PL118086B1 - Method of manufacture of brightening additions for cyanide-free bath for lustre zinc platingstykh vann gal'vanicheskogo cinkovanija s bleskom - Google Patents
Method of manufacture of brightening additions for cyanide-free bath for lustre zinc platingstykh vann gal'vanicheskogo cinkovanija s bleskom Download PDFInfo
- Publication number
- PL118086B1 PL118086B1 PL20648578A PL20648578A PL118086B1 PL 118086 B1 PL118086 B1 PL 118086B1 PL 20648578 A PL20648578 A PL 20648578A PL 20648578 A PL20648578 A PL 20648578A PL 118086 B1 PL118086 B1 PL 118086B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- cyanide
- zinc
- brightening
- vanicheskogo
- platingstykh
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 9
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 8
- 239000011701 zinc Substances 0.000 title description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 5
- 238000005282 brightening Methods 0.000 title description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 title description 2
- VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N bis(4-fluorophenyl)-methyl-(1,2,4-triazol-1-ylmethyl)silane;methyl n-(1h-benzimidazol-2-yl)carbamate Chemical compound C1=CC=C2NC(NC(=O)OC)=NC2=C1.C=1C=C(F)C=CC=1[Si](C=1C=CC(F)=CC=1)(C)CN1C=NC=N1 VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 17
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 amines Chemical class 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 5
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000209149 Zea Species 0.000 description 2
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 description 2
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QATBHPRGIYBHEF-UHFFFAOYSA-L [Ca+2].[O-]O.[O-]O Chemical compound [Ca+2].[O-]O.[O-]O QATBHPRGIYBHEF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania z glikoli i wodoronadtlenku knumenu dodatków wy¬ blyszczajacych do bezcyjankowych kapieli galwa¬ nicznego cynkowania z polyskiem. Kapiele galwa¬ nicznego cynkowania wymagaja stosowania cyjan¬ ków.
Ochrona naturalnego srodowiska zwieksza wy¬ magania odnosnie jakosci odprowadzanych scieków przemyslowych, takze galwanizerskich. Wiaze sie to z eliminacja miedzy innymi i cyjanków w tych sciekach.
W galwanizerniach obecnie wprowadza sie alka¬ liczne i slabo-kwasne bezcyjankowe kapiele galwa¬ nicznego cynkowania. Jakosc uzyskiwanych powlok cynkowych z kapieli bezcyjankowych uzalezniona jest od stosowania odpowiednich dodatków. W sklad kapieli bezcyjankowych obok substancji buforuja¬ cych, chelatujacych i powierzchniowio-czynnych wchodza takze zwiazki organiczne jako dodatki blaskotwórcze tych powlok.
W alkalicznych bezcyjankowych kapielach gal¬ wanicznego cynkowania z polyskiem stosowane sa jako dodatki wyblyszczajace róznego rodzaju zwiazki organiczne, glównie aminy, alkanoloaminy, polietylenoiiminy, aromatyczne aldehydy i inne.
Do bezcyjankowych slabo-kwasnych kapieli gal¬ wanicznego cynkowania z polyskiem stosowane sa ketony aromatyczne, etery alkilo-aromatyczne, a-nienasycone zwiazki karbonylowe, zwiazki hete¬ rocykliczne z atomem azotu w piersciendu i inne. 10 15 23 30 Tak do kapieli alkalicznych, jak i slabo-kwasnych dodatki blaskoitwórcze stosowane sa Jako czyste preparaty. Komponowanie kapieli z zastosowaniem tych preparatów wymaga dodatku miedzy innymi zwiazków powierzchniowo-czynnych, co jest dodat¬ kowa operacja techniczna. Z drugiej strony stoso¬ wane dodatki jako preparaty chemicznie czyste sa kosztowne,, synteiza ich opiera sie najczesciej na importowanych chemikaliach, a preparatyka jest zlozona.
Znany jest takze sposób wytwarzania dodatków wyblyszczajacych do slabonkwasnych bezcyjanko¬ wych kapieli galwanicznego cynkowania z alifa¬ tycznych alkoholi I^rzed. jednowodorotlenowych i wodoronadtlenku kiumenu. Dodaltiki te stanowia zlozona mieszanine kanbonylowych i hydroksykar- bonylowych jednopodstaiwdionych pochodnych ben¬ zenu. Jednakze moga byc one stosowane jako do¬ datki wylacznie do slabo-kwasnych kapieli galwa¬ nicznego cynkowania z polyskiem.
Celem wynalazku jest opracowanie sposobu wy¬ twarzania dodatków wyblyszczajacych do bezcyjan¬ kowych kapieli galwanicznego cynkowania, pracu¬ jacych w szerszym zakresie pH, a ponadto oparcie syntezy tych dodatków na tanich, dostepnych su¬ rowcach.
Dodatki do bezcyjankowych slabo4swasnych i sla¬ bo-alkalicznych kapieli galwanicznego cynkowania z polyskiem mozna otrzymac prowadzac rozklad wodoronadtlenku kumenu w srodowisku glikoli. 11S 030naw* Wodoronadtilenek kuimenu jecit stosowany jako pólprodukt w kumenowej metodzie otrzymywania fenolu, jako katalizator polimeryzacji butadienu.
Prowadzac rozklad wodoronadtlenku kuimenu w atmo&terze ga2u obojetnego w srodowisku gli¬ koli C8—C iw temperaturze 185—£00°C i nie wyz¬ szej, jak temperatura wrzenia danego glikolu, ko¬ rzystnie 200°C, przy zachowaniu stosunku molowe¬ go glikoli: wodoronadiblenek = 1 : 0,25—U : 3,0, ko¬ rzystnie 1:2,0 przy szybkosci dozowania wodoro- nadtlemku 0,1 —^2,0 cm3/min korzystnie 0,4 cm3/min w stosunku do 1 imola glikolu otrzymuje sie mie¬ szanine jednopodstawionych pochodnych benzenu.
W sklad mieszaniny wchodza ketony aromatyczne, estry, alkilo-aromatyczne, hydroksy estry alkilo- -aroirnfrtyczfre i hydroksy ketony alkilo-arornatycz- ne o wzorach jak na rysunku (we wzorach tych n=l—5). Mieszanina ta zostala okreslona ogól- njfm symbolem jako ctodatek Gl^W. iDodatek GU-W stosowany do konwencjonalnych slabo^twainych i slabo-aikalicznych kapieli galwa¬ nicznego cynkowania pozwala uzyskac blyszczace powloki cynkowe w szerokim zakresie gestosci pradu.
Sposób syntezy dodatków wyblyszczajacych do bezcyjankowych kapieli galwanicznego cynkowania z polyskiem wedlug wynalazku jiest prosty i oparty na glikolach -i wodoronadtlenku kurnemu jako su¬ rowcach wyjsciowych: Przyklad I. 62,2 g glikolu etylowego zadano w temperaturze 190 ±2°C wodoronadtlenkiem ku- menu w ilosci 152,2 g (co odpowiada stosunkowi molowemu 1:1) wfcraplajac go pod powierzchnie glikolu z szybkoscia 0,4 can3/rnan, przy dntensyw- nym mieszaniu w atmosferze gazu obojetnego i ciaglym odprowadzaniu lotnych i niskowtrzacych produktów reakcji. Po zakonczeniu dozowania wo- dGroruaditlenku kurnemu uitrzyimano stala tempera¬ ture przez okolo 30 min. Wydajnosc procesu wy¬ nosi 50% w stosunku do masy sufostratów.
Przyklad II. 62,2 g glikolu etylowego zadano w temperaturze 196 ±2°C wodoronadtlenkiem ku¬ rnemu w ilosci 304,4 g (co odpowiada stosunkowi molowemu 1:2). Postepujac, jak w przykladzie I, uzyskano 70°/o produktu koncowego w stosunku do niasy suibsttratów. 10 20 25 30 35 40 45 Przyklad III. 76,0 g poropandoola 1,2 zadano w temperaturze ISO ±2°C wodoronadtlenkiem ku- menu w ilosci 76,1 g (co odpowiada stosunkowi molowemu 1:0,5), Postepujac, jak w przykladzie I uzyskano 50% wagowych produktu koncowego w ?fMjau"fi;lrtl dg, macy wbstratów.
•Przyklad IV: 00,1 g foutanodMu 1,4 zadano w temperaituorze 200 ±2°C wodoaxmadttaikafian ku¬ rnemu, w ilosci 152^2 (co odpowiada stosunkowi mo¬ lowemu 1:1). Postepujac, jak " w przykladzie I uzyskano 40% wagowych produktu koncowego w sitosomkiu do masy substratów.
.Przyklad V. Zastosowanie dodatków wy¬ blyszczajacych GlnW do bezcyjankowej kapieli gal¬ wanicznego cynkowania z polyskiem. W komórce Hulla na plytce stalowej uzyskuje sde powloke cyn¬ kowa o .polysku lustrzanym. Sklad kapieLi byl na¬ stepujacy: ZNC12 — 60 g/dom3, NH4C1 — 180 g/dcm3, niejonowy zwiazek powierzchniowo-czynny — 2 g/idcm3, dodatek wyblyszczajacy Gl-W — 0,05:5,0 g/dcm3. Tak otrzymany elektrolit ma pH = 4,5 : 5,5. Proces .prowadzono w temperaturze 285 : 305 K oraz przy gestosci pradu 1 :5 A/dcm2.
Z as tr zez[en i a patentowe 1. Sposób wytwarzania dodatków wyblyszczaja- cych do becyjankowych kapieli galwanicznego cyn¬ kowania z polyskiem, z wodoronadtlenku kuimenu i zwiazków hyfdiroksytlowyicih., znamienny tym, ze wodoronadtlenek kuimenu ogrzewa sde w srodowi¬ sku glikoli C2—CR w temperaturze 185—300°C, nie wyzszej jednak niz temperatura wrzenia danego glikolu, przy zachowaniu stosunku molowego gli¬ kolu do wodoronadtlenku kumenu, jak 1 : 0,25— 1 : 3,0, korzystnie 1 :2,0 w atmosferze gazu obojet¬ nego, przy czym wodoronadtlenek kumenu wpro¬ wadza sie z szybkoscia 0,1—2,0 cm^tmimute w sto¬ sunku do 1 mola glikolu. 12. SlpoisGb wedlug za reakcje prowadzi sie w temperaturze 200°C. 8. Sposób wedlug zas/trz. 1> znamienny tym, ze wodoronadtlenek kumenu wprowadza sde z szyb¬ koscia 0,4 cmVnunute w stosunku do 1 mola glikolu.
O -C -CM4 0 tHj ^ - U I tort C —C — CHsfiH C-0-(tHE)ntHj o o c-o-K-OH [oJloHl L.IZJGraf. Z-d N: 2 — ilD»/eB H00 egz.. A-4 Cena 100 zl
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20648578A PL118086B1 (en) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | Method of manufacture of brightening additions for cyanide-free bath for lustre zinc platingstykh vann gal'vanicheskogo cinkovanija s bleskom |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20648578A PL118086B1 (en) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | Method of manufacture of brightening additions for cyanide-free bath for lustre zinc platingstykh vann gal'vanicheskogo cinkovanija s bleskom |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL206485A1 PL206485A1 (pl) | 1979-12-17 |
| PL118086B1 true PL118086B1 (en) | 1981-09-30 |
Family
ID=19988999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL20648578A PL118086B1 (en) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | Method of manufacture of brightening additions for cyanide-free bath for lustre zinc platingstykh vann gal'vanicheskogo cinkovanija s bleskom |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL118086B1 (pl) |
-
1978
- 1978-04-28 PL PL20648578A patent/PL118086B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL206485A1 (pl) | 1979-12-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100480434C (zh) | 用于铜-锡合金电镀的焦磷酸电镀液 | |
| FR2565259A1 (fr) | Electrolyte acide aqueux, et procede de revetement electrolytique de cuivre a vitesse elevee | |
| FR2476151A1 (fr) | Bains de depot electrolytique de cuivre, contenant un compose de brillance a radical phtalocyanine substitue | |
| US4132610A (en) | Method of bright electroplating of tin-lead alloy | |
| JPH02107793A (ja) | 水性電気メッキ浴 | |
| JP2008291287A (ja) | 耐連続衝撃性に優れた銅−錫合金めっき製品の製造方法 | |
| JPS6015715B2 (ja) | 亜鉛めっき浴 | |
| FR2550230A1 (fr) | Procede et bains pour le depot par voie electrolytique d'alliages zinc/fer | |
| FR2476687A1 (fr) | Bains galvaniques neutres d'etamage | |
| PL118086B1 (en) | Method of manufacture of brightening additions for cyanide-free bath for lustre zinc platingstykh vann gal'vanicheskogo cinkovanija s bleskom | |
| JP4545367B2 (ja) | 高光沢白色ロジウムコーティングを電気メッキするための槽および電気メッキ槽のための白色化剤 | |
| FR2467892A1 (fr) | Solutions aqueuses de revetement electrolytique de zinc et leur procede d'utilisation | |
| GB2139646A (en) | Sealing anodised aluminium | |
| FR2547318A1 (fr) | Composition d'electrolyte et procede pour le depot electrolytique de cuivre | |
| FR2493349A1 (fr) | Procede d'obtention de revetements d'or, resistant a la corrosion, sur un substrat et revetements d'or durci notamment par du cobalt ainsi obtenus | |
| US3617451A (en) | Thiosulfate copper plating | |
| GB2253634A (en) | Pretreating solution for silver plating to prevent silver displacement | |
| FR2538815A1 (fr) | Procede pour former, par electrolyse, un revetement de cuivre sur un substrat, a partir d'un bain exempt de cyanure, et anode pour la mise en oeuvre de ce procede | |
| JPH0124231B2 (pl) | ||
| GB2109789A (en) | Benzaldehyde ether derivatives and their use in zn-electroplating | |
| US2861927A (en) | Process for adjusting the components in aqueous alkali cyanide electrolytes | |
| WO2000056952A1 (en) | Electroplating baths | |
| JP4524773B2 (ja) | 無電解スズメッキ浴の分割保存方法 | |
| FR2463823A1 (fr) | Procedes et compositions pour le depot electrolytique de palladium, utilisant une source d'ions nitrites libres | |
| JPH0359995B2 (pl) |