PL116040B1 - Process for manufacturing concentrated fluoroboric acidof high purity - Google Patents
Process for manufacturing concentrated fluoroboric acidof high purity Download PDFInfo
- Publication number
- PL116040B1 PL116040B1 PL20852878A PL20852878A PL116040B1 PL 116040 B1 PL116040 B1 PL 116040B1 PL 20852878 A PL20852878 A PL 20852878A PL 20852878 A PL20852878 A PL 20852878A PL 116040 B1 PL116040 B1 PL 116040B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- acid
- fluoroboric
- boron fluoride
- reactor
- concentrated
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 claims description 22
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 3
- VNWHJJCHHGPAEO-UHFFFAOYSA-N fluoroboronic acid Chemical compound OB(O)F VNWHJJCHHGPAEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 229910004039 HBF4 Inorganic materials 0.000 description 11
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 11
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 5
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004770 HSO3F Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004072 SiFe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia stezonego kwasu fluoroborowego o wysokiej czystosci.Kwas fluoroborowy wytwarzany jest zazwyczaj przez dzialanie kwasem fluorowodorowym na kwas borowy, lub na bezwodnik kwasu borowe¬ go. Zachodzace reakcje przebiegaja wedlug sche¬ matów: H3BOs¦+ 4(HF • n H20) -? HBF4 + (3 + 4 n) H20 B2Os + 8 (HF • n HaO) -? 2 HBF4 + (3 + 8 n) HaO Stezenie uzyskiwanego kwasu fluoroborowego uza¬ leznione jest od stezenia uzytego kwasu fluoro¬ wodorowego. I tak na przyklad: stosujac kwas fluorowodorowy o stezeniu 70% uzyskuje sie w reakcji z kwasem borowym roztwory zawierajace okolo 50% HBF4, a w reakcji z bezwodnikiem, roztwory o zawartosci okolo 59% HBF4.Kwas fluoroborowy stosowany jest w kapielach galwanicznych, gdzie wymagana jest wysoka czy¬ stosc tego kwasu. Zawartosc zanieczyszczen takich jak Ca, Fe, Pb, Ni, Cr, S rzedu 10-8%.Uzyskanie kwasu fluoroborowego o tak wyso¬ kiej czystosci wymaga stosowania bardzo czyste¬ go kwasu borowego lub bezwodnika kwasu boro¬ wego i czystego kwasu fluorowodorowego. Oczy¬ szczanie tych substancji jest uciazliwe i wymaga licznych operacji.Kwas fluoroborowy moze w reakcji miedzy kwasem fluorkiem boru: powstawac równiez fluorowodorowym i 10 15 20 25 30 BF* + HF • n H20 - HBF4 + n HsO Z reakcji tej wynika, ze mozna w ten sposób uzyskac znacznie bardziej stezone roztwory HBF4.Stosujac kwas fluorowodorowy o stezeniu 30% HF uzyskamoby roztwór zawierajacy 65% HBF4.Przy 50% HF mozmatoy uzyskac 81% HBF4.Jednak silnie egzotermiczny przebieg reakcji utrudnia jej prowadzenie. Przy pochlanianiu ga¬ zowego fluorku boru w kwasie fluorowodorowym uklad reakcyjny dochodzi do stanu wrzenia, w którym to stanie BF3 przestaje byc pochlaniany, a HF ulega odpedzeniu. Wymagane jest tu in¬ tensywne chlodzenie, jednak wszystkie stosowane w technice metale i stopy ulegaja korozji w kwa¬ sie fluofoborowyni zanieczyszczajac roztwór W niedopuszczalnym Stopniu.Stosowanie elementów chlodzacych z tworzyw sztucznych takich jak: polipropylen czy poliety¬ len zabezpiecza przed zanieczyszczeniem roztworu, jednak ze wzgledu na niskie przewodnictwo cie¬ plne tych materialów stosunek powierzchni wy¬ miany ciepla do objetosci chlodzonej cieczy jest bardzo wysoki i praktycznie trudny do zrealizo¬ wania. Fluorek boru, jako gaZj nie zawiera za¬ nieczyszczen metalicznych jakie zAwierfc kwas bo- 116 0403 rowy, jednak zazwyczaj jest zanieczyszczony zwiazkami takimi jak SiF4, HSO3F, S03. Uzyskanie czystego kwasu fluoroborowego wymaga usuniecia tych skladników z gazowego fluorku boru.Celem wynalazku jest unikniecie podanych nie¬ dogodnosci, a zadaniem technicznym — opraco¬ wanie sposobu, za pomoca którego bedzie mozna otrzymac kwas fluoroborowy o wysokiej czy¬ stosci, na drodze reakcji miedzy kwasem fluoro¬ wodorowym a fluorkiem boru.Niespodziewanie stwierdzono, ze mozna rozwia¬ zac to zadanie, jezeli proces poprowadzi sie na¬ stepujaco: Do wytworzonego uprzednio stezonego kwasu fluoroborowego dodaje sie kwas fluorowodorowy w ilosci takiej, ze stezenie wolnego HF wynosi kilka procent i nie przekracza w zasadzie 10%.Nastepnie roztwór ten nasyca sie uprzednio oczy¬ szczonym gazowym fluorkiem boru az do zwia¬ zania calej ilosci HF. Cieplo reakcji odbierane jest przez duza ilosc roztworu przez co wzrost temperatury nie jest gwaltowny. Duza objetosc roztworu pozwala umiescic i rozwinac w nim do¬ statecznie duza powierzchnie wymiany ciepla, stosujac na elementy chlodzace materialy z two¬ rzyw sztucznych takich jak polietylen czy poli¬ propylen.Po przereagowaniu HF z BF3 wytworzony kwas fluoroborowy odprowadza sie jako gotowy pro¬ dukt, pozostawiajac w ukladzie reakcyjnym po¬ czatkowo znajdujaca sie w nim ilosc HBF4, po czym rozpoczyna sie ponowny cykl wytwarzania.Odpowiednia czystosc gazowa BF3 uzyskuje sie przez przemywanie tego gazu stezonym roztwo¬ rem kwasu hydroksyfluoroborowego.Fluorek boru rozpuszcza sie w wodzie, przy czym zachodzace tutaj wielokierunkowe reakcje, w przypadku uzyskiwania stezonych roztworów mozna przedstawic sumarycznie nastepujacym schematem BF3 + H20 -+ HBF8OH Stwierdzono, ze w roztworach, w których ste¬ zenie kwasu hydroksyfluoroborowego wynosi oko¬ lo 50% fluorek boru juz sie nie rozpuszcza, nato¬ miast w roztworach takich absorbuje sie towa¬ rzyszace mu zanieczyszczenia: HSOsF + H20 -+ HtS04 + HF S03 + H20 -+ HgSCU 3SiF4 + 2H.5O -+ 2H2SiF6 + Si02 W miare nagromadzania sie zanieczyszczen w kwa¬ sie hydroksyfluoroborowym, kwas ten stopniowo wycofuje sie i uzupelnia ciecz dodatkiem wody.Chwilowe obnizenie stezenia HBFjOH powoduje, ze przez pewien czas absorbowany jest w niej równiez fluorek boru. Po uzyskaniu stezenia w wysokosci okolo ,90%; BF8 przestaje sie rozpusz¬ czac, a w cieczy absorbowane sa tylko zanieczysz¬ czenia. Wycofany kwas hydroksyfluoroborowy moze byc przerobiony na fluorek boru na przy¬ klad przez oddestylowanie.Przedstawiony cykliczny sposób wytwarzania 040 4 kwasu fluoroborowego moze byc równiez prze¬ ksztalcony na sposób ciagly.W sposobie ciaglym do reaktora napelnionego ste¬ zonym kwasem fluoroborowym wprowadza sie* 5 równoczesnie kwas fluorowodorowy i oczyszczony uprzednio fluorek boru. Jednoczesnie z reaktora odbiera sie przelewem wytworzony HBF4 w ilos¬ ci równowaznej ilosciom wprowadzanych reagen¬ tów. Objetosc cieczy pozostajacej w reaktorze w jq stosunku do objetosci wytwarzanego w ciagu go¬ dziny kwasu fluoroborowego winna byc co naj- mmniej 2 razy wieksza.Sposób wedlug wynalazku jest dokladnie wy¬ jasniony na podstawie przykladu jego wykonania-. 15 a schemat stosowanych operacji przedstawiony jest na rysunku.Fluorek boru kieruje sie do kolumny z wypel¬ nieniem 1 zraszanej cyrkulujacym w obiegu kwa¬ sem hydroksyfluoroborowym podawanym ze zbiór- 20 nika 2 poprzez pompe 3. Przemyty i oczyszczony BF8 wprowadza sie do reaktora 4 wypelnionego kwasem fluoroborowym do którego dodawany jest. kwas fluorowodorowy. Reaktor 4 ochladzany jest poprzez wbudowane do niego chlodnice zasilane- 25 woda lub inna ciecza chlodzaca. Temperature w reaktorze utrzymuje sie w zakresie 30—50°C. Wy¬ tworzony kwas fluoroborowy odbiera sie z reak¬ tora okresowo lub w sposób ciagly. Cyrkulujacy w obiegu kwas hydroksyfluoroborowy stopniowo 30 wycofuje sie ze zbiornika 2 uzupelniajac okreso¬ wo obiegowa ciecz dodatkiem wody.Przyklad stosowania sposobu wedlug wynalazku..Do reaktora w którym znajdowalo sie 750 kg 65% HBF4 wprowadzono 150 kg 30% HF. Po wy- 35 mieszaniu ciecz zawierala 5% wolnego HF.Do kolumny zraszanej 90% HBFsOH wprowar dzono 154 kg gazowego BF8 zawierajacego 0,3 kgr S08 i 0,2 kg SiF4. Z kolumny odebrano 153 kg oczyszczonego BF8, który wprowadzono do reakto- 40 ra. Zawartosc reaktora zwiekszyla sie o 303 kg roz¬ tworu HBF4 o stezeniu 65%. Ilosc te odprowadzo¬ no z reaktora. Wyitworzomy kwas zawieral 0,003% H2S04 i 0,005% H^SiFe. 45 Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania stezonego kwasu fluoro¬ borowego o wysokiej czystosci, znamienny tym^ ze do reaktora zawierajacego wytworzony uprzed- 50 nio kwas fluoroborowy dodaje sie kwas fluoro¬ wodorowy w ilosci takiej, ze stezenie wolnego HF nie przekracza 10%, a nastepnie wprowadza sie i absorbuje w cieczy gazowy fluorek boru, oczysz¬ czony przedtem przez przemywanie stezonym roz- 15 tworem kwasu hydroksyfluoroborowego, az do zwiazania calej ilosci HF, chlodzi' sie reagujacy uklad za pomoca elementów wykonanych z two¬ rzyw sztucznych, po czym odprowadza- sie. wy¬ tworzony kwas fluoroborowyr pozostawiajac w re- II aktorze ilosc potrzebna do nastepnego cyklu. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze* kwas hydroksyfluoroborowy usuwa sie stopniowo^ w miare nagromadzenia sie w nim zanieczyszczen* usuwanych z fluorku boru 1 uzupelnia; ciecz do*- 6f datkiem wody.116 040 6 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze do reaktora napelnionego stezonym kwasem flu- oroborowym doprowadza sie równoczesnie kwas fluorowodorowy oraz oczyszczony uprzednio fluorek boru odprowadzajac przelewem z okreslo¬ nego poziomu wytworzony kwas fluoroborowy.HSFiOH PL
Claims (3)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania stezonego kwasu fluoro¬ borowego o wysokiej czystosci, znamienny tym^ ze do reaktora zawierajacego wytworzony uprzed- 50 nio kwas fluoroborowy dodaje sie kwas fluoro¬ wodorowy w ilosci takiej, ze stezenie wolnego HF nie przekracza 10%, a nastepnie wprowadza sie i absorbuje w cieczy gazowy fluorek boru, oczysz¬ czony przedtem przez przemywanie stezonym roz- 15 tworem kwasu hydroksyfluoroborowego, az do zwiazania calej ilosci HF, chlodzi' sie reagujacy uklad za pomoca elementów wykonanych z two¬ rzyw sztucznych, po czym odprowadza- sie. wy¬ tworzony kwas fluoroborowyr pozostawiajac w re- II aktorze ilosc potrzebna do nastepnego cyklu.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze* kwas hydroksyfluoroborowy usuwa sie stopniowo^ w miare nagromadzenia sie w nim zanieczyszczen* usuwanych z fluorku boru 1 uzupelnia; ciecz do*- 6f datkiem wody.116 040 6
- 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze do reaktora napelnionego stezonym kwasem flu- oroborowym doprowadza sie równoczesnie kwas fluorowodorowy oraz oczyszczony uprzednio fluorek boru odprowadzajac przelewem z okreslo¬ nego poziomu wytworzony kwas fluoroborowy. HSFiOH PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20852878A PL116040B1 (en) | 1978-07-18 | 1978-07-18 | Process for manufacturing concentrated fluoroboric acidof high purity |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20852878A PL116040B1 (en) | 1978-07-18 | 1978-07-18 | Process for manufacturing concentrated fluoroboric acidof high purity |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL208528A1 PL208528A1 (pl) | 1980-03-24 |
| PL116040B1 true PL116040B1 (en) | 1981-05-30 |
Family
ID=19990661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL20852878A PL116040B1 (en) | 1978-07-18 | 1978-07-18 | Process for manufacturing concentrated fluoroboric acidof high purity |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL116040B1 (pl) |
-
1978
- 1978-07-18 PL PL20852878A patent/PL116040B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL208528A1 (pl) | 1980-03-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101570318B (zh) | 一种生产电子级氢氟酸的方法 | |
| TWI485102B (zh) | Methods for the production of phosphorus pentafluoride and hexafluorophosphate | |
| JP6231427B2 (ja) | 高純度の硫酸溶液の調製方法 | |
| KR101842303B1 (ko) | 불소의 정제 방법 | |
| US4349524A (en) | Process for producing purified hydrochloric acid | |
| US5362461A (en) | Method for recovering calcium fluoride from fluoroetchant | |
| US5032371A (en) | Process for the continuous recovery of hydrogen fluoride gas | |
| CN115709973B (zh) | 一种正磷酸溶液生产高纯五氟化磷的方法 | |
| PL116040B1 (en) | Process for manufacturing concentrated fluoroboric acidof high purity | |
| US3584999A (en) | Manufacture of phosphorus pentafluoride | |
| CN107814362A (zh) | 一种从硝化废酸中回收硫酸的方法及装置 | |
| US3167391A (en) | Purification of anhydrous hydrogen fluoride | |
| CN111943142A (zh) | 一种高纯度无水氟化氢纯化工艺 | |
| CA2056241A1 (en) | Process for converting hexafluoroarsenic acid or any salt thereof to arsenic acid or salt thereof which can then be rendered nonhazardous | |
| JPS61151002A (ja) | フツ化水素酸の精製法 | |
| KR102833713B1 (ko) | 폐산 용액으로부터의 전자 등급 무기산의 제조 방법 | |
| JP4454223B2 (ja) | HBrをほとんど含まないHClガス及びHBrをほとんど含まないHCl水溶液の製造方法 | |
| KR101229593B1 (ko) | 동위체 농축 방법 | |
| US2805982A (en) | Preparation of boron trifluoride | |
| CN101219943A (zh) | 一种氯乙酸尾气净化及利用方法 | |
| US3773907A (en) | Process for the production of pure concentrated hf from impure fluosilicic acid | |
| US3310369A (en) | Process for producing anhydrous ammonium bifluoride from an aqueous solution of ammonium fluoride | |
| CN114684798A (zh) | 一种酮连氮法生产水合肼系统及工艺 | |
| KR100428905B1 (ko) | 삼불화 질소 합성 가스로부터 고 순도의 불화 칼륨을제조하는 방법 | |
| WO2005092786A1 (ja) | フッ化水素酸の精製法及び精製装置 |