PL116997B1 - Method of regeneration of non-metallic substrates for chemical nickel platingmicheskogo nikelirovanija - Google Patents

Description

Opis patentowy opublikowano: 15.07.1983 116997 Int. Cl.8 C23G 1/10* CZY itLNlA Urzedu Pot«fitowego Twórcy wynalazku: Jan Przyluski, Jerzy Bielinski, Alicja Bielinska Uprawniony z patentu: Politechnika Warszawska, Warszawa (Polska) Sposób regeneracji podlozy niemetalicznych dla niklowania chemicznego Przectaioltem wynalazku jest sposób regeneracji podlozy mieprzewodzaccyh pradu elektrycznego, wykonanych ze szkla, ceramiki, tworzyw sztucz¬ nych itp., materialów niemetalicznych, które po usunieciu uprzednio naniesionej warstwy niklu, 5 moglyby byc ponownie niklowane chemicznie.Otrzymywane pokrycie metalicznego niklu a tak¬ ze stopów NiP i NiiB, wskazuja cenne wlasciwosci i sa wykorzystywane w celach antykorozyjnych, zdobniczych a przede wszystkim w elektronice dla 10 konstrukcji elementów i podzespolów z warstwa przewodzaca prad elektryczny, jak rezystory, kon¬ densatory itp.Jednakze czesto zdarza sie, ze wytworzone po¬ wloki sa wadliwe i elementy z takimi powlokami 15 nie moga byc praktycznie wykorzystane, stad wiec wynika potrzeba usuniecia tych powlok celem od¬ zyskania podloza, które pózniej, po ponownym naniesieniu powlok, moga byc pelnowartosciowe.W dotychczasowej praktyce, warstwy niklu lub ^ jego stopów z podlozy metalicznych usuwa sie na drodze dzialania kwasem azotowym, siarkowym lub solnym albo tez ich mieszaninami, przy czym czesto stosuje sie roztwory zawierajace kwas fos¬ forowy i kwas fluorowodorowy. W przypadku jed- u nak gdy odzyskiwane podloze jest wykonane z ma¬ terialu niemetalicznego, skladniki roztworów tra¬ wiacych reaguja z podlozem np. roztwarzajac tle¬ nek glinowy lub inne tlenki metali w podlozu szklanym i ceramicznym jak równiez przenikaja ^ 2 w glab tworzyw sztucznych, zwlaszcza podczas dlugotrwalego trawienia. Zmieniaja sie wiec wlas¬ ciwosci podloza, np., zwieksza sie chropowatosc powierzchni, co w przypadku precyzyjnych ele¬ mentów elektronicznych wyklucza ponowne ich- wykorzystanie.Okazalo sie, ze trudnosci tych mozna uniknac^ stosujac sposób wedlug wynalazku, który polega: na trawieniu warstw niklu oraz jego stopów na podlozu niemetalicznym w roztworach wodnych zawierajacych jony nadsiarczanowe o- stezeniu 0,1—2,0 M/l zgodnie z równaniem: Na2S208 + Ni Na2S04 + NiS04 Z powstalej mieszaniny soli mozna latwo odzyskac- metaliczny nikiel, np., na drodze elektrolizy.Poniewaz jednak roztwory nadsiarczanowe pasy- wuja czesc powierzchni niklu jak równiez zbyt po¬ woli roztwarzaja stopy niklu, korzystny jest doda¬ tek kwasu mineralnego o niewielkim stezeniu 0,01—1,0 M/l.Stwierdzono równiez, ze roztwory nadsiarczano¬ we ulegaja w miare uplywu czasu samorzutnemu rozkladowi, dlatego tez dla zahamowania tego roz¬ kladu, dodaje sie. srodka inhibitujacego, w szcze¬ gólnosci 8-hydroksychinoIine w stezeniu 0,1—10* mM/1, co jednoczesnie utrudnia trawiace dzialanie kwasów mineralnych na powierzchnie podlozy.Przedmiot wynalazku jest zilustrowany w przy¬ kladach wykonania, które nie ograniczaja jego* zakresu. 116 997116 997 Przyklad I. 100 elementów walcowych z -porcelany elektrotechnicznej, pokrytych rezystyw¬ na warstwa NiP o zawartosci 10% P i rezystancji 5,5, umieszcza sie w pojemniku zawierajacym roz¬ twór o skladzie: nadsiarczan amonowy — 1,0 M/l kwas siarkowy — 0,2 M/l 8-hydroksychinolina — 0,1 mM/1 Proces trawienia prowadzi sie w ciagu jednej go¬ dziny w temperaturze 50°C. Zregenerowane podlo¬ ze, po oplukaniu woda, ponownie przekazano do metalizacji. Uzyskane elementy wykazuja róznice sredniej rezystancji ponizej 10% od rezystancji zlozonej. Analogiczny proces trawienia w 20% roz¬ tworze HC1 na goraco trwal 5 godzin a wtórnie metalizowane elementy róznily sie wartosciami rezystancji ponad 50%.Przyklad II. Folie poliestrowa z naniesiona warstwa metaliczna, otrzymana w procesie niklo- -wania chemicznego, umieszcza sie w pojemniku zawierajacym roztwór o skladzie: w 15 20 nadsiarczan potasowy —0,15 M/l kwas siarkowy — 0,05 M/l 8-hydroksychinolina — 0,01 mM/1 Proces trawienia prowadzi sie w ciagu 8 godzin w temperaturze pokojowej. Analiza chemiczna roztworu po trawieniu wykazuje ubytek 0,001 M/l nadsiarczanu wskutek samorzutnego rozkladu, podczas gdy w kontrolnym roztworze bez inhibi¬ tora ubytek taki wynosi 0,012 M/l. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób regeneracji podlozy niemetalicznych dla niklowania chemicznego za pomoca wytrawiania usuwanych warstw niklu lub jego stopów roztwo¬ rem zawierajacym kwas mineralny, znamienny tym, ze dziala sie roztworem zawierajacym oprócz kwasu mineralnego o stezeniu 0,01—1,0 M/i, joaiy nadsiarczanowe o stezeniu 0,1—2,0 M/l oraz srodek inhibitujacy rozklad nadsiarczanu, korzystnie 8-hy- droksychinoline, w stezeniu 0,1—10 mM/1. PZGraf. Koszalin A-753 105 A-4 Cena 100 zl PL