PL119900B1 - Method of preparation of photomasks in the process of manufacturing layer or board with circuit printed on both sidesja sloja ili platy s pechatnojj skhemojj na obeikh ee storonakh - Google Patents

Method of preparation of photomasks in the process of manufacturing layer or board with circuit printed on both sidesja sloja ili platy s pechatnojj skhemojj na obeikh ee storonakh Download PDF

Info

Publication number
PL119900B1
PL119900B1 PL21069178A PL21069178A PL119900B1 PL 119900 B1 PL119900 B1 PL 119900B1 PL 21069178 A PL21069178 A PL 21069178A PL 21069178 A PL21069178 A PL 21069178A PL 119900 B1 PL119900 B1 PL 119900B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
photo
plate
templates
template
layer
Prior art date
Application number
PL21069178A
Other languages
English (en)
Other versions
PL210691A1 (pl
Inventor
Jerzy Ekner
Ryszard Jaworski
Jerzy Lasocki
Krzysztof Rukuszewicz
Zygmunt Sawicki
Slawomir Siedlecki
Original Assignee
Inst Maszyn Matematycznych
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Maszyn Matematycznych filed Critical Inst Maszyn Matematycznych
Priority to PL21069178A priority Critical patent/PL119900B1/pl
Publication of PL210691A1 publication Critical patent/PL210691A1/xx
Publication of PL119900B1 publication Critical patent/PL119900B1/pl

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób przygoto¬ wania fotoszablonów w procesie wytwarzania war¬ stwy lub plytki z obwodem drukowanym po obu jej stronach, zwlaszcza stosowany przy wykonywa¬ niu platów pamieci na cienkich drutach magne¬ tycznych dla maszyn matematycznych. , W procesie wytwarzania warstwy lub plytki z obwodem drukowanym wystepuje operacja naswie¬ tlania powloki swiatloczulej znajdujacej sie na folii miedzianej obrabianej warstwy lub plytki. Naswie¬ tlanie prowadzi sie po nalozeniu na obrabiana warstwe lub plytke fotoszablonu, umozliwiajacego odwzorowanie na powloce swiatloczulej elementów nadruku, które maja byc zachowane podczas na¬ stepnej operacji wytrawiania obrabianej warstwy lub plytki. W przypadku obustronnego nadruku warstwy lub plytki o jej jakosci w znacznym sto¬ pniu decyduje dokladnosc ustawienia fotoszablo¬ nów na plytce przed operacja naswietlania. Odpo¬ wiadajace sobie po obu stronach plytki* i przewi¬ dziane do naswietlania elementy obu fotoszablonów powinny dokladnie lezec jeden nad drugim.Znany sposób przygotowania fotoszablonów, u- mozliwiajacy nalozenie ich na obrabiana warstwe lub plytke przed operacja naswietlania, polega na wykonaniu otworów bazowych z okreslona tole- rantej.a oddzielnie w kazdym z fotoszablonów — uprzednio naswietlonych i obrobionych fotoche¬ micznie — oraz w obrabianej plytce. Otwory ba¬ zowe na fotoszablonach oraz plytce powinny byc 10 ii wykonane w jednakowej odleglosci od siebie oraz zajmowac jednakowe polozenie wzgledem odpo¬ wiadajacych sobie elementów obu fotoszablonów.Tak przygotowane fotoszablony naklada sie na obie strony plytki i ustala ich wzajemne polozenie za pomoca koleczków bazujacych. Dokladnosc usta¬ wienia odpowiadajacych sobie elementów jeden nad drugim obu fotoszablonów zalezy od doklad¬ nosci ' polozenia otworów bazowych wzgledem wspomnianych elementów. Poniewaz otwory ba¬ zowe wykonuje sie oddzielnie w kazdym fotosza- blonie z okreslona tolerancja, opisany sposób nie gwarantuje wymaganej dokladnosci ustawienia ele¬ mentów jeden nad drugim obu fotoszablonów, a co za tym idzie, elementów nadruku plytki lub war¬ stwy, zwlaszcza w przypadku niekorzystnego zbie¬ gu tolerancji wykonania otworów bazowych. Dla skorygowania niedokladnosci wykonania otworów bazowych w fotoszablonach, wynikajacych z tole¬ rancji wykonawczych w kazdym fotoszablonie, je¬ den z otworów wykonuje sie w ksztalcie lezki a drugi kolowy. Otwory w fotoszablonach wyko¬ nuje sie za pomoca wiertarki wspólrzednosciowej.Znany sposób jest kosztowny i uciazliwy, zwlasz¬ cza przy wykonywaniu otworów lezkowatych. Po¬ nadto podczas operacji wiercenia istnieje mozli¬ wosc przypadkowych uszkodzen emulsji fotoszablo¬ nu, co wplywa niekorzystnie na jakosc wykonywa¬ nej plytki lub warstwy.Inny znany sposób, polegajacy na wykrawaniu. 11»900otworów w blonach graficznych swiatloczulych — przed naswietlaniem, podczas którego powstaje fo¬ toszablon, jest mozliwy do stosowania w ograni¬ czonych¦'? przypadkach/ gdy fotoszablony wykonuje sie przy pomocy fotokoordynatografów z nieprze- nosna kaseta, na której lezy blona graficzna pod¬ czas^ naswjetlania.Zgodnie z wynalazkiem sposób przygotowania fotoszablonów w procesie wytwarzania warstwy lub plytki z obwodem drukowanym po obu jej stronach polega na wykonaniu za pomoca specjal¬ nego dziurkacza otworów bazowych oddzielnie w kazdym z fotoszablonów, uprzednio naswietlonych i obrobionych fotochemicznie.Kazdy z fotoszablonów uklada sie na stole dziur¬ kacza, korzystnie stanowiacym plytke tnaca z na¬ niesionym rysunkiem wzorca fotoszablonu i usta¬ wia wzgledem wspomnianego rysunku wzorca i stempli dziurkacza z okreslona dokladnoscia. W ustawionym fotoszablonie wykonuje sie otwory ba¬ zowe za pomoca stempli. Korzystnie jest, jesli ry¬ sunek wzorca jest naniesiony na podloze wykonane z tego samego materialu co fotoszabloh.Sposób wedlug wynalazku dzieki zastosowaniu specjalnego dziurkacza do wykonywania otworów bazowych zapewnia wymagana dokladnosc usta¬ wienia fotoszablonów na plytce tak, ze odpowia¬ dajace elementy na obu fotoszablonach leza jeden nad drugim. Umozliwia to wykonywanie nadruku po obu stronach warstwy lub plytki z wymagana dokladnoscia. Sposób jest prosty i latwy w stoso¬ waniu.Wynalazek jest blizej wyjasniony w przykladzie wykonania — obejmujacym przygotowanie foto¬ szablonów w procesie wytwarzania warstw plata pamieci dla maszyn matematycznych — oraz na rysunku przedstawiajacym fotoszablon nalozony na stole dziurkacza do wykonywania otworów bazo¬ wych w widoku aksonometrycznym. 900 4 Sposób przygotowania fotoszablonów w procesie wytwarzania warstw plata pamieci dla maszyn matematycznych polega na wykonaniu za pomoca dziurkacza 1 otworów bazowych oddzielnie w kaz- 5 dym z fotoszablonów, uprzednio naswietlonych i obrobionych fotochemicznie. Fotoszablon 2 uklada sie na plycie tnacej 3 dziurkacza 1, na której jest naniesiony rysunek wzorca 4, wykonanej na pod¬ lozu z tego samego materialu co fotoszablon 2.Fotoszablon 2 ustawia sie wzgledem wspomniane¬ go rysunku wzorca 4 i stempli 5 umieszczonych w prowadnicy 6 dziurkacza 1 z okreslona doklad¬ noscia tak, aby odpowiadajace sobie elementy fo¬ toszablonu 2 i rysunku wzorca' 4 lezaly jeden nad drugim. W ustawionym fotoszablonie 2 wykonuje sie otwory bazowe za pomoca stempli 5. Opisane czynnosci powtarza sie dla drugiego fotoszablonu oraz plytki.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób przygotowania fotoszablonów w pro¬ cesie wytwarzania warstwy lub plytki z obwodem drukowanym po obu jej stronach polegajacy na wykonaniu otworów bazowych oddzielnie w kaz¬ dym z fotoszablonów uprzednio naswietlonych i obrobionych fotochemicznie, znamienny tym, ze otwory bazowe wykonuje sie za pomoca dziurka¬ cza tak, ze kazdy z fotoszablonów uklada sie na stole dziurkacza, korzystnie stanowiacym plyte tna¬ ca z naniesionym rysunkiem wzorca fotoszablonu i ustawia go wzgledem rysunku wzorca i stempli dziurkacza z okreslona dokladnoscia, po czym w ustawionym fotoszablonie wykonuje sie otwory ba- zowe za pomoca stempli. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze rysunek wzorca jest naniesiony na plytke tnaca wykonana z tego samego materialu co wytwarza¬ na warstwa lub plytka z obwodem drukowanym.119 000 PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób przygotowania fotoszablonów w pro¬ cesie wytwarzania warstwy lub plytki z obwodem drukowanym po obu jej stronach polegajacy na wykonaniu otworów bazowych oddzielnie w kaz¬ dym z fotoszablonów uprzednio naswietlonych i obrobionych fotochemicznie, znamienny tym, ze otwory bazowe wykonuje sie za pomoca dziurka¬ cza tak, ze kazdy z fotoszablonów uklada sie na stole dziurkacza, korzystnie stanowiacym plyte tna¬ ca z naniesionym rysunkiem wzorca fotoszablonu i ustawia go wzgledem rysunku wzorca i stempli dziurkacza z okreslona dokladnoscia, po czym w ustawionym fotoszablonie wykonuje sie otwory ba- zowe za pomoca stempli.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze rysunek wzorca jest naniesiony na plytke tnaca wykonana z tego samego materialu co wytwarza¬ na warstwa lub plytka z obwodem drukowanym.119 000 PL
PL21069178A 1978-11-03 1978-11-03 Method of preparation of photomasks in the process of manufacturing layer or board with circuit printed on both sidesja sloja ili platy s pechatnojj skhemojj na obeikh ee storonakh PL119900B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21069178A PL119900B1 (en) 1978-11-03 1978-11-03 Method of preparation of photomasks in the process of manufacturing layer or board with circuit printed on both sidesja sloja ili platy s pechatnojj skhemojj na obeikh ee storonakh

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21069178A PL119900B1 (en) 1978-11-03 1978-11-03 Method of preparation of photomasks in the process of manufacturing layer or board with circuit printed on both sidesja sloja ili platy s pechatnojj skhemojj na obeikh ee storonakh

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL210691A1 PL210691A1 (pl) 1980-07-01
PL119900B1 true PL119900B1 (en) 1982-01-30

Family

ID=19992362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL21069178A PL119900B1 (en) 1978-11-03 1978-11-03 Method of preparation of photomasks in the process of manufacturing layer or board with circuit printed on both sidesja sloja ili platy s pechatnojj skhemojj na obeikh ee storonakh

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL119900B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL210691A1 (pl) 1980-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH04503718A (ja) 三次元のメッキまたはエッチング法およびそのためのマスク
US4727806A (en) Pin register system for flexographic printing plates
US4049903A (en) Circuit film strip and manufacturing method
EP0272840A3 (en) Apparatus and method of automatically punching hole patterns in sheets of material
CN106061108A (zh) 一种印刷电路板防焊对位结构
KR100815361B1 (ko) 인쇄회로기판의 제조방법
PL119900B1 (en) Method of preparation of photomasks in the process of manufacturing layer or board with circuit printed on both sidesja sloja ili platy s pechatnojj skhemojj na obeikh ee storonakh
GB2179890A (en) Pin register system in production of printing plates
US3065681A (en) Master pattern printer
US3649273A (en) Printed circuit process and articles
US3171741A (en) Printed wiring layout process
CN214429767U (zh) 一种用于曝光工序的基板
JPS632106B2 (pl)
JP2685934B2 (ja) 両面プリント配線板の製造方法
JPH0318098A (ja) シート状体の孔加工方法
US20030002263A1 (en) HDI circuit board and method of production of an HDI circuit board
CN106211559B (zh) 一种印刷电路板防焊对位方法
JPH02277280A (ja) プリント基板のパターン認識マーク形成法
JPS61276791A (ja) レ−ザ光線による彫刻方法
JPS612384A (ja) セラミツク多層配線基板の製造方法
JPH0513898A (ja) プリント配線板
JPS58303Y2 (ja) 印刷配線基板
JPH04174586A (ja) 印刷配線板
JPS59232482A (ja) ドライフイルムのラミネ−ト方法
JPS62291087A (ja) 配線板の製造方法