego, które sa trwale w tym srodowisku,wykazuja dzialanie wyblyszczajace w maksymalnie szerokim zakresie gestosci pradu i zapewniaja wysoka jakosc osadzanych powlok cynkowych.Istota kapieli do galwanicznego cynkowania wedlug wynalazku polega na tym, ze oprócz co najmniej jednego rozpuszczalnego zwiazku cynku i wodorotlenku sodowego i/lub potasowego zawiera jednoczesnie 1 -r 20 g/dm3 wodororozpuszczalnego oligomeru, otrzymanego w wyniku reakcji alifatycznej alkanoloaminy i dwuaminy z epihalogenohydryna, gdzie stosunek molowy amin do epihalogenohydryny moze wahac sie od okolo 1:1 do okolo 3:1, 0,1 -5- 5 g/dm3 kationo¬ wego polimeru otrzymanego w wyniku reakcji alifatycznej poliaminy z epihalogenohydry¬ na i 0,01 -r 1 g/dm3 aromatycznego merkaptalu, otrzymanego w wyniku kondensacji aromatycz¬ nych hydroksyaldehydów z merkaptotiazolami.Dzieki zastosowaniu kapieli do galwanicznego cynkowania wedlug wynalazku otrzymuje sie jednolite powloki cynkowe z wysokim polyskiem. Uzyskuje sie znaczna poprawe warunków bhp dzieki wyeliminowaniu toksycznych cyjanków ze stanowisk roboczych galwanizerni, neutraliza¬ tora scieków i laboratorium; zmniejsza sie ilosc chemikaliów uzytych do neutralizacji scieków oraz likwiduje emisje cyjanków do atmosfery i scieków.Przykladowe sklady kapieli do galwanicznego cynkowania podano ponizej.Przyklad I. Przygotowuje sie wodny roztwór alkalicznej bezcyjankowej kapieli do cynko¬ wania z polyskiem o nastepujacym skladzie: 10g/dm3ZnO; 100g/dm3NaOH; 5g/dm3 wodoroz- puszczalnego oligomeru otrzymanego w wyniku reakcji 50g jednometyloetanoloaminy i 60 g propanodwuaminy — 1,2 ze 120gepibromohydryny; l,2g/dm3 kationowego polimeru —pro¬ duktu reakcji 1 mola dwuetylenotrójaminy z 0,9 mola epichlorohydryny; 0,12 g/dm3 produktu kondensacji aldehydu anyzowego z 2-merkaptotiodazolem. Próbe przeprowadzono w komórce Hulla, w temperaturze pokojowej, przy uzyciu mieszadla magnetycznego, katody z zimnowalcowa¬ nej polerowanej stali niskoweglowej i anody z blachy cynkowej. Uzyskana powloka cynkowa charakteryzuje sie polyskiem w zakresie 0,1-2 A/dm2 i wysokim polyskiem w zakresie wiekszych gestosci pradu tj. 2 -5-6 A/dm2.Przyklad II. Przygotowuje sie kapiel o skladzie: 17g/dm3ZnO, 118g/dm3NaOH,6g/dm3 wodorozpuszczalnego oligomeru otrzymanego jak w przykladzie I, 0,9 g/dm3 kationowego poli¬ meru — produktu reakcji 1 mola czteroetylenopiecioaminy z 0,8 mola epibromohydryny; 0,08 g/dm3 produktu kondensacji heliotropiny z 2-merkaptobenzotiazolem. Przy uzyciu komórki Hulla o pojemnosci 267 cm3, w warunkach pracypodanych w przykladzie I — uzyskuje sie powloke blyszczaca w calym zakresie gestosci pradu na plytce stalowej.Przyklad III. Przygotowuje sie wodny roztwór alkalicznej kapieli do cynkowania z poly¬ skiem, o nastepujacym skladzie: 55g/dm3ZnS04X7H20; 137g/dm3NaOH, 4,5g/dm3wodoroz- puszczalnego oligomeru otrzymanego w wyniku reakcji 130gdwuetyloaminopropyloaminy z 60g 75% wodnego roztworu monoetanoloaminy z 70g epichlorohydryny; 1,1 g/dm3 kationowego polimeru otrzymanego jak w przykladzie 2; 0,15 g/dm3 produktu reakcji aldehydu p- hydroksybenzoesowego z 2,5-dwumerkaptotiodazolem. Przy uzyciu komórki Hulla o pojemnosci 267 cm3, w warunkach pracy podanych w przykladzie I — otrzymuje sie gladka blyszczaca powloke cynkowa, w calym zakresie gestosci pradu.Podane przyklady sa tylko wycinkowa ilustracja rozwiazania wedlug wynalazku. Do skladu kapieli wedlug wynalazku moga byc dodawane równiez znane dodatki, takie jak: zelatyna, alkohol poliwinylowy, pepton, glukoza, glukonian sodowy, czwartorzedowe aminy alifatyczne, aromaty¬ czne aldehydy, betainy, itp.Powloki cynkowe uzyskane dzieki zastosowaniu kapieli wedlug wynalazku moga byc konco¬ wym rezultatem procesu albo moga byc jeszcze rozjasnione w wodnym roztworze kwasu azoto¬ wego, a korzystnie chromianowane w znanych roztworach, uzywanych do tego celu.120995 3 Zastrzezenie patentowe Kapiel do galwanicznego cynkowania z polyskiem, zawierajaca co najmniej jeden rozpu¬ szczalny zwiazek cynku, wodorotlenek sodowy i/lub potasowy, znamienna tym, ze jednoczesnie zawiera 1-20g/dm3 wodorozpuszczalnego liniowego oligomeru otrzymanego w wyniku reakcji alifatycznej alkanoloaminy i dwuaminy z epihalogenohydryna, gdzie stosunek molowy amin do epihalogenohydryny moze wahac sie od okolo 1:1 do okolo 3:1, 0,1-5g/dm3 kationowego polimeru otrzymanego w wyniku reakcji alifatycznej poliaminy z epihalogenohydryna i 0,01-1 g/dm3 aromatycznego merkaptalu, otrzymanego w wyniku kondensacji hydroksyaldehy- dów z merkaptotiazolami. PL
Claims (1)
1. -20g/dm3 wodorozpuszczalnego liniowego oligomeru otrzymanego w wyniku reakcji alifatycznej alkanoloaminy i dwuaminy z epihalogenohydryna, gdzie stosunek molowy amin do epihalogenohydryny moze wahac sie od okolo 1:1 do okolo 3:1, 0,1-5g/dm3 kationowego polimeru otrzymanego w wyniku reakcji alifatycznej poliaminy z epihalogenohydryna i 0,01-1 g/dm3 aromatycznego merkaptalu, otrzymanego w wyniku kondensacji hydroksyaldehy- dów z merkaptotiazolami. PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL21561479A PL120995B1 (en) | 1979-05-16 | 1979-05-16 | Bath for bright zinc plating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL21561479A PL120995B1 (en) | 1979-05-16 | 1979-05-16 | Bath for bright zinc plating |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL215614A1 PL215614A1 (pl) | 1980-11-17 |
| PL120995B1 true PL120995B1 (en) | 1982-04-30 |
Family
ID=19996276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL21561479A PL120995B1 (en) | 1979-05-16 | 1979-05-16 | Bath for bright zinc plating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL120995B1 (pl) |
-
1979
- 1979-05-16 PL PL21561479A patent/PL120995B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL215614A1 (pl) | 1980-11-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101348927B (zh) | 无氰预镀铜溶液 | |
| JPS6015715B2 (ja) | 亜鉛めっき浴 | |
| US6755960B1 (en) | Zinc-nickel electroplating | |
| JPWO2020166062A1 (ja) | 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム | |
| US4229268A (en) | Acid zinc plating baths and methods for electrodepositing bright zinc deposits | |
| EP1639155B1 (en) | Zinc and zinc-alloy electroplating | |
| US4030987A (en) | Zinc plating method | |
| US4146442A (en) | Zinc electroplating baths and process | |
| US3821095A (en) | Zinc electroplating process and electrolyte therefor | |
| PL120995B1 (en) | Bath for bright zinc plating | |
| Snyder | Decorative chromium plating | |
| US20070023280A1 (en) | Zinc and zinc-alloy electroplating | |
| CA2372579A1 (en) | Alloy plating | |
| US3617456A (en) | Bath for the electrolytic stripping of galvanic coatings made of nickel, chromium or gold from base bodies made of copper, copper alloys, silver, zinc or titanium | |
| US4525248A (en) | Process for the electrolytic deposition of layers of nickel alloys | |
| GB2039299A (en) | Brightening and levelling agent for acid zinc plating baths | |
| US3826722A (en) | Electrolytic acidic solution for cadmiating of various parts | |
| JP3032148B2 (ja) | 粒状金属錫溶解液および錫めっき方法 | |
| DE2824975A1 (de) | Verwendung von wasserloeslichen, vernetzten stickstoffhaltigen kondensationsprodukten als zusatz fuer beiz-, polier- und entmetallisierungsbaeder | |
| JP2001049484A (ja) | 電気亜鉛めっき浴 | |
| PL153031B1 (pl) | Kąpiel do elektrolitycznego nakładania błyszczących i plastycznych powłok cynkowych | |
| GB2048951A (en) | Method of sewageless metallization | |
| US3840444A (en) | Alkaline cyanide free zinc electroplating bath | |
| PL139266B1 (en) | Alkaline non-toxic bath for electrolytic application of zinc coatings | |
| PL136699B2 (en) | Bright galvanizing bath |